CN110551890A - 一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其包括机架,其特征在于:机架的两侧设置有传输板,传输板上设置有传输组件,机架上间隔设置有清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件,金属板材通过传输组件在机架内水平移动且分别通过清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件进行处理;等离子体发生喷淋组件包括有上下对应设置的上等离子体发生器和下等离子体发生器,上等离子体发生器的下部连接有多个上喷射头,下等离子体发生器的上部对应设置有多个所下喷射头,上喷射头和下喷射头之间用于金属板材的通过。本发明具有加工效率,金属表面处理效果好,延长产品的使用寿命等优点。
Description
技术领域
本发明涉及金属材料表面处理技术领域,具体为一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构。
背景技术
金属原材料在生产加工之前通常需要进行多种工艺进行表面处理,使得金属在之后的加工使用中增加多种特性,如耐磨损、耐腐蚀、耐氧化等,从而延长其使用寿命;现有的表面加工通常采用刷漆、镀层等工序进行处理,这些方法或简单,使用效果不好;或复杂,增加加工成本。
发明内容
本发明旨在至少在一定程度上解决上述技术问题之一。为此,本发明提供了一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构。
本发明的技术方案是提供一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其包括机架,其特征在于:所述机架的两侧设置有传输板,所述传输板上设置有传输组件,所述机架上间隔设置有清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件,金属板材通过传输组件在机架内水平移动且分别通过所述清扫组件、所述清洁组件及所述等离子体发生喷淋组件进行处理;所述等离子体发生喷淋组件包括有上下对应设置的上等离子体发生器和下等离子体发生器,所述上等离子体发生器的下部连接有多个上喷射头,所述下等离子体发生器的上部对应设置有多个所下喷射头,所述上喷射头和所述下喷射头之间用于金属板材的通过。
进一步的,所述传输组件包括水平开设于所述传输板内侧面的条形槽,两个所述条形槽为等高对应设置,所述条形槽的底部向下开设有长条形的矩形槽,所述矩形槽内设置有若干间隔设置的传输盘,所述传输盘通过轴承连接于所述传输板上,所述传输盘的上方为传输腔,金属板材的两边放置于机架两侧的传输腔内且通过传输盘的滚动进行传输。
进一步的,所述清扫组件包括有上支撑架和下支撑架,所述上支撑架的底部向下垂直设置有上清洁扫帚,所述下支撑架的上部向上垂直设置有下清洁扫帚。
进一步的,所述清洁组件包括有上门形架和下门形架,所述上门形架设置于所述机架上部,所述下门形架对应设置于所述机架内部,所述上门形架两内侧面均设置有上导轨,所述上导轨之间设置有上连接杆,所述上连接杆向下连接有上清洁辊筒,所述上门形架设置有上气泵,所述上气泵驱动所述上清洁辊筒在所述上导轨之间上下往复移动。
进一步的,所述下门形架两内侧面均设置有下导轨,所述下导轨之间设置有下连接杆,所述下连接杆向下连接有下清洁辊筒,所述下门形架设置有下气泵,所述下气泵驱动所述下清洁辊筒在所述下导轨之间上下往复移动。
进一步的,所述上等离子体发生器的下侧面对应两端均设置有上挡板,所述下等离子体发生器的上侧面对应两端均设置有下挡板。
进一步的,所述上等离子体发生器通过支架固定于所述机架上部,所述下等离子体发生器通过连接架固定于所述机架内部。
本发明的有益效果是:本发明的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构通过传输组件、清扫组件、清洁组件、等离子体发生喷淋组件的配合装配使用,对金属原料的板材进行表面加工处理,通过传输组件进行流水线的板材批量加工,通过清扫组件对金属板材的表面进行清扫,通过清洁组件对金属板材的表面进行清洁干净,通过等离子体发生喷淋组件对金属板材的表面进行喷淋工序,通过低温等离子体的特性改变金属表面的结构,增加金属板材表面的耐磨性、耐腐蚀形、抗氧化性。本发明具有加工效率,金属表面处理效果好,延长产品的使用寿命等优点。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是本发明的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构的侧面剖视结构示意图。
附图标记:机架1,传输板11,传输组件2,条形槽21,矩形槽22,传输盘23,轴承24,清扫组件3,上支撑架31,上清洁扫帚32,下支撑架33,下清洁扫帚34,清洁组件4,上门形架41,上导轨42,上连接杆43,上清洁辊筒44,上气泵45,下门形架51,下导轨52,下连接杆53,下清洁辊筒54,下气泵55,等离子体发生喷淋组件6,上等离子体发生器61,上喷射头62,上挡板63,支架64,下等离子体发生器71,下喷射头72,下挡板73,连接架74。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要理解的是,如有术语“中心”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下面首先结合附图具体描述根据本发明实施例的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构。
