CN110581161B - 一种显示面板及制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及制作方法，其中，所述显示面板，包括：基板，以及与所述基板相对设置的封盖层；复合阴极结构，位于所述基板和所述封盖层之间，所述复合阴极结构包括：阴极层，贴附在所述阴极层靠近所述基板一侧的第一膜层，贴附在所述阴极层远离所述基板一侧的第二膜层，其中，所述第一膜层和所述第二膜层之间设置有多个柱状结构，和/或，所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧设置有多个凹槽结构。用于解决现有显示面板的稳定性较差，使用寿命较短的技术问题。

Description

一种显示面板及制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及制作方法。

背景技术

目前，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电激光显示)通常采用微腔结构来调整光色和增大发光效率。其中，微腔结构中常用的阴极由银金属、镁银合金、铝银合金、金金属等材料形成相应的薄层。

然而，阴极薄层因为表面能较高，很容易聚合成团簇状(即团簇现象)。其中，理想状态下阴极薄层其表面光滑、平整、无孔洞和凸起。对于膜层表面的光滑平整或者团簇现象的判定，具体可以通过扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope，即SEM)观察相应膜层表面的形貌来清楚分辨，也可以利用原子力显微镜(Atomic Force Microscope，即AFM)测试相应膜层的粗糙度反应团簇现象的严重程度。如图1所示为通过SEM观察阴极薄层为银时在白玻璃上的形貌图。其中，以1埃每秒的速率将银薄层镀在白玻璃上，所镀的银极薄层厚度为100埃。由于聚合的薄层对传电子性能以及OLED器件稳定性有较大的负面影响，致使OLED器件的驱动电压增大，从而降低OLED器件的使用寿命。

可见，现有显示面板的稳定性较差，使用寿命较短。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板及制作方法，用于解决现有显示面板的稳定性较差，使用寿命较短的技术问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

基板，以及与所述基板相对设置的封盖层；

复合阴极结构，位于所述基板和所述封盖层之间，所述复合阴极结构包括：阴极层，贴附在所述阴极层靠近所述基板一侧的第一膜层，贴附在所述阴极层远离所述基板一侧的第二膜层，其中，所述第一膜层和所述第二膜层之间设置有多个柱状结构，和/或，所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧设置有多个凹槽结构。

可选地，所述柱状结构的高度小于或等于所述阴极层的厚度。

可选地，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述柱状结构在所述显示区的分布密度小于所述柱状结构在所述非显示区的分布密度。

可选地，所述柱状结构包括第一柱状结构和第二柱状结构，所述第一柱状结构位于所述显示区，所述第二柱状结构位于所述非显示区；

所述第一柱状结构在与所述基板所在平面平行的第一平面上的截面面积，大于或等于所述第二柱状结构在所述第一平面上的截面面积。

可选地，所述柱状结构的中心轴与所述第一膜层所在平面间的夹角范围大于0°，且小于等于90°。

可选地，所述阴极层材料包括银金属、镁银合金、铝银合金以及金金属中的一种或多种。

可选地，所述第一膜层的厚度小于或者等于20nm。

可选地，所述第二膜层的厚度小于或者等于50nm。

可选地，所述第一膜层的材料包括N型半导体、金属、石墨烯中的一种或多种。

可选地，所述第二膜层的材料包括N型半导体、金属、石墨烯中的一种或者多种。

可选地，所述柱状结构的材料包括N型半导体、金属以及石墨烯中的一种或多种。

可选地，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述凹槽结构在所述显示区的分布密度小于所述凹槽结构在所述非显示区的分布密度。

可选地，所述凹槽结构包括第一凹槽结构和第二凹槽结构，所述第一凹槽结构位于所述显示区，所述第二凹槽结构位于所述非显示区；

所述第一凹槽结构在与所述基板所在平面平行的第二平面上的截面面积，大于或者等于所述第二凹槽结构在所述第二平面上的截面面积。

第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种如上所述的显示面板的制作方法，包括：

在所述基板和所述封盖层之间形成包括所述第一膜层、所述阴极层、所述第二膜层的所述复合阴极结构；其中，多个柱状结构形成在所述第一膜层和所述第二膜层之间，和/或，多个凹槽结构形成在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧。

