CN110699755A - 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 - Google Patents
三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110699755A CN110699755A CN201810751854.1A CN201810751854A CN110699755A CN 110699755 A CN110699755 A CN 110699755A CN 201810751854 A CN201810751854 A CN 201810751854A CN 110699755 A CN110699755 A CN 110699755A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dimensional layered
- gageli
- preparing
- crystal
- ternary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000013021 overheating Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 13
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 abstract 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 abstract 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 abstract 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 12
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 12
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 101100069231 Caenorhabditis elegans gkow-1 gene Proteins 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 transition metal sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002525 ultrasonication Methods 0.000 description 1
- 238000009461 vacuum packaging Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/52—Alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B1/00—Single-crystal growth directly from the solid state
- C30B1/10—Single-crystal growth directly from the solid state by solid state reactions or multi-phase diffusion
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/60—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape characterised by shape
- C30B29/64—Flat crystals, e.g. plates, strips or discs
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本发明公开三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,以GaGeLi晶体为前驱体,分散于乙醇中,用氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理并避免浴缸和液体过热,水冷维持在20—25℃,再离心分离即可得到二维层状半导体材料2D‑GaGeLi。其光学带隙与剥离所得层数有关,层数越少,带隙越大。在光电器件、光催化等方面应用有具有较大的潜在性。
Description
技术领域
本发明属于新型二维材料的制备,更加具体地说,具体涉及由一种三元晶体得到二维材料的简单制备方法。
背景技术
二维层状金属材料,尤其是硫属化合物(2DLMCs),基于其超薄的结构而带来与体相材料不同的电子结构和光学性能,并存在量子效应,能谷效应等特殊的现象。而在石墨烯被发现后,二维材料得到了飞速探索与研发,其中类石墨烯结构且具有可调控带隙的二维层状过渡金属硫化合物(TMDCs:MoS2、WS2等),Ⅲ-Ⅳ族化合物(GeS、InSe等)及其相关的异质结成为近些年人们研究焦点之一。而相比于二元金属晶体,三元晶体的制备相对更困难,包括难以均匀共熔以及难以确定共熔点等问题,且在空气中不稳定,易被氧化,因而相关报道较少。2008年,UlrichHaussermann等人在总结前人工作基础上,通过电弧重熔制备了三元金属前驱体,并对其进行了氢化使其稳定,得到了四元晶体AeGaEH(Ae:Ca,Sr,Ba;E:Si,Ge,Sn),其中体相材料BaGaSiH更是具有0.6eV带隙。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,从三元晶体前驱体入手进而简单制备新型二维材料。
本发明的技术目的通过下述技术方案予以实现:
三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,按照下述步骤进行:按照等摩尔比将Ga、Ge、Li三种金属进行真空封装和处理以得到GaGeLi晶体,由20—25摄氏度在350—450min内升至1000—1100℃并维持1000—1200min再以0.5—3℃/min降温至20—25摄氏度;将GaGeLi晶体分散在乙醇中,使用惰性保护气氛进行脱气后进行密封,持续进行超声处理,同时采用水冷以维持温度20—25摄氏度,以避免超声处理过程中产生过热(如避免浴缸和液体过热),最后离心分离即可得到二维层状半导体材料2D-GaGeLi。
在上述技术方案中,将Ga、Ge、Li三种金属进行真空封装和处理时,真空度达到0.1MPa以下。
在上述技术方案中,由20—25摄氏度在380—400min内升至1000—1050℃并维持1100—1200min再以0.5—1℃/min降温至20—25摄氏度。
在上述技术方案中,惰性保护气氛为氮气、氦气或者氩气。
在上述技术方案中,使用惰性保护气氛进行脱气后以Teflon胶带密封。
在上述技术方案中,进行离心分离时,离心速率为3000~5000rmp。
在上述技术方案中,超声处理时间为5—20小时,优选10—15小时。
在上述技术方案中,将GaGeLi晶体分散在乙醇中,GaGeLi晶体的质量(mg)和乙醇的体积(ml)的比例为(1—5):1,优选(2—4):1。
相比于二元前驱体材料制备二维材料,在本发明技术方案中,以GaGeLi为前驱体,直接分散在乙醇溶剂中,超声后进行离心处理(剥离)得到了三元晶体的二维材料(即先制备三元前驱体,后溶液法制备二维材料)。该制备过程选用了三元晶体,所得新型二维材料具有良好的电学性能和光学性能。
附图说明
图1为本发明技术方案所得GaGeLi体相材料的扫描电镜图。
图2为本发明技术方案所得GaGeLi晶体的XRD图。
图3为本发明技术方案所得不同层数的紫外-可见吸收光谱图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明进行进一步的说明。下面给出本发明的实施例,是对本发明的进一步说明,而不是限制本发明的范围。
实例1
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi(粉料),依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温(20—25摄氏度)升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温(20—25摄氏度)。取60mg前驱体(即上述经过处理的三元GaGeLi)分散于装有15ml水的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,同时避免浴缸和液体过热,采用水冷以维持在20℃,室温下在3000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
