CN110456578A - 液晶书写膜及基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种液晶书写膜及基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法。该液晶书写膜包括有依次排布的上膜基材层、上膜导电层、液晶分子层、下膜导电层和下膜基材层，所述上膜导电层和下膜导电层被分割成若干相互绝缘的导电区域，所述上膜导电层的导电区域和下膜导电层的导电区域在空间上重叠的区域与该区域对应的液晶分子层区域共同形成擦除区域，每个导电区域均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接，为上膜导电层的导电区域、下膜导电层的导电区域分别施加电压，在各擦除区域分别形成电场的叠加，利用在每一个擦除区域形成的不同的压差，实现局部擦除，可以随擦随写，书写的效率高。

Description

液晶书写膜及基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种液晶书写膜及基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法。

背景技术

近几年随着液晶手写板技术的攻克和成本的不断下降，使得液晶手写板在各行各业得到了广泛的应用。这类以液晶材料为显示载体的液晶手写板，用户只需使用配套的书写笔(甚至指甲)即可在液晶手写板上实现自由书写。液晶手写板无尘无墨及快速擦除的特性也深受用户好评。但目前的大多数液晶手写板不能实现局部擦除，一不小心出现书写错误就要全部擦除，使得局部擦除功能变得尤为重要。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种液晶书写膜及基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，该液晶书写膜利用局部电场即可实现局部擦除，随擦随写，书写的效率高。

为解决上述技术问题，本发明采用如下所述的技术方案：

一种液晶书写膜，其包括有第一膜片、第二膜片及位于所述第一膜片、第二膜片之间的液晶分子层，所述第一膜片包括有上膜基材层，该上膜基材层面向液晶分子层的一侧形成有上膜导电层，所述第二膜片包括有下膜基材层，该下膜基材层面向液晶分子层的一侧形成有下膜导电层，所述上膜导电层和下膜导电层被分割成若干相互绝缘的导电区域；每个导电区域均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接；所述上膜导电层的导电区域和下膜导电层的导电区域在空间上重叠的区域与该区域对应的液晶分子层区域共同形成擦除区域。

一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其包括有步骤：

S1，在基材层材料表面设置隔绝线，所述隔绝线的材料为pet、pc、pe、pp、pvc、材料；

S2，在基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，该导电层被所述隔绝线分割成若干相互绝缘的导电区域；

S3，在基材层材料边缘焊接电极形成半成品膜片，所述电极的数目与所述导电区域数目一致，且所述电极与导电区域一一对应电连接；

S4，将两片半成品膜片与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述两片半成品膜片具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。

一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，所述液晶书写膜加工方法包括有步骤：

S10，分别在相互叠合第一基材层材料和第二基材层材料表面设置隔绝线，其中，第一基材层材料表面的隔绝线为多条横向相互平行的直线，第二基材层材料表面的隔绝线为多条纵向相互平行的直线；

S20，在第一基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，第一基材层材料上的导电层被隔绝线分割成若干相互绝缘、横向平行的导电区域，在第二基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，第二基材层材料上的导电层被隔绝线分割成若干相互绝缘、纵向平行的导电区域；

S30，在第一基材层材料和第二基材层材料焊接数目与所述导电区域数目一致的电极，所述电极与导电区域一一对应电连接；

S40，将第一基材层材料、第二基材层材料与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述第一基材层材料具有导电层的一面和第二基材层材料具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。

本发明的有益技术效果在于：本发明的上膜导电层和下膜导电层被分割成若干相互绝缘的导电区域，所述上膜导电层和下膜导电层的导电区域在空间上重叠的区域与该区域对应的液晶分子层区域共同形成擦除区域，每个导电区域均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接，为上膜导电层的导电区域、下膜导电层的导电区域分别施加电压，在各擦除区域分别形成电场的叠加，利用在每一个擦除区域形成的不同的压差，实现局部擦除，可以随擦随写，书写的效率高。

