CN110534449A - 用于基片的湿法处理设备 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007704 wet chemistry method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 11
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 11
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000009958 sewing Methods 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 27
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 230000018199 S phase Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 description 1
- 230000005571 horizontal transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67023—Apparatus for fluid treatment for general liquid treatment, e.g. etching followed by cleaning
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/6719—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the processing chambers, e.g. modular processing chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67196—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the construction of the transfer chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67207—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations comprising a chamber adapted to a particular process
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
本发明涉及一种用于基片的湿法处理设备,具有主体外壳,其包括用药液对基片、尤其是硅片进行湿法化学处理的多个处理槽,沿处理槽延伸和传送基片的水平传动系统,为了便于对设备的处理区进行监测和维护保养,以及对于配套设施在设备里的集成实行优化,并因而有助于简化设备结构,减少设备的占地面积,本发明建议,所述设备具有两个处理区,但配套设施以及在设备上方顶部和下方槽部之间的连接位于这两个处理区之间,由此使得可从两侧接近处理区。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于基片、尤其是太阳能电池硅片的湿法处理设备。
背景技术
太阳能作为人类取之不尽用之不竭的可再生能源,并且同时也作为清洁能源,越来越受到充分的开发和利用。太阳能光电利用是近些年来发展最快,最具活力的研究领域,其中,晶体硅太阳能电池是目前发展最成熟的太阳能电池,在应用中居主导地位。
对于晶体硅太阳能电池片的湿法化学处理通常包括对于硅片的表面制绒、蚀刻及酸洗等。这些工序均涉及到进行湿法化学处理的多个处理槽,槽体中盛放药液,通过药液的缓慢流动和对硅片的单面浸泡或双面浸泡,实现相应的制程。
太阳能晶硅电池片常见的有多款尺寸,目前较多生产的单晶或多晶硅片的尺寸是156.75*156.75mm2。为尽可能提高产能,现有的太阳能电池湿法处理设备内设有典型地设计为可用于并行输送5、8或10片硅片的水平传送机构。相应的设备被称为5道、8道或10道处理设备,它们都具有沿设备宽度方向前后分隔开的化学处理空间和配套设施空间。将传送道增加到超过5道会带来设备维护方面的问题(例如处理槽池的清洗、清除破碎的基片残片等等)。因此需要进行新的设计,以允许从两侧同样充分地接近处理区。另外,由于外围配套设施通常会增大占地需求并导致设备安装更麻烦,因此,设计一个完全一体化的设备是很有益处的。