可选地，所述方法包括：

采用掩膜版以及蒸镀方式在所述第一膜层和所述第二膜层之间形成间隔排布的所述多个柱状结构。

可选地，所述方法包括：

采用光刻在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧形成间隔排布的所述多个凹槽结构。

本发明的有益效果如下：

在本发明实施例的技术方案中，分别在阴极层靠近基板一侧贴附第一膜层，在阴极层远离基板一侧贴附第二膜层，并在第一膜层和第二膜层之间设置的多个柱状结构，和/或，在第一膜层靠近阴极层的一侧设置多个凹槽结构，这样的话，多个立柱结构结合该第一膜层和第二膜层间的夹力，便可以使得两膜层之间的阴极层更为平整。此外，多个凹槽结构结合该第一膜层和第二膜层间的夹力，也可以使得两膜层之间的阴极层更为平整。如此一来，提高了显示面板的稳定性以及使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例。

图1为通过SEM观察阴极薄层为银时在白玻璃上的形貌图；

图2为本发明实施例提供的显示面板包括多个柱状结构的其中一种结构示意图；

图3为本发明实施例提供的显示面板包括多个凹槽结构的其中一种结构示意图；

图4为本发明实施例提供的显示面板的其中一种区域划分示意图；

图5-图7为本发明实施例提供的显示面板中柱状结构在平行于基板所在平面平行方向上的截面形状分别为矩形、三角形以及圆形时的俯视图；

图8为本发明实施例提供的显示面板中柱状结构为圆柱时柱状结构在显示面板上分布的其中一种俯视图；

图9为本发明实施例提供的显示面板中柱状结构为四棱柱时柱状结构在显示面板上分布的其中一种俯视图；

图10为本发明实施例提供的显示面板中柱状结构为三棱锥时在柱状结构在显示面板上分布的其中一种俯视图；

图11为本发明实施例提供的显示面板中柱状结构的中心轴与第一膜层所在的平面间的夹角为60°时显示面板的其中一种结构示意图；

图12为本发明实施例提供的显示面板中凹槽结构在第一膜层上分布的其中一种侧视图；

图13为本发明实施例提供的显示面板中凹槽结构在第一膜层上分布的另外一种侧视图；

图14为本发明实施例提供的显示面板中第一凹槽结构和第二凹槽结构在第一膜层上分布的另外一种侧视图；

图15为本发明实施例提供的显示面板的另外一种结构示意图。

具体实施方式

本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的“第一”、“第二”等是用于区别不同对象，而不是用于描述特定顺序。此外，术语“包括”以及它们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

应当理解，下面所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。并且，附图中各部件的形状和大小不反应真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

为了更好的理解上述技术方案，下面通过附图以及具体实施例对本发明技术方案做详细的说明，应当理解本发明实施例以及实施例中的具体特征是对本发明技术方案的详细的说明，而不是对本发明技术方案的限定，在不冲突的情况下，本发明实施例以及实施例中的技术特征可以相互结合。

现有OLED器件通常由阳极层、发光层和阴极层组成，根据发光面不同可以分为底发射和顶发射和以及两面发射三种，由于顶发射OLED器件可以获得更大的开口率，使得由顶发射器件构成的OLED显示面板的光透光率更高而被广泛使用。此外，顶发射OLED器件由于较强的微腔效应，对发光颜色具有较强的选择性，在顶发射OLED器件的制备过程中，为了削弱或抑制微腔效应，通常增大阴极的透光率。而为了增大阴极的透光率，通常采用较薄的阴极。

请参考图2，本发明实施例提供的一种显示面板，该显示面板包括：

基板10，以及与基板10相对设置的封盖层20；

在本发明实施例中，基板10具体为用于支撑其上功能层的衬底，基板10可以是硅基板，还可以是玻璃基板，本领域技术人员可以根据实际需要来选择相应的基板10。在具体实施过程中，封盖层20用于保护功能层，并提高出光效率，封盖层20可以是玻璃盖板，也可以是采用有机材料和无机材料结合的薄膜结合层结构，其中，有机材料可以是聚对二甲苯，无机材料可以是氮化硅、二氧化硅等。