附图说明

图1为本发明的液晶书写膜的截面图；

图2为本发明的第一膜片的结构示意图；

图3为本发明的第二膜片的结构示意图；

图4为本发明的第一膜片与第二膜片叠加后的示意图；

图5为本发明一个实施例中的基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法流程示意图；

图6为本发明另一个实施例中的基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法流程示意图。

具体实施方式

为使本领域的普通技术人员更加清楚地理解本发明的目的、技术方案和优点，以下结合附图和实施例对本发明做进一步的阐述。

如图1所示，在本发明一个实施例中，液晶书写膜包括有第一膜片10、第二膜片20及位于所述第一膜片10、第二膜片20之间的液晶分子层30。所述第一膜片10包括有上膜基材层11，该上膜基材层11面向液晶分子层30的一侧蒸镀形成有上膜导电层12，所述第二膜片20包括有下膜基材层21，该下膜基材层21面向液晶分子层30的一侧蒸镀形成有下膜导电层22，所述第一膜片10、液晶分子层30和第二膜片20通过胶粘合压制而成。

如图2-4所示，所述上膜导电层12被分割成若干相互绝缘、横向平行的等宽等间距的条状导电区域120，所述下膜导电层22被分割成若干相互绝缘、纵向平行的等宽等间距的条状导电区域220，所述上膜导电层12的条状导电区域120与所述下膜导电层22的条状导电区域220在空间上相互垂直交错，所述上膜导电层12的条状导电区域120与所述下膜导电层22的条状导电区域220相互重叠的部分形成擦除区域14。

所述上膜导电层12的每个导电区域120均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接，以便于为每一个导电区域120施加正电压。所述下膜导电层22的每个导电区域220均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接，以便于为每一个导电区域220施加负电压。为上膜导电层12的导电区域120和下膜导电层22导电区域220分别施加电压，各擦除区域14能够分别形成电场的叠加，利用在每一个擦除区域14形成的不同的压差，实现局部擦除，可以随擦随写，书写的效率高。

由于导电区域的宽度越小局部擦除精度越高，为保证局部擦除的精度，上膜导电层12的导电区域120的宽度为3mm-50mm，上膜导电层12上相邻两个导电区域之间的间距为2um-20um。下膜导电层22的导电区域220的宽度也为3mm-50mm，下膜导电层22上相邻两个导电区域之间的间距为2um-2000um。

优选地，所述上膜基材层11、下膜基材层21采用PET、PC等材料，上膜导电层12和下膜导电层22采用ITO、纳米银、导电聚合物、石墨烯、碳纳米管等材料，且上膜导电层12和下膜导电层22的方阻阻值小于1000欧姆，适合制作大尺寸局部擦除膜片(方阻阻值越小越合适制作大尺寸局部擦除膜片)。

优选地，所述上膜基材层11远离所述液晶分子层30的一侧设置有一保护层13，该保护层13对液晶书写膜起到一定的保护作用，可以延长液晶书写膜使用寿命。

需要说明的是，本发明实施例中，上膜导电层12被分割成若干横向平行、等宽等间距的条状导电区域120，下膜导电层22被分割成若干纵向平行、等宽等间距的条状导电区域220，上膜导电层12与下膜导电层22相互叠加将液晶书写膜分成了网状结构，每一个网格都是一个单独的擦除区域；这种分割方式便于工业化的批量加工，能够根据实际需要使分割区域更加小型化，通过对不同导电区域通电，实现更加准确的局部擦除。而在本发明的其他实施例中，也可以将上膜导电层、下膜导电层分割成其他任意形状的相互绝缘的导电区域，利用上膜导电层、下膜导电层的导电区域的电场叠加形成电压差，实现局部擦除。

如图5所示，本发明提供了一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，该液晶书写膜加工方法包括有步骤：