此外,一个超过5道,尤其是10道的水平传动系统更难制造,运行可靠性也更低,也更难维护保养。
另外,在湿法化学处理时会形成大量的酸气废气,为维持设备的正常运转及避免设备部件受到严重腐蚀,需将这些酸气废气抽吸排放到设备之外。在现有设备中,抽风装置都设置在设备的化学处理槽空间与设备维护空间之间,这意味着抽风装置被置于水平传送机构一侧。在多达10道的湿法处理设备中,因传送机构宽度偏大,抽风装置即便设计具有很大抽吸功率,也较难实现对于传送机构的另一侧也同样具有有效的抽吸效果,也就是说,现有设备中对于设备内的酸废气的抽吸很难达到均匀与高效。由此导致设备的使用性能和环保排污性能都受到严重影响。
发明内容
因此,本发明所要解决的技术问题在于提供一种新型的用于基片、尤其是太阳能电池片(特别是硅片)的湿法处理设备,其能够允许方便地从两侧接近具有减小的部件尺寸的处理区。该设备里的中央抽风系统也有助于简化设备结构,同时将相关配套设施集成放置于设备中也能有助于加快设备机器的安装并降低占地面积。
为解决上述技术问题,本发明提供一种用于基片的湿法处理设备,具有主体外壳,其包括用药液对基片、尤其是硅片进行湿法化学处理的多个处理槽,沿处理槽延伸和传送基片的水平传动系统,本发明建议,所述设备具有两个处理区,但配套设施以及在设备上方顶部和下方槽部之间的连接位于这两个处理区之间,由此使得可从两侧接近处理区。
用于湿法处理设备的配套设施通常包括化学计量添加系统(包括添加盒,阀和管道等);抽风排放系统;电气箱;照明设备等等。而在设备上方顶部和下方槽部之间的连接则包括各类管道、抽风通道(例如抽风墙、抽风孔、抽风法兰等等),电连接线路以及连接框架等等。
通过以上优化改进,带来如下诸多优点:
-可方便地从两侧接近处理区,因此更便于设备的维护保养;
-可相互独立地实施维护保养,也就是说设备在其中一个处理区出现故障或者维护保养时,另一个处理区仍然能够正常运行,由此整体上降低了设备的停工期;
-由于设有两个处理区,相应地,设备部件的尺寸和重量均降低,因此也更容易检修保养;
-可更好地降低基片从设备进料端传送到出料端的水平高度偏移,因为,与较小处理区相配置的水平传动机构的横向尺寸也较小,相应地,多根传送辊长度也较短,刚性因此也较强,弯曲变形也较小;
-有更好的兼容性和可靠性;例如,可通过简单组配两套(更容易制造且运行更可靠的)5道传动机构就能组成一个相当于10道的水平传动系统。
-通过将相关配套设施,例如顶部照明装置和抽风系统等设置在两个处理区之间,不仅能简化设备结构,降低占地面积,还能实现更优的运行性能(更均匀和更有效的照明效果和抽风排放效果等等)。
按照本发明的两个处理区优选分别具有能相互独立运行的水平传动机构。这同样有利于降低制造成本和便于维护保养,及降低设备的停工期。
所述两个水平传动机构优选相对于设备的纵向中线呈镜像对称布置。由此能够确保从设备的前后两侧分别方便地对于两个水平传动机构,尤其是组成它们的各根主传动轴、大小锥齿轮等部件进行检修和维护保养。
按照本发明的优选设计,在所述设备之外无需设置辅助柜。这意味着所有的配套设施都已集成到设备中,从而提高了设备的整体性或一体化。
按照本发明的一优选设计,在所述设备的进料端,但在设备的主体外壳之外附加设有第一辅助柜,用于控制药液温度的温控装置,尤其是冰水机设置在该第一辅助柜中。由此克服了现有技术中的另一缺陷:即,现有设备的冰水机通常设置在设备后侧较大的配套设施间内,这样会导致设备整体宽度大,占地面积也大,同时还妨碍维护人员从后侧对于设备进行必要的检修和维护。
第一辅助柜的高度优选低于主体外壳的一半高度,尤其大约达到它的1/3高度,从而避免阻挡设备进料端的进口。
按照本发明的进一步优选设计,在所述设备的出料端,但在所述主体外壳之外附加设有第二辅助柜,在第二辅助柜中设有用于设备的电控柜。这样也克服了现有技术中的另一缺陷:即,现有设备的电控柜通常也设置在设备后侧较大的配套设施间内,这样会导致设备整体宽度大,占地面积也大,同时还妨碍维护人员从后侧对于设备进行必要的检修和维护。
所述第二辅助柜的高度也优选低于主体外壳的一半高度,尤其大约达到它的1/3高度,从而避免阻挡设备出料端的出口。
以上两项优选设计的组合使得中通常设于现有设备后侧的较大配套设施空间整体上无需再存在,从而在很大程度上减小了设备的宽度尺寸,使其所需占地面积更小。
按照本发明的湿法处理设备的主体外壳优选具有长方六面体型的下部和斜屋顶状的上部。在此,所述上部优选具有大致等边梯形的横断面,所述上部在其两个斜屋顶侧或所述等边梯形在其两个等斜边侧开设有多个沿设备纵向连续的、可开启的上视窗。所述多个上视窗沿设备纵向优选是相互贯通连续的,也就是说无需有支撑框条处于上视窗之间,从而提高了从两侧对于两个处理区的可接近性,并且也使得设备有更美观的外观。
按照本发明的一有利设计,在所述主体壳体内,大致在所述上视窗下边缘高度位置处或略低位置处设有水平放置的透明盖板。该透明盖板主要用于避免处理槽中的酸气废气直接溢出而危害设备其它部件及设备操作人员,同时由于其透明,也确保了操作人员通过上视窗也能观察到处理槽中的进程情况。
同样有利的是,在所述主体壳体内,大致在所述上视窗上边缘高度位置处或略高位置处设有水平放置的透光隔板。该透光隔板一方面用于避免其上的配套设施,例如照明设备受到酸废气腐蚀,另一方面也能保证实现对于其下方的处理区的有效照明。
按照本发明很重要的一方面,为实现中央的抽风系统,从所述设备的主体外壳的顶部中央垂直向下延伸有一抽风墙,其沿设备的纵向延伸而将设备的内部空间分隔成优选相同并对称的前侧分区和后侧分区。由此确保了对于两个处理区内的废气有均匀和有效的抽风效果。
优选在湿法处理设备的上部中央具有带有抽风开口的顶面板,在其上面设有用于连接废气排放管道的至少一个抽风法兰。
此外,所述顶面板可有利地在其前侧和后侧分别与可拆卸的过渡盖板相连,所述过渡盖板用于过渡连接水平的顶面板和在设备前面或后面倾斜设置的上视窗的上边缘。通过拆卸所述过渡盖板,可方便地对于设备顶部的配套设施进行维护保养。
所述抽风墙有利地是中空结构并在上面经由抽风法兰与设备外界相连通,而在其下面分别面向前侧分区和后侧分区的墙壁上设有多个环境抽风孔和多个槽内抽风孔。在此,所述透明盖板与所述抽风墙大致正交相接,其中,所述环境抽风孔处于透明盖板上方,用于将可能漏泄到透明盖板上方环境中的漏泄废气抽入抽风墙,所述槽内抽风孔则处于透明盖板下方,用于将处理槽中形成的废气直接抽入抽风墙。
更加优选的是,在透明盖板下方设有分别与槽内通风孔相连通的槽内抽风管,它们从抽风墙分别向前侧分区和后侧分区横向伸出,并且各槽内抽风管的管壁上开设有抽吸孔眼。
为维持设备内外的气体平衡,有利的是在所述顶盖板和透光隔板上分别设有多个补气孔,外界空气由此可进入设备内部,以避免因抽风导致设备内部存在不利的负压。此外,优选在顶盖板和透光隔板之间的区域中设有照明器具。
优选地,可在第一辅助柜上侧直接安设用于输入待处理基片的进料盒。由此进一步提高设备的集成度。同理,也优选在第二辅助柜上侧安设有用于输出已处理基片的接料盒。
所述第一辅助柜连同其上的进料盒的最大宽度尺寸优选小于或等于主体壳体的宽度,和/或所述第一辅助柜连同其上的进料盒的最大高度优选低于上视窗下边缘。由此提高设备的外观美感,同时减小设备的占地面积。
同理,所述第二辅助柜连同其上的出料盒的最大宽度尺寸优选小于或等于主体壳体的宽度,和/或所述第二辅助柜连同其上的出料盒的最大高度优选低于上视窗下边缘。
通过以上所述的改进设计,按照本发明的湿法处理设备的宽度尺寸可在2.5-3.5米之间,优选为2.9米。由此相对于宽度尺寸高达5-6米的现有设备,显然大大减小了占地面积。
尽管以上概述中描述的某些特征以及下面的详细说明结合了特定实施例,但是除非另有说明,否则本文描述的各项特征可以相互组合。
附图说明
为了清楚地说明本发明实施例的技术解决方案,将实施例的附图简要描述如下;显然,描述的附图仅与本发明的某些实施例相关,因此并不限制本发明。
图1是根据本发明实施例的用于基片的湿法处理设备的正视图;
图2是图1所示的湿法处理设备的俯视图;
图3是图1所示的湿法处理设备的端侧视图;
图4是图1所示的湿法处理设备的立体斜视图;
图5是根据本发明实施例的水平传动系统的俯视图;
图6是图5所示水平传动系统的端侧视图;
图7是图1所示的湿法处理设备沿其纵向中线剖切后的剖视图;
图8是图1所示湿法处理设备沿其宽度方向剖切后的横剖视图。
具体实施方式
显然,图示实施例只是本发明的一种具体实施方式,在本发明范围内,本领域技术人员可在不付出创造性劳动的情况下获得其它具体实施方式。