实例2
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi,依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温。取60mg前驱体分散于装有15ml水的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,避免浴缸和液体过热,水冷维持在20℃,室温下在4000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
实例3
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi,依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温。取60mg前驱体分散于装有15ml水的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,避免浴缸和液体过热,水冷维持在20℃,室温下在5000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
实例4
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi,依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温。取60mg前驱体分散于装有15mlNMP的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,避免浴缸和液体过热,水冷维持在20℃,室温下在3000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
实例5
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi,依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温。取60mg前驱体分散于装有15mlDMF的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,避免浴缸和液体过热,水冷维持在20℃,室温下在3000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
实例6
手套箱中依次称取10mmolGa、10mmolGe和10mmolLi,依次加入石英管中,使用真空熔封装装置进行熔封,真空管式炉中进行烧结,400min由常温升至1000℃,维持1200min后,以0.5℃/min降温至常温。取60mg前驱体分散于装有15ml乙醇的20ml透明玻璃瓶中,氩气脱气后以Teflon胶带密封,超声处理12h,避免浴缸和液体过热,水冷维持在20℃,室温下在3000rmp的台式离心机中离心20min得到2D-GaGeLi层状材料。
以实施例6制备材料为例,如附图1—3所示,采用本发明技术方案成功制备2D-GaGeLi层状材料,使用紫外-可见吸收光谱中对不同层数进行了光学带隙测定,未进行任何处理(即超声离心剥离)的GaGeLi几乎不存在带隙,随层数逐渐减少,带隙逐渐增大,增大离心速率,得到单层GaGeLi,存在0.48eV带隙。
采用本发明内容的工艺参数均可实现二维材料的制备,且表现出基本一致的性能。以上对本发明做了示例性的描述,应该说明的是,在不脱离本发明的核心的情况下,任何简单的变形、修改或者其他本领域技术人员能够不花费创造性劳动的等同替换均落入本发明的保护范围。
Claims (8)
1.三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,按照下述步骤进行:按照等摩尔比将Ga、Ge、Li三种金属进行真空封装和处理以得到GaGeLi晶体,由20—25摄氏度在350—450min内升至1000—1100℃并维持1000—1200min再以0.5—3℃/min降温至20—25摄氏度;将GaGeLi晶体分散在乙醇中,使用惰性保护气氛进行脱气后进行密封,持续进行超声处理,同时采用水冷以维持温度20—25摄氏度,以避免超声处理过程中产生过热,最后离心分离即可得到二维层状半导体材料2D-GaGeLi。
2.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,将Ga、Ge、Li三种金属进行真空封装和处理时,真空度达到0.1MPa以下。
3.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,由20—25摄氏度在380—400min内升至1000—1050℃并维持1100—1200min再以0.5—1℃/min降温至20—25摄氏度。
4.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,惰性保护气氛为氮气、氦气或者氩气。
5.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,使用惰性保护气氛进行脱气后以Teflon胶带密封。
6.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,进行离心分离时,离心速率为3000~5000rmp。
7.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,超声处理时间为5—20小时,优选10—15小时。
8.根据权利要求1所述的三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法,其特征在于,将GaGeLi晶体分散在乙醇中,GaGeLi晶体的质量(mg)和乙醇的体积(ml)的比例为(1—5):1,优选(2—4):1。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810751854.1A CN110699755B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810751854.1A CN110699755B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110699755A true CN110699755A (zh) | 2020-01-17 |
CN110699755B CN110699755B (zh) | 2022-04-05 |
Family
ID=69192749
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810751854.1A Active CN110699755B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110699755B (zh) |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102838093A (zh) * | 2011-06-21 | 2012-12-26 | 中国科学院理化技术研究所 | LiGaGe2Se6化合物、LiGaGe2Se6非线性光学晶体及制法和用途 |
CN103288058A (zh) * | 2012-02-27 | 2013-09-11 | 中国科学院理化技术研究所 | Li2In2GeSe6化合物、Li2In2GeSe6非线性光学晶体及制法和用途 |
CN103692763A (zh) * | 2013-12-06 | 2014-04-02 | 深圳先进技术研究院 | 一种二维层状纳米材料的剥离方法 |
CN104762660A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-08 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种具有二维片层结构的碳化物晶体材料及其制备方法 |