S1，在基材层材料表面设置隔绝线。

具体地，选用PET或PC材质的基材层材料，在基材层材料表面设置隔绝线，该隔绝线在基材层材料表面形成任意形状(或随意线条)，所述基材层材料表面被该隔绝线分隔成相互不连通的若干区域。所述隔绝线的材料为pet、pc、pe、pp或pvc材料，也可以为本领域技术人员为满足实际需要所能想到的其他任意材料。所述隔绝线通过印刷或涂布等方式附着形成于基材层材料表面，也可以采用其他任意方式附着形成于基材层材料表面，具体方式不做限定，只要能够附着于基材层材料表面即可。

S2，在基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，该导电层被所述隔绝线分割成若干相互绝缘的导电区域。

具体地，在步骤S1之后，在基材层材料具有隔绝线的一面镀导电层，导电层采用ITO、纳米银、导电聚合物、石墨烯、碳纳米管等材料，导电层的厚度与隔绝线厚度一致，完成蒸镀导电层之后，去除隔绝线，导电层被分割成若干相互绝缘的导电区域。

S3，在基材层材料边缘焊接电极形成半成品膜片，所述电极的数目与所述导电区域数目一致，且所述电极与导电区域一一对应电连接。

S4，将两片半成品膜片与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述两片半成品膜片具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。

S5，在两片半成品膜片其中一片半成品膜片远离液晶分子层的一面上粘合一保护层。

优选地，在步骤S1中，基材层材料表面形成的隔绝线为多条相互平行的直线，便于工业化的批量加工，相邻两条直线之间的距离为3mm-50mm。在步骤S4中，将两片半成品膜片与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜时，该两片半成品膜片相互垂直放置，从而将液晶书写膜分成了网状结构，每一个网格就是一个单独的擦除区域。

如图6所示，本发明还提供了一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，该液晶书写膜加工方法包括有步骤：

S10，分别在相互叠合第一基材层材料和第二基材层材料表面设置隔绝线，其中，第一基材层材料上表面形成的隔绝线为多条相互横向平行的直线，第二基材层材料下表面形成的隔绝线为多条相互纵向平行的直线。

具体地，所述隔绝线的材料为pet、pc、pe、pp或pvc材料，也可以为本领域技术人员为满足实际需要所能想到的其他任意材料。所述隔绝线可通过印刷或涂布等方式附着形成于基材层材料表面，也可以采用其他任意方式附着形成于基材层材料表面，具体方式不做限定，只要能够附着于基材层材料表面即可。本实施例中，基材层材料选用双层卷材，上层为第一基材层材料、下层为第二基材层材料，所述第一基材层材料、第二基材层材料相互叠合在一起。在加工时，同时在第一基材层材料上表面和第二基材层材料下表面形成的隔绝线，有利于提高加工效率，便于批量生产。其中，第一基材层材料上表面形成的隔绝线为多条相互横向平行的直线，第二基材层材料下表面形成的隔绝线为多条相互纵向平行的直线。

S20，在第一基材层材料和第二基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，所述导电层被隔绝线分割成若干相互绝缘的导电区域。

具体地，在步骤S1之后，在第一基材层材料具有隔绝线的一面镀导电层，导电层采用ITO、纳米银、导电聚合物、石墨烯、碳纳米管等材料，导电层的厚度与隔绝线厚度一致，完成蒸镀导电层之后，去除隔绝线，第一基材层材料的导电层被分割成若干相互绝缘、横向平行的导电区域；同时，在第二基材层材料具有隔绝线的一面镀导电层，导电层采用ITO、纳米银、导电聚合物、石墨烯、碳纳米管等材料，导电层的厚度与隔绝线厚度一致，完成蒸镀导电层之后，去除隔绝线，第二基材层材料的导电层被分割成若干相互绝缘、纵向平行的导电区域。

S30，在第一基材层材料和第二基材层材料焊接数目与所述导电区域数目一致的电极，所述电极与导电区域一一对应电连接。

S40，将第一基材层材料、第二基材层材料与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述第一基材层材料和第二基材层材料具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。