图1是根据本发明的一具体实施例的用于基片、尤其是太阳能电池用硅片的湿法处理设备的正视图。图2是图1所示设备的俯视图。从这两个图中可看出,设备的主体外壳由四个分壳架组成。每个分壳架在正面(亦称“前侧”)或反面(亦称“后侧”)分别具有两块可打开或拆卸的下挡门3和两个带有透明玻璃的上视窗5。上视窗5是可打开或拆卸的,以便于维护保养人员接近设备内的处理区,以进行化学处理槽池的清洗、捡走破碎的硅片残片等等维护保养工作。在设备运行时,上视窗5则保持关闭,以避免受到设备内酸气废气的影响。但操作人员可透过上视窗5对设备内处理区的运行情况进行实时监控。
从图1和图2中可看到,在设备的纵向两端分别有一基本轮廓为长方六面体形的辅助柜1,2,图中左侧端部也称为设备的进料端,用于输入有待处理的基片、例如硅片。在图示实施例中,在左侧的第一辅助柜1中可容纳通常用于冷却湿法化学药液的冰水机,在右侧端部(亦称“出料端”,亦即用于输出已完成相关湿法化学处理的硅片的端部)的第二辅助柜2中则可容纳电控柜。
对于冰水机和电控柜的检修、维护与保养,可方便地在设备的主体外壳之外的两端侧进行。当然,按照本发明一个未示出的变型实施形式,也可取消第一辅助柜1和/或第二辅助柜2,而转而将连同冰水机和电控柜在内的绝大部分配套设施都集成在设备的(主体)外壳内。
在图1中设备的左上角可看到信号灯和蜂鸣器8,通常其可以闪烁或常亮模式分别发出绿光、黄光或红光,以分别显示设备当前所处的工作模式,例如自动模式、手动模式等等。此外它还能在发光的同时发出蜂鸣声,以发出声音警报,显示当前设备处于可能的故障状态。
图1中最右侧分框架的上视窗稍小,并因此在其右侧留有的面板上还设有触摸屏电脑6。左侧进料端的下挡板附近则设置有一急停按钮7,用于设备的紧急停机。从图2中的俯视图中可清楚看到进料盒9和出料盒10。
结合图1和图2可看出,第一辅助柜1连同其上的进料盒9的最大宽度尺寸小于主体壳体的宽度,并且第一辅助柜1连同其上的进料盒9的最大高度低于上视窗5的下边缘。此外,第二辅助柜2连同其上的出料盒10的最大宽度尺寸小于主体壳体的宽度,并且第二辅助柜2连同其上的出料盒10的最大高度低于上视窗5的下边缘。所述主体壳体的宽度尺寸可设计为在2.5-3.5米之间,优选为2.9米。
从图3所示的设备的端侧视图和图4对于设备的立体视图中可清楚看到,按照本发明的湿法处理设备的主体外壳优选具有长方六面体型的下部和斜屋顶状的上部。所述上部在此具有大致等边梯形的横断面,在其两个等斜边侧开设有多个沿设备纵向连续的、可开启的上视窗5,亦即前视窗12和后视窗11。所述多个上视窗5沿设备纵向优选是相互贯通连续的,也就是说无需有支撑框条处于各扇上视窗5之间,从而可进一步提高从两侧对于设备内的处理区的可接近性。此外,由于前后视窗11,12相对于水平面倾斜一定角度(图中所示为大约40-50度),当操作人员踩在地脚踏板13上时能更方便地观察设备内的处理区的工作状况,并且也使得设备有更美观的外观。在图4的立体视图中可看到,在主体外壳的顶盖板上除了有图1中所示出的多个沿设备纵向均匀分布设置的抽风法兰4之外,还在抽风法兰4的两侧设有多组补气孔24,其主要用于吸入设备周围环境里的大气,以平衡因废气酸气经由抽风法兰4被排放到设备之外后所导致的设备内部的气体失衡。抽风法兰4可与例如生产厂内所安设的废气排放管道相连。
按图3和图4所示实施例的设备相对于其纵向中线几乎具有完美的对称结构。整个设备的主体外壳在上部具有两个沿设备纵向延伸的隧道状的处理区,这两个处理区被相互分隔。主体外壳在其底侧通过一系列可螺旋调节高度的地脚支撑14被支撑在地面上。
与相互分隔的两个处理区对应地,在图5中示出了与它们相配属的可独立运行的两个水平传动机构15,16。每个水平传动机构15,16分别由大量沿设备纵向依次排列的传动滚轮或传动辊组成。从图6中可清楚看到,两个水平传动机构15,16完全镜像对称地配置,它们各自的电动机17和传动链条及链轮均设置在设备的外侧,以方便维护保养。
图7示出按照本发明实施例的湿法处理设备沿纵向中线的纵剖图,结合图8所示的横剖图可看出,在所述主体壳体内,大致在所述上视窗5下边缘高度位置处或略低位置处设有水平放置的透明盖板22。该盖板22的作用是避免下方处理槽中因化学处理形成的酸气废气向上向外直接逸出,从而腐蚀设备内其他部件并危害设备的操作人员。
图8显示,从所述设备的主体外壳的顶部中央垂直向下延伸有一中空结构的抽风墙20,其沿设备的纵向延伸而将设备的内部空间分隔成相同并对称的两个处理区,亦即前侧分区和后侧分区。