复合阴极结构30，位于基板10和封盖层20之间，复合阴极结构30包括：阴极层300，贴附在阴极层300靠近基板10一侧的第一膜层301，贴附在阴极层300远离基板10一侧的第二膜层302，其中，第一膜层301和第二膜层302之间设置有多个柱状结构303，和/或，第一膜层301靠近阴极层300的一侧设置有多个凹槽结构304。需要说明的是，第一膜层301以及第二膜层302分别与阴极层300直接接触。如图2所示为第一膜层301和第二膜层302之间设置有多个柱状结构303对应的显示面板的结构示意图。如图3所示为第一膜层301设置凹槽结构304对应的显示面板的结构示意图。

在本发明实施例中，复合阴极结构30主要起到阴极的作用。通过将阴极设置为多层膜层结构，具体的，在阴极层300靠近基板10一侧贴附第一膜层301，在阴极层300远离基板10一侧贴附第二膜层302，并在第一膜层301和第二膜层302之间设置多个柱状结构303，和/或，在第一膜层301靠近阴极层300的一侧设置多个凹槽结构304，通过在第一膜层301和第二膜层302之间形成夹力，并通过多个柱状结构303和/或多个凹槽结构304破坏阴极薄层间的聚合，从而使得两膜层之间的阴极层300更为平整，从而提高了显示面板的稳定性以及使用寿命。

在本发明实施例中，第一膜层301的材料选用N型半导体、金属、石墨烯中的一种或多种。第二膜层302的材料选用N型半导体、金属、石墨烯中的一种或多种。柱状结构303的材料选用N型半导体、金属、石墨烯中的一种或多种。其中，N型半导体包括二氧化钛TiO₂、氧化锡SnO₂等。由于N型半导体、金属、石墨烯等材料传输电子的优良特性，从而提高了复合阴极结构30的电子传输效率。在具体实施过程中，第一膜层301、第二膜层302材料和柱状结构303的材料彼此间可以是相同的，也可以是不同的。具体可以是如下几种，但又不仅限于以下几种。第一种具体为：第一膜层301的材料为N型半导体，第二膜层302的材料为N型半导体，柱状结构303的材料为N型半导体；第二种具体为：第一膜层301的材料为金属，第二膜层302的材料为金属，柱状结构303的材料为金属；第三种具体为：第一膜层301的材料为金属，第二膜层302的材料为N型半导体，柱状结构303的材料为金属；当然，本领域技术人员可以根据实际需要来选用材料来设置第一膜层301、第二膜层302、柱状结构303，在此就不再详述。在现有技术中，由于阴极层300自身材料特性导致的团簇现象。

在本发明实施例中，利用阴极层300两侧的第一膜层301和第二膜层302之间的夹力，并结合两膜层之间的多个柱状结构303，由于柱状结构303的微分平坦化，通过在两膜层之间增设较多柱状结构303，可以在一定程度上提高阴极层300表面形貌的平整性，从而破坏阴极层300的团簇现象，提高了显示面板的稳定性。

此外，在具体实施过程中，利用阴极层300两侧的第一膜层301和第二膜层302之间的夹力，并结合第一膜层301靠近阴极层300一侧的多个凹槽结构304，由于阴极层300通过凹槽结构304与第一膜层301之间具有较强的抓附力，从而破坏阴极层300的团簇现象，提高了显示面板的稳定性。

在本发明实施例中，为了提高显示面板的稳定性，阴极层300的材料，与第一膜层301和第二膜层302的材料均不相同。即，在阴极层300材料为含有银金属的材料时，第一膜层301和第二膜层302的材料为不含银金属的材料，第一膜层301和第二膜层302其表面的粗糙度小于阴极层300的粗糙度，如此一来，在阴极层300表面所添加的第一膜层301和第二膜层302团簇现象不明显，即，第一膜层301和第二膜层302团簇现象轻于阴极层300，从而提高了显示面板的稳定性。

在本发明实施例中，为了在提高显示面板稳定性的同时，降低对复合阴极结构30的制作工艺成本，柱状结构303的高度小于或者等于阴极层300的厚度。其中，在柱状结构303的高度小于阴极层300的厚度时，柱状结构303靠近第二膜层302的一端与第二膜层302之间存在一定的间距，柱状结构303不与第二膜层302直接接触。在柱状结构303的高度等于阴极层300的厚度时，柱状结构303与第二膜层302直接接触。在具体实施过程中，柱状结构303的高度越接近阴极层300的厚度，则阴极层300的表面越平整，粗糙度越低，阴极层300的团簇现象越不明显。可选的，柱状结构303与第一膜层301直接接触。

在本发明实施例中，如图4所示为显示面板的其中一种区域划分示意图，具体来讲，显示面板包括显示区A和围绕该显示区A的非显示区B，显示区A可以用来显示图像，非显示区B可以用来设置与显示面板连接的信号走线等。为了提高显示面板的显示效果，柱状结构303在显示区A的单位面积的分布数量(即分布密度)小于柱状结构303在非显示区B的单位面积的分布数量(即分布密度)。在具体实施过程中，由于蒸镀阴极层300的过程中，受限于制作工艺，往往膜层中心区域均匀性较好，膜层边缘区域厚度不均匀。此外，柱状结构303的分布密度越大，其相应位置处的膜层的平整度越高。由于显示区A更靠近膜层中心区域，将柱状结构303在显示区A的分布密度小于柱状结构303在非显示区B的分布密度，从而破坏了膜层边缘区域的聚合，提高了膜层边缘区域的平整性，从而保证了显示面板的显示均匀性。比如，在每个柱状结构303为同一尺寸大小且相同结构时，柱状结构303分布在显示区A的数目小于柱状结构303分布在非显示区B的数目。

在本发明实施例中，为了实现复合阴极结构30的多样化设计，柱状结构303在平行于基板10所在平面平行方向上的截面形状包括矩形、三角形以及圆形中的一种或多种。如图5-图7所示分别为柱状结构303在平行于基板10所在平面平行方向上的截面形状分别为矩形、三角形以及圆形时的俯视图。在同一显示面板中，在显示区A和非显示区B的柱状结构303的截面形状可以是不同尺寸相同截面，还可以是相同尺寸不同形状，还可以是不同尺寸不同形状。当然，本领域技术人员可以根据实际需要选用不同形状的柱状结构303，在此就不再详述了。

在本发明实施例中，柱状结构303包括第一柱状结构3031和第二柱状结构3032，其中，第一柱状结构3031位于显示区A，第二柱状结构3032位于非显示区B。第一柱状结构3031在与基板10所在平面平行的第一平面上的截面面积，大于或者等于第二柱状结构3032在该第一平面上的截面面积。比如，分别分布在显示区A和非显示区B的柱状结构303在为相同形状的结构时，单位面积内，分布在显示区A内的柱状结构303的尺寸较大且数量少，分布在非显示区B内的柱状结构303的尺寸较小且数量多。在具体实施过程中，对于相同形状大小的柱状结构303，其数量越多，阴极层300的平整度越高，从而破坏了膜层边缘区域的聚合，提高了膜层边缘区域的平整性，从而保证了显示面板的显示均匀性。如图8所示为柱状结构303为圆柱时，柱状结构303在显示面板上分布的其中一种俯视图。如图9所示为柱状结构303为四棱柱时，柱状结构303在显示面板上分布的其中一种俯视图。如图10所示为柱状结构303为三棱锥时，柱状结构303在显示面板上分布的其中一种俯视图。

在本发明实施例中，为了在保证阴极层300平整性的同时，实现复合阴极结构30的多样化设计，柱状结构303的中心轴与第一膜层301所在平面间的夹角范围大于0°，且小于等于90°，从而提高了第一膜层301与第二膜层302之间的夹力，保证了第二膜层302的平整性，有效改善了阴极层300的团簇现象。如图11为柱状结构303的中心轴与第一膜层301所在平面间的夹角为60°时显示面板的结构示意图；在具体实施过程中，为了简化复合阴极结构30的制作工艺，优选将柱状结构303的中心轴与第一膜层301所在平面间的夹角设置为90°，即柱状结构303垂直于第一膜层301设置，本领域技术人员可以根据实际需要设置柱状结构303与第一膜层301之间的位置关系，在此就不再详述。