如图1所示,本发明的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其包括机架1,其特征在于:所述机架1的两侧设置有传输板11,所述传输板11上设置有传输组件2,所述机架1上间隔设置有清扫组件3、清洁组件4及等离子体发生喷淋组件6,金属板材通过传输组件2在机架1内水平移动且分别通过所述清扫组件3、所述清洁组件4及所述等离子体发生喷淋组件6进行处理;所述等离子体发生喷淋组件6包括有上下对应设置的上等离子体发生器61和下等离子体发生器71,所述上等离子体发生器61的下部连接有多个上喷射头62,所述下等离子体发生器71的上部对应设置有多个所下喷射头72,所述上喷射头62和所述下喷射头72之间用于金属板材的通过。
所述传输组件2包括水平开设于所述传输板11内侧面的条形槽21,两个所述条形槽21为等高对应设置,所述条形槽21的底部向下开设有长条形的矩形槽22,所述矩形槽22内设置有若干间隔设置的传输盘23,所述传输盘23通过轴承24连接于所述传输板11上,所述传输盘23的上方为传输腔,金属板材的两边放置于机架1两侧的传输腔内且通过传输盘23的滚动进行传输。
所述清扫组件3包括有上支撑架31和下支撑架33,所述上支撑架31的底部向下垂直设置有上清洁扫帚32,所述下支撑架33的上部向上垂直设置有下清洁扫帚34。
所述清洁组件4包括有上门形架41和下门形架51,所述上门形架41设置于所述机架1上部,所述下门形架51对应设置于所述机架1内部,所述上门形架41两内侧面均设置有上导轨42,所述上导轨42之间设置有上连接杆43,所述上连接杆43向下连接有上清洁辊筒44,所述上门形架41设置有上气泵45,所述上气泵45驱动所述上清洁辊筒44在所述上导轨42之间上下往复移动。所述下门形架51两内侧面均设置有下导轨52,所述下导轨52之间设置有下连接杆53,所述下连接杆53向下连接有下清洁辊筒54,所述下门形架51设置有下气泵55,所述下气泵55驱动所述下清洁辊筒54在所述下导轨52之间上下往复移动。
本发明一个较佳实施例中,所述上等离子体发生器61的下侧面对应两端均设置有上挡板63,所述下等离子体发生器71的上侧面对应两端均设置有下挡板73。
本发明一个较佳实施例中,所述上等离子体发生器61通过支架64固定于所述机架1上部,所述下等离子体发生器71通过连接架74固定于所述机架1内部。
本发明的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构通过传输组件2、清扫组件3、清洁组件4、等离子体发生喷淋组件6的配合装配使用,对金属原料的板材进行表面加工处理,通过传输组件2进行流水线的板材批量加工,通过清扫组件3对金属板材的表面进行清扫,通过清洁组件4对金属板材的表面进行清洁干净,通过等离子体发生喷淋组件6对金属板材的表面进行喷淋工序,通过低温等离子体的特性改变金属表面的结构,增加金属板材表面的耐磨性、耐腐蚀形、抗氧化性。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (7)
1.一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其包括机架,其特征在于:所述机架的两侧设置有传输板,所述传输板上设置有传输组件,所述机架上间隔设置有清扫组件、清洁组件及等离子体发生喷淋组件,金属板材通过传输组件在机架内水平移动且分别通过所述清扫组件、所述清洁组件及所述等离子体发生喷淋组件进行处理;所述等离子体发生喷淋组件包括有上下对应设置的上等离子体发生器和下等离子体发生器,所述上等离子体发生器的下部连接有多个上喷射头,所述下等离子体发生器的上部对应设置有多个所下喷射头,所述上喷射头和所述下喷射头之间用于金属板材的通过。
2.根据权利要求1所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述传输组件包括水平开设于所述传输板内侧面的条形槽,两个所述条形槽为等高对应设置,所述条形槽的底部向下开设有长条形的矩形槽,所述矩形槽内设置有若干间隔设置的传输盘,所述传输盘通过轴承连接于所述传输板上,所述传输盘的上方为传输腔,金属板材的两边放置于机架两侧的传输腔内且通过传输盘的滚动进行传输。
3.根据权利要求1所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述清扫组件包括有上支撑架和下支撑架,所述上支撑架的底部向下垂直设置有上清洁扫帚,所述下支撑架的上部向上垂直设置有下清洁扫帚。
4.根据权利要求1所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述清洁组件包括有上门形架和下门形架,所述上门形架设置于所述机架上部,所述下门形架对应设置于所述机架内部,所述上门形架两内侧面均设置有上导轨,所述上导轨之间设置有上连接杆,所述上连接杆向下连接有上清洁辊筒,所述上门形架设置有上气泵,所述上气泵驱动所述上清洁辊筒在所述上导轨之间上下往复移动。
5.根据权利要求4所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述下门形架两内侧面均设置有下导轨,所述下导轨之间设置有下连接杆,所述下连接杆向下连接有下清洁辊筒,所述下门形架设置有下气泵,所述下气泵驱动所述下清洁辊筒在所述下导轨之间上下往复移动。
6.根据权利要求1所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述上等离子体发生器的下侧面对应两端均设置有上挡板,所述下等离子体发生器的上侧面对应两端均设置有下挡板。
7.根据权利要求1所述的一种用于金属原材料表面处理的等离子体加工机构,其特征在于:所述上等离子体发生器通过支架固定于所述机架上部,所述下等离子体发生器通过连接架固定于所述机架内部。
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