US20160196893A1 (en) * | 2015-01-05 | 2016-07-07 | National Chiao Tung University | Method for preparing two-dimensional material |
CN105753041A (zh) * | 2016-02-03 | 2016-07-13 | 上海工程技术大学 | 一种LiGaGe2S6化合物和LiGaGe2S6非线性光学晶体及制备方法与应用 |
CN105800545A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-07-27 | 北京化工大学 | 一种剥离制备二维材料的方法 |
CN106495221A (zh) * | 2016-10-21 | 2017-03-15 | 河南师范大学 | 一种单层二硫化钼纳米片的制备方法 |
CN108033487A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-05-15 | 浙江大学 | 一种采用液相剥离法制备二维纳米片材料的方法 |
-
2018
- 2018-07-10 CN CN201810751854.1A patent/CN110699755B/zh active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102838093A (zh) * | 2011-06-21 | 2012-12-26 | 中国科学院理化技术研究所 | LiGaGe2Se6化合物、LiGaGe2Se6非线性光学晶体及制法和用途 |
CN103288058A (zh) * | 2012-02-27 | 2013-09-11 | 中国科学院理化技术研究所 | Li2In2GeSe6化合物、Li2In2GeSe6非线性光学晶体及制法和用途 |
CN103692763A (zh) * | 2013-12-06 | 2014-04-02 | 深圳先进技术研究院 | 一种二维层状纳米材料的剥离方法 |
US20160196893A1 (en) * | 2015-01-05 | 2016-07-07 | National Chiao Tung University | Method for preparing two-dimensional material |
CN104762660A (zh) * | 2015-04-13 | 2015-07-08 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种具有二维片层结构的碳化物晶体材料及其制备方法 |
CN105753041A (zh) * | 2016-02-03 | 2016-07-13 | 上海工程技术大学 | 一种LiGaGe2S6化合物和LiGaGe2S6非线性光学晶体及制备方法与应用 |
CN105800545A (zh) * | 2016-03-18 | 2016-07-27 | 北京化工大学 | 一种剥离制备二维材料的方法 |
CN106495221A (zh) * | 2016-10-21 | 2017-03-15 | 河南师范大学 | 一种单层二硫化钼纳米片的制备方法 |
CN108033487A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-05-15 | 浙江大学 | 一种采用液相剥离法制备二维纳米片材料的方法 |
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
ELIZABETH M. SEIBEL ET AL.: "Gold − Gold Bonding: The Key to Stabilizing the 19-Electron Ternary Phases Ln AuSb ( Ln = La−Nd and Sm)", 《J. AM. CHEM. SOC.》 * |
FREDERICK CASPER ET AL.: ""Semiconducting half-Heusler and LiGaGe structure type compounds"", 《PHYS. STATUS SOLIDI A》 * |
LAURENT SPINA ET AL.: "Compositional and structural variations in the ternary system Li-Al-Si", 《Z. KRISTALLOGR.》 * |
VON W. BOCKELMANN UND H.-U. SCHUST: "TernSre Phasen im Dreistoffsystem lithium-Gallium-Germanium", 《Z. ANORG. ALLG. CHEM.》 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110699755B (zh) | 2022-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106365135B (zh) | 一种高产率黑磷量子点的制备方法及其应用 | |
CN107868981B (zh) | 一种金属铂的半金属化合物及其制备方法 | |
WO2020252841A1 (zh) | 一种过渡金属硫族化合物薄层材料及其制备方法和应用 | |
BR112020021583A2 (pt) | eletrólito sólido à base de lgps, bateria de estado totalmente sólido, e, método para produzir o eletrólito sólido à base de lgps. | |
US9472401B2 (en) | Molybdenum disulfide film formation and transfer to a substrate | |
Lu et al. | Controllable sliding transfer of wafer‐size graphene | |
CN105839072B (zh) | 一种化学气相沉积制备二硫化铼薄膜的方法 | |
EP4026679A1 (en) | Method for preparing thermally conductive interface material | |
CN107620122B (zh) | 一种金属铂的半金属化合物及其制备方法 | |
CN113026096B (zh) | 一种二维半导体材料SnSe2单晶的制备方法 | |
CN107620123B (zh) | 一种金属铂的半金属化合物的制备方法 | |
WO2009122936A1 (ja) | 石英ガラスルツボとその製造方法 | |
CN110699755A (zh) | 三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 | |
TWI644854B (zh) | 一種金屬鉑的半金屬化合物的製備方法 | |
CN108190960B (zh) | 一种基于电解液溶剂热插锂剥离制备单层二硫化钼的方法 | |
CN112299383B (zh) | 一种三元原子晶体剥离制备二维层状材料的方法 | |
CN113770371A (zh) | 一种高产量、小粒径的银纳米颗粒的制备方法 | |
CN110371935A (zh) | 一种新型二维三元化合物的制备方法及纳米片 | |
CN105789030A (zh) | 一种少层三氧化钼二维原子晶体的制备方法 | |
CN111441080A (zh) | 一种In2Te5单晶及其制备方法、In2Te5单晶薄膜及其制备方法与应用 | |
CN110713172B (zh) | 一种三元金属原子晶体氢化制备二维材料的方法 | |
CN106243583A (zh) | 表面修饰非晶碳/碳纳米管‑聚偏氟乙烯高介电复合材料 | |
CN113035692A (zh) | 一种超宽禁带二维半导体GaPS4的制备方法 | |
CN108726557A (zh) | 一种氟化锗化氢二维材料及制备方法 | |
CN110697662B (zh) | 二维材料前驱体氢化制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |