CN110468418A - 一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,包括反应釜和蚀刻槽,反应釜外壁上设有射流器,反应釜上方设有出气管道,反应釜的下方设有与出液管道,蚀刻槽包括第一蚀刻槽和第二蚀刻槽,出液管道包括第一出液管道和第二出液管道,第一蚀刻槽和第二蚀刻槽分别通过第一出液管道和第二出液管道与反应釜底部连通;第一蚀刻槽和第二蚀刻槽通过管道互相连通;第二蚀刻槽通过输送泵与射流器的液体入口连接,出气管道与废氯气管道与射流器的气体入口连通,本新型通过将电解氯化铜产生的废氯气与酸性蚀刻液的一价铜离子反应,使一价铜离子还原为二价铜离子,从而使酸性蚀刻液能够再生利用,既避免了废氯气污染环境,同时增加了废氯气的经济价值。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻液再生利用领域,特别是一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置。
背景技术
在工业生产电解氯化铜时候,会产生出大量的废氯气,由于氯气具有较高的毒性,所以如何处理这些废氯气是电解氯化铜过程中一个非常重要的环节,再有,DES线在连续生产中,酸性蚀刻液将不断的蚀刻二价铜产生一价铜,需要用大量的氧化还原剂将一价铜离子还原为二价铜离子,而氯气则可以溶解到酸性蚀刻液中充当氧化还原剂的作用,因此,本申请在这样的背景技术引导下而发明出来。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,通过将电解氯化铜时产生的废氯气溶于酸性蚀刻液中,是酸性蚀刻液中的一价铜离子还原成二价铜离子,使酸性蚀刻液得到了再生利用。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,包括反应釜和蚀刻槽,所述反应釜外壁上设有与反应釜内腔连通的射流器,反应釜的上方设有与反应釜内腔连通的出气管道,反应釜的下方设有与出液管道,所述蚀刻槽通过出液管道与反应釜底部连通。
进一步的,所述蚀刻槽包括第一蚀刻槽和第二蚀刻槽,出液管道包括第一出液管道和第二出液管道,第一蚀刻槽和第二蚀刻槽分别通过第一出液管道和第二出液管道与反应釜底部连通;第一蚀刻槽和第二蚀刻槽通过管道互相连通;第一蚀刻槽和第二蚀刻槽内设有DES线。
进一步的,所述第二蚀刻槽通过管道连接有输送泵,输送泵的出口端通过药液输送管道与射流器的液体入口连接,射流器的气体入口与废氯气管道连接,所述出气管道与所述废氯气管道连通。
进一步的,所述反应釜内部倾斜向下设有一减压板,所述减压板上设有若干通孔。
进一步的,所述第一蚀刻槽和第二蚀刻槽中设有酸性蚀刻液。
进一步的,所述第一出液管道和第二出液管道的数量分别为两根。
进一步的,所述废氯气管道、出气管道、第一出液管道、第二出液管道以及药液输送管道的内壁均设有防腐涂层。
本发明的有益效果是:本新型通过将电解氯化铜产生的废氯气与酸性蚀刻液的一价铜离子反应,使一价铜离子还原为二价铜离子,从而使酸性蚀刻液能够再生利用,既避免了废氯气污染环境,同时增加了废氯气的经济价值。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图中,1-反应釜,2-蚀刻槽,3-射流器,4-出气管道,5-出液管道,6-输送泵,7-废氯气管道,8-减压板,9-药液输送管道,21-第一蚀刻槽,22-第二蚀刻槽,51-第一出液管道,52-第二出液管道。
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
需要说明的是,以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想,遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变,且其组件布局型态也可能更为复杂。
实施例:
一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,请参阅附图1所示,包括反应釜1和蚀刻槽2,所述反应釜1外壁上设有与反应釜1内腔连通的射流器3,反应釜1的上方设有与反应釜1内腔连通的出气管道4,反应釜1的下方设有与出液管道5,所述蚀刻槽2通过出液管道5与反应釜1底部连通。
进一步的,所述蚀刻槽2包括第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22,出液管道5包括第一出液管道51和第二出液管道52,第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22分别通过第一出液管道51和第二出液管道52与反应釜1底部连通;第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22通过管道互相连通;第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22内设有DES线。
进一步的,所述第二蚀刻槽22通过管道连接有输送泵6,输送泵6的出口端通过药液输送管道9与射流器3的液体入口连接,射流器3的气体入口与废氯气管道7连接,所述出气管道4与所述废氯气管道7连通。