在本发明实施例中，阴极层300材料包括银金属、镁银合金、铝银合金以及金属中的一种或多种，从而在避免阴极层300团簇现象的同时，保证了显示面板的发光效率，提高了显示面板的稳定性以及使用寿命。

在本发明实施例中，为了提高复合阴极结构30在可见光范围内的透过率，第一膜层301的厚度小于或者等于20nm，第二膜层302的厚度小于或者等于50nm，从而保证该透过率在80％左右，提高了显示面板的显示效果。

在本发明实施例中，第一膜层301和第二膜层302在电学方面主要用于调节阴极层300的能级与电子传输层更加匹配，从而实现更好的传电子能力。第一膜层301和第二膜层302在光学方面，通过调节这两个膜层的厚度还能起到调节光色和增大发光效率的作用。

在本发明实施例中，为了提高复合阴极结构30的多样化设计，第一膜层301靠近阴极层300的一侧设置有多个凹槽结构304。凹槽结构304的凹槽深度小于或者等于第一膜层301的膜层厚度，凹槽结构304的槽口朝向第二膜层302的方向。此外，凹槽结构304具体为在第一膜层301上所开设的槽形结构。

在本发明实施例中，为了实现复合阴极结构30的多样化设计，凹槽结构304在平行于基板10所在平面平行方向上的截面形状包括矩形、三角形以及圆形中的一种或多种。当然，本领域技术人员可以根据实际需要选用不同形状的凹槽结构304，在此就不再详述了。

在具体实施过程中，凹槽结构304在显示区A的分布密度(在单位面积上的分布数量)小于凹槽结构304在非显示区B的分布密度(在单位面积上的分布数量)。在具体实施过程中，对于相同形状的凹槽结构304，其数量越多，阴极层300的平整度越高，膜层边缘区域的平整性越好，显示面板的显示均匀性越好。比如在每个凹槽结构304为尺寸大小相同的同一形状结构时，单位面积内凹槽结构304分布在显示区A的数目小于凹槽结构304分布在非显示区B的数目。如图12所示为凹槽结构304在第一膜层301上分布的其中一种侧视图。如图13所示为凹槽结构304在第一膜层301上分布的另外一种侧视图。

在本发明实施例中，凹槽结构304包括第一凹槽结构3041和第二凹槽结构3042，第一凹槽结构3041位于显示区A，第二凹槽结构3042位于非显示区B；第一凹槽结构3041在基板10所在平面平行的第二平面上的截面面积，大于或者等于第二凹槽结构3042在第二平面上的截面面积。比如分别分布在显示区A和非显示区B的凹槽结构304在为相同形状的结构时，单位面积内，分布在显示区A内的柱状结构303的尺寸较大且数量少，分布在非显示区B内的凹槽结构304的尺寸较小且数量多。如图14所示为第一凹槽结构3041和第二凹槽结构3042在第一膜层301上分布的其中一种侧视图。

在本发明实施例中，如图15所示，该显示面板还包括位于基板10和复合阴极结构30之间的阳极层40、空穴传输层50、发光层60、电子传输层70。其中，阳极层40与显示面板外加驱动电压的正极相连，阳极中的空穴会在外加驱动电压的驱动下向显示面板中的发光层60移动。空穴传输层50用于将来自阳极的空穴运输到发光层60。电子传输层70用于将来自阴极层的电子传输到显示面板的发光层60。发光层60为电子和空穴再结合形成激子然后激子退激发光的地方。可选的，当柱状结构和/或凹槽结构在显示区内分布时，分别位于像素的发光区之外。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种上述显示面板的制作方法，由于该制作方法解决问题的原理与前述一种显示面板相似，因此该制作方法的实施可以参见显示面板的实施，重复之处不再赘述。