在所述主体壳体内,大致在所述上视窗上边缘高度位置处或略高位置处设有水平放置的透光隔板。它与下方的透明盖板22均与中央的抽风墙20垂直相交,从而分别将前后两个处理区沿高度方向划分成从上向下重叠的三个功能区,亦即处于最上部的配套设施区(其中例如可安装照明装置)、处于中间的观察与维护保养区,以及处于下方的化学处理槽区。
从图8中可清楚看到,所述带有抽风法兰4的顶盖板在其前侧和后侧分别与一个圆弧形的过渡盖板相连,所述过渡盖板用于过渡连接水平的顶盖板和设备前侧或后侧倾斜设置的上视窗5的上边缘。所述过渡盖板可拆卸,以便于对配套设施区进行维护保养。
所述抽风墙20是中空结构并在上面经由抽风法兰4连通到设备外面,而在其下面分别面向前侧处理区和后侧处理区的墙壁上设有多个环境抽风孔18和多个槽内抽风孔19。
所述环境抽风孔18处于透明盖板22上方,用于将可能漏泄到透明盖板22上方环境(亦即观察与维护保养区)中的漏泄废气抽入抽风墙20,所述槽内抽风孔19则处于透明盖板22下方,用于将处理槽中形成的废气直接抽入抽风墙20。
按照图示实施例,在透明盖板22下方设有分别与槽内通风孔19相连通的槽内抽风管23,它们从抽风墙20分别向前侧处理区和后侧处理区横向伸出,并且各槽内抽风管23的管壁上开设有大量的抽吸孔眼,以将处理槽内的废气酸气抽出。
从图8中可看到,在处理区或处理槽下方还设有药液存储装置21。它可以借助相应的泵与处理槽连通。
按照本发明的优选设计,在所述透光隔板上也设有多个补气孔(图中未显示),以便与顶盖板中的补气孔24相连通,使得设备外面的大气可进入设备内部,进而实现相应的气体平衡。
总体上,本发明通过给所述设备配备两个相互分隔的处理区,并将相应的配套设施以及在设备上方顶部和下方槽部之间的连接置于这两个处理区之间,使得相关人员很容易地从两侧接近处理区,便于对设备的处理区进行监测和维护保养,同时通过相应的优化配置也简化了设备结构,减少了设备的占地面积。
虽然示范性或优选实施例已在上文中描述,但是可以在其它示例实施例中做出各种改动。
Claims (26)
1.一种用于基片的湿法处理设备,具有主体外壳,其包括用药液对基片、尤其是硅片进行湿法化学处理的多个处理槽,沿处理槽延伸和传送基片的水平传动系统,其特征在于,所述设备具有两个处理区,但配套设施以及在设备上方顶部和下方槽部之间的连接位于这两个处理区之间,由此使得可从两侧接近处理区。
2.按照权利要求1所述的湿法处理设备,其特征在于,所述两个处理区分别具有能相互独立运行的水平传动机构(15,16)。
3.按照权利要求2所述的湿法处理设备,其特征在于,所述两个水平传动机构(15,16)相对于设备的纵向中线呈镜像对称布置。
4.按照权利要求1至3之一所述的湿法处理设备,其特征在于,在所述设备的进料端,但在设备的主体外壳之外附加设有第一辅助柜(1),在该第一辅助柜(1)中设有用于控制药液温度的温控装置。
5.按照权利要求4所述的湿法处理设备,其特征在于,所述温控装置是冰水机,并且第一辅助柜(1)的高度低于主体外壳的一半高度,尤其大约达到它的1/3高度。
6.按照权利要求4或5所述的湿法处理设备,其特征在于,在所述设备的出料端,但在所述主体外壳之外附加设有第二辅助柜(2),在第二辅助柜(2)中设有用于设备的电控柜。
7.按照权利要求6所述的湿法处理设备,其特征在于,所述第二辅助柜(2)的高度低于主体外壳的一半高度,尤其大约达到它的1/3高度。
8.按照权利要求4至7中任一项所述的湿法处理设备,其特征在于,所述第一辅助柜(1)和/或第二辅助柜(2)与所述主体外壳完全集成为一体,或者,所述温控装置不带第一辅助柜(1)和/或所述电控柜不带第二辅助柜(2)地被完全集成在所述主体外壳中。
9.按照权利要求1至8之一所述的湿法处理设备,其特征在于,所述设备的主体外壳具有长方六面体型的下部和斜屋顶状的上部。
10.按照权利要求9所述的湿法处理设备,其特征在于,所述上部具有大致等边梯形的横断面,所述上部在其两个斜屋顶侧或所述等边梯形在其两个等斜边侧开设有多个沿设备纵向连续的、可开启的上视窗(5)。
11.按照权利要求10所述的湿法处理设备,其特征在于,在所述主体壳体内,大致在所述上视窗(5)下边缘高度位置处或略低位置处设有水平放置的透明盖板(22)。
12.按照权利要求10或11所述的湿法处理设备,其特征在于,在所述主体壳体内,大致在所述上视窗(5)上边缘高度位置处或略高位置处设有水平放置的透光隔板。