S50，在第一基材层材料远离液晶分子层的一面上粘合一保护层。

以上所述仅为本发明的优选实施例，而非对本发明做任何形式上的限制。本领域的技术人员可在上述实施例的基础上施以各种等同的更改和改进，凡在权利要求范围内所做的等同变化或修饰，均应落入本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种液晶书写膜，其特征在于：所述液晶书写膜包括有第一膜片、第二膜片及位于所述第一膜片、第二膜片之间的液晶分子层，所述第一膜片包括有上膜基材层，该上膜基材层面向液晶分子层的一侧形成有上膜导电层，所述第二膜片包括有下膜基材层，该下膜基材层面向液晶分子层的一侧形成有下膜导电层，所述上膜导电层和下膜导电层被分割成若干相互绝缘的导电区域；每个导电区域均引出有电极与所述液晶书写膜的控制电路电连接；所述上膜导电层的导电区域和下膜导电层的导电区域在空间上重叠的区域与该区域对应的液晶分子层区域共同形成擦除区域。

2.如权利要求1所述的液晶书写膜，其特征在于：所述上膜导电层和下膜导电层被分割成若干相互绝缘的条状导电区域，该上膜导电层的各条状导电区域沿第一方向相互平行分布，该下膜导电层的各条状导电区域沿第二方向相互平行分布，且所述第一方向与第二方向垂直。

3.如权利要求2所述的液晶书写膜，其特征在于：所述上膜导电层的导电区域的宽度为3mm-50mm，所述下膜导电层的导电区域的宽度为3mm-50mm。

4.如权利要求3所述的液晶书写膜，其特征在于：所述上膜导电层的相邻两个导电区域之间的间距为2um-20um，所述下膜导电层的相邻两个导电区域之间的间距为2um-2000um。

5.如权利要求1-4任一项所述的液晶书写膜，其特征在于：所述上膜基材层远离所述液晶分子层的一侧设置有一保护层。

6.一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，所述液晶书写膜加工方法包括有步骤：

S1，在基材层材料表面设置隔绝线，所述隔绝线的材料为pet、pc、pe、pp或pvc材料；

S2，在基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，该导电层被所述隔绝线分割成若干相互绝缘的导电区域；

S3，在基材层材料边缘焊接电极形成半成品膜片，所述电极的数目与所述导电区域数目一致，且所述电极与导电区域一一对应电连接；

S4，将两片半成品膜片与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述两片半成品膜片具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。

7.如权利要求6所述的基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，所述隔绝线为多条相互平行的直线，所述两片半成品膜片相互垂直放置。

8.如权利要求7所述的基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，所述相邻两条直线之间的距离为3mm-50mm。

9.如权利要求6所述的基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，在步骤4之后，所述液晶书写膜加工方法包括有步骤：S5，在两片半成品膜片其中一片半成品膜片远离液晶分子层的一面上粘合一保护层。

10.一种基于蒸镀工艺的液晶书写膜加工方法，其特征在于，所述液晶书写膜加工方法包括有步骤：

S10，分别在相互叠合第一基材层材料和第二基材层材料表面设置隔绝线，其中，第一基材层材料表面的隔绝线为多条横向相互平行的直线，第二基材层材料表面的隔绝线为多条纵向相互平行的直线；

S20，在第一基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，第一基材层材料上的导电层被隔绝线分割成若干相互绝缘、横向平行的导电区域，在第二基材层材料具有隔绝线的一面蒸镀形成导电层，第二基材层材料上的导电层被隔绝线分割成若干相互绝缘、纵向平行的导电区域；

S30，在第一基材层材料和第二基材层材料焊接数目与所述导电区域数目一致的电极，所述电极与导电区域一一对应电连接；

S40，将第一基材层材料、第二基材层材料与一液晶分子层粘合形成液晶书写膜，其中，所述第一基材层材料具有导电层的一面和第二基材层材料具有导电层的一面相对设置，液晶分子层位于两片半成品膜片之间。