具体来讲，在所述基板和所述封盖层之间形成包括所述第一膜层、所述阴极层、所述第二膜层的所述复合阴极结构；其中，多个柱状结构形成在所述第一膜层和所述第二膜层之间，和/或，多个凹槽结构形成在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧。

在本发明实施例中，具体采用掩膜版以及蒸镀方式在所述第一膜层和所述第二膜层之间形成间隔排布的所述多个柱状结构。在具体实施过程中，先利用普通掩膜版并结合蒸镀的方法完整第一膜层的制备，然后在第一膜层上利用高精度金属掩膜版(一)并结合蒸镀方法完成多个柱状结构的制备；然后，在第一膜层上利用与高精度金属掩膜版(一)互补的高精度金属掩膜版(二)完成阴极层的制备；然后，在阴极层上用普通掩膜版结合蒸镀的方法完成第二膜层的制备。其中，柱状结构的形状可以根据掩膜版的开孔形状来设定。

在本发明实施例中，具体采用光刻在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧形成间隔排布的所述多个凹槽结构。具体来讲，首先经过薄膜沉积形成所述第一膜层，然后光刻胶涂布在所述第一膜层上。然后通过曝光过程，由紫外线通过掩膜版照射光刻胶，使掩膜版上的图形转印到光刻胶上。然后经过显影、刻蚀和光刻胶剥离在所述第一膜层上形成所述凹槽结构。此外，对于所述第一膜层的形成过程还可以通过蒸镀的方式或者喷墨打印的方式形成，当然，本领域技术人员可以根据实际需要来形成所述第一膜层，在此就不再详述了。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (15)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板，以及与所述基板相对设置的封盖层；

复合阴极结构，位于所述基板和所述封盖层之间，所述复合阴极结构包括：

阴极层，贴附在所述阴极层靠近所述基板一侧的第一膜层，贴附在所述阴极层远离所述基板一侧的第二膜层，所述第一膜层和所述第二膜层之间设置有多个柱状结构，其中，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述柱状结构在所述显示区的分布密度小于所述柱状结构在所述非显示区的分布密度，和/或，所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧设置有多个凹槽结构。

2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述柱状结构的高度小于或等于所述阴极层的厚度。

3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述柱状结构包括第一柱状结构和第二柱状结构，所述第一柱状结构位于所述显示区，所述第二柱状结构位于所述非显示区；

所述第一柱状结构在与所述基板所在平面平行的第一平面上的截面面积，大于或等于所述第二柱状结构在所述第一平面上的截面面积。

4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述柱状结构的中心轴与所述第一膜层所在平面间的夹角范围大于0°，且小于等于90°。

5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阴极层材料包括银金属、镁银合金、铝银合金以及金金属中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层的厚度小于或者等于20nm。

7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二膜层的厚度小于或者等于50nm。

8.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一膜层的材料包括N型半导体、金属、石墨烯中的一种或多种。

9.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二膜层的材料包括N型半导体、金属、石墨烯中的一种或者多种。

10.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述柱状结构的材料包括N型半导体、金属以及石墨烯中的一种或多种。

11.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述凹槽结构在所述显示区的分布密度小于所述凹槽结构在所述非显示区的分布密度。

12.如权利要求11所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽结构包括第一凹槽结构和第二凹槽结构，所述第一凹槽结构位于所述显示区，所述第二凹槽结构位于所述非显示区；

所述第一凹槽结构在与所述基板所在平面平行的第二平面上的截面面积，大于或者等于所述第二凹槽结构在所述第二平面上的截面面积。

13.一种如权利要求1-12任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

在所述基板和所述封盖层之间形成包括所述第一膜层、所述阴极层、所述第二膜层的所述复合阴极结构；多个柱状结构形成在所述第一膜层和所述第二膜层之间，其中，所述柱状结构在所述显示区的分布密度小于所述柱状结构在所述非显示区的分布密度，和/或，多个凹槽结构形成在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

采用掩膜版以及蒸镀方式在所述第一膜层和所述第二膜层之间形成间隔排布的所述多个柱状结构。

15.如权利要求13所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

采用光刻在所述第一膜层靠近所述阴极层的一侧形成间隔排布的所述多个凹槽结构。

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