13.按照权利要求1至12之一所述的湿法处理设备,其特征在于,从所述设备的主体外壳的顶部中央垂直向下延伸有一抽风墙(20),其沿设备的纵向延伸而将设备的内部空间分隔成优选相同并对称的前侧分区和后侧分区。
14.按照权利要求9至13之一所述的湿法处理设备,其特征在于,所述上部具有带有抽风开口的顶盖板,在其上面设有用于连接废气排放管道的至少一个抽风法兰(24)。
15.按照权利要求14所述的湿法处理设备,其特征在于,所述顶盖板在其前侧和后侧分别与可拆卸的过渡盖板相连,所述过渡盖板用于过渡连接水平的顶面板和在设备前面或后面倾斜设置的上视窗(5)的上边缘。
16.按照权利要求13所述的湿法处理设备,其特征在于,所述抽风墙(20)是中空结构并在上面优选经由抽风法兰(4)连通到设备外面,而在其下面分别面向前侧分区和后侧分区的墙壁上设有多个环境抽风孔(18)和多个槽内抽风孔(19)。
17.按照权利要求11和16所述的湿法处理设备,其特征在于,所述透明盖板(22)与所述抽风墙(20)大致正交相接,其中,所述环境抽风孔(18)处于透明盖板(22)上方,用于将可能漏泄到透明盖板(22)上方环境中的漏泄废气抽入抽风墙(20),所述槽内抽风孔(19)则处于透明盖板(22)下方,用于将处理槽中形成的废气直接抽入抽风墙(20)。
18.按照权利要求11和16所述的湿法处理设备,其特征在于,在透明盖板(22)下方设有分别与槽内通风孔(19)相连通的槽内抽风管(23),它们从抽风墙(20)分别向前侧分区和后侧分区横向伸出,并且各槽内抽风管(23)的管壁上开设有抽吸孔眼。
19.按照权利要求12和14所述的湿法处理设备,其特征在于,在所述顶盖板和透光隔板上分别设有多个补气孔(24),在顶盖板和透光隔板之间的区域中设有照明器具。
20.按照权利要求5所述的湿法处理设备,其特征在于,在第一辅助柜(1)上侧安设有用于输入待处理基片的进料盒(9)。
21.按照权利要求7所述的湿法处理设备,其特征在于,在第二辅助柜(2)上侧安设有用于输出已处理基片的接料盒(10)。
22.按照权利要求20所述的湿法处理设备,其特征在于,所述第一辅助柜(1)连同其上的进料盒(9)的最大宽度尺寸小于或等于主体壳体的宽度,和/或所述第一辅助柜(1)连同其上的进料盒(9)的最大高度低于上视窗(5)下边缘。
23.按照权利要求21所述的湿法处理设备,其特征在于,所述第二辅助柜(2)连同其上的出料盒(10)的最大宽度尺寸小于或等于主体壳体的宽度,和/或所述第二辅助柜(2)连同其上的出料盒(10)的最大高度低于上视窗(5)下边缘。
24.按照权利要求22或23所述的湿法处理设备,其特征在于,所述主体壳体的宽度尺寸在2.5-3.5米之间,优选为2.9米。
25.按照权利要求1所述的湿法处理设备,其特征在于,所述主体外壳的上部在各侧,尤其是前后侧有连续的视窗开口(5)。
26.按照权利要求10或25所述的湿法处理设备,其特征在于,所述上视窗(5)或视窗开口(5)上安设全透明玻璃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810517453.XA CN110534449A (zh) | 2018-05-25 | 2018-05-25 | 用于基片的湿法处理设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810517453.XA CN110534449A (zh) | 2018-05-25 | 2018-05-25 | 用于基片的湿法处理设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110534449A true CN110534449A (zh) | 2019-12-03 |
Family
ID=68657841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810517453.XA Pending CN110534449A (zh) | 2018-05-25 | 2018-05-25 | 用于基片的湿法处理设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110534449A (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
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