进一步的,所述反应釜1内部倾斜向下设有一减压板8,减压板8能减小从射流器3射入反应釜1的蚀刻液的压力,所述减压板8上设有若干通孔,减压后的蚀刻液通过通孔流入反应釜1的底部。
进一步的,所述第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22中设有酸性蚀刻液,具体的,酸性蚀刻液为含有氯化氢的氯化铜溶液。
进一步的,所述第一出液管道51和第二出液管道52的数量分别为两根,使得蚀刻液在流入蚀刻槽2中时更为均匀。
进一步的,所述废氯气管道7、出气管道4、第一出液管道51、第二出液管道52以及药液输送管道9的内壁均设有防腐涂层,防止酸性蚀刻液腐蚀管道内壁。
蚀刻槽2中的酸性蚀刻液在DES线连续生产过程中,酸性蚀刻液中的二价铜离子不断生成一价铜离子,一价铜离子在蚀刻过程中失去了蚀刻的作用,蚀刻速度变慢,在工业生产过程中,把大量含有一价铜离子的酸性蚀刻液称为废液,本发明具体在使用时,第一蚀刻槽21和第二蚀刻槽22通过管道互相连通,第二蚀刻槽22与输送泵6连接,废液通过输送泵6输送到射流器3的液体入口,电解氯化铜的废氯气通过废氯气管道7输送到射流器3的气体入口,高速通过射流器3液体入口的废液在射流器3气体入口产生负压,将废氯气从射流器3的气体入口吸入,并随废液一起射入反应釜1中,废氯气在反应釜1中溶解在废液中,并与废液中的一价铜离子发生反应,废氯气将废液中一价铜离子氧化还原成二价铜离子,在此过程中,没有全部溶解反应的废氯气则通过出气管道4回流到废氯气管道7继续参与反应,重新生成二价铜离子的酸性蚀刻液称为新液,新液则通过与反应釜1底部连通的出液管道5流入到蚀刻槽2中参与蚀刻。
综上,本发明为一个循环的装置,能将蚀刻过程中产生的废液不断循环,使之变为新液,不仅解决了电解氯化铜过程中废氯气污染环境的问题,同时增加了废氯气本省的经济价值,具有很高的经济实用性。
以上所述实施例仅表达了本发明的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,包括反应釜(1)和蚀刻槽(2),其特征在于,所述反应釜(1)外壁上设有与反应釜(1)内腔连通的射流器(3),反应釜(1)的上方设有与反应釜(1)内腔连通的出气管道(4),反应釜(1)的下方设有与出液管道(5),所述蚀刻槽(2)通过出液管道(5)与反应釜(1)底部连通。
2.根据权利要求1所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述蚀刻槽(2)包括第一蚀刻槽(21)和第二蚀刻槽(22),所述出液管道(5)包括第一出液管道(51)和第二出液管道(52),第一蚀刻槽(21)和第二蚀刻槽(22)分别通过第一出液管道(51)和第二出液管道(52)与反应釜(1)底部连通;第一蚀刻槽(21)和第二蚀刻槽(22)通过管道互相连通;第一蚀刻槽(21)和第二蚀刻槽(22)内设有DES线。
3.根据权利要求1和2所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述第二蚀刻槽(22)通过管道连接有输送泵(6),所述输送泵(6)的出口端通过药液输送管道(9)与射流器(3)的液体入口连接,射流器(3)的气体入口与废氯气管道(7)连接,所述出气管道(4)与所述废氯气管道(7)连通。
4.根据权利要求1所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述反应釜(1)内部倾斜向下设有一减压板(8),所述减压板(8)上设有若干通孔。
5.根据权利要求1所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述第一蚀刻槽(21)和第二蚀刻槽(22)中设有酸性蚀刻液。
6.根据权利要求1所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述第一出液管道(51)和第二出液管道(52)的数量分别为两根。
7.根据权利要求1和2和3所述的一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置,其特征在于,所述废氯气管道、出气管道、第一出液管道、第二出液管道以及药液输送管道的内壁均设有防腐涂层。
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CN201910859208.1A CN110468418A (zh) | 2019-09-11 | 2019-09-11 | 一种利用废氯气使酸性蚀刻液再生的装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112899731A (zh) * | 2019-12-03 | 2021-06-04 | 上海八菱环保科技有限公司 | 一种酸性蚀刻回收铜设备用阳极氯气抽风管道 |
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2019
- 2019-09-11 CN CN201910859208.1A patent/CN110468418A/zh active Pending
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