CN110450196A - 检修门及具有其的密封箱 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种检修门，固定于密封箱的任一安装面，所述检修门包括内门和外门，所述内门设置于面向所述密封箱内部腔体的一侧；内门和外门的边缘处分别与所述密封箱的安装面内侧密封可开闭连接，在所述内门和外门之间形成有泄露缓冲室；本发明还公开了具有上述检修门的密封箱。本发明通过设置双层门及双层门之间的泄露缓冲室，确保密封箱操作空间中的纯净度，有效隔断由于缝隙或是细微扩散存在而可能出现的外部物质泄漏侵入，保持密封箱里的水氧杂质低于1PPM，密封箱内气体纯度和压强得到有效控制。
Description
技术领域
本发明涉及手套式操作箱技术领域，特别涉及一种检修门及具有其的密封箱。
背景技术
密封箱是一种用金属、玻璃或塑料制成的箱体，主箱体有多个开口用于安装视窗、过渡舱和手套接口等配件。操作人员通过手套对箱体里的材料和设备进行操作，以满足在科学研究和生产过程中，对空气中某一或几个活泼成分如氧气、水分、二氧化碳等敏感成分进行隔绝以实现在密闭的环境内操作。
目前所有的密封箱都存在漏气问题，一个密封箱即使充上高纯气体也很难使其内部的水和氧气杂质含量各小于1PPM(百万分之一)。在正常使用过程中，水和氧气就还会继续逐渐上升，使密封箱里水和氧气的浓度远远大于要求的浓度。
在检修或者日常维护使用时，空气通过微小缝隙渗入密封箱，通常的主箱体与视窗和手套接口将都是由橡胶密封圈密封的，在这些密封圈周围难免存在非常微小的缝隙；而且从密封箱外面往密封箱里面转移材料和设备时会带入微量氧气和水分。
目前，密封箱上的用的密封技术是普通的密封技术，即在两个密封面之间夹上一密封材料，如密封条、密封圈或密封胶。密封材料的两边分别是箱体内的超高纯气和体箱体外的空气，氧气浓度大于200000PPM的空气很容易从微小的缝隙泄漏到密封箱里，对箱体内的气体纯度产生很大影响。
因此亟待出现一种新的门体及密封技术，确保密封箱在检修及日常使用和维护时具有更稳定纯净的操作环境。
发明内容
为了解决现有技术的问题，本发明实施例提供了一种检修门，固定于密封箱的任一安装面，所述检修门包括内门和外门，所述内门设置于面向所述密封箱内部腔体的一侧；
所述内门和外门的边缘处分别与所述密封箱的安装面密封可开闭连接，在所述内门和外门之间形成有泄露缓冲室。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述密封箱的安装面上开设有疏导槽，所述疏导槽外贴合有密封圈，所述检修门的边缘处通过所述密封圈与所述密封箱的安装面密封可开闭连接。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述疏导槽面向所述密封箱内部空腔的一侧设置为阶梯状结构；所述阶梯状结构至少包括第一阶梯、第二阶梯以及位于所述第一阶梯的第一疏导槽和位于所述第二阶梯的第二疏导槽；
所述第一疏导槽外贴合有第一密封圈，所述第二疏导槽外贴合有第二密封圈，所述内门和外门的边缘处分别抵接于所述第一密封圈和所述第二密封圈。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述安装面上至少分布有两个密封圈，所述两个密封圈在安装面的高度方向上对称设置。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述两个对应分布的密封圈包括第一密封圈和第二密封圈，所述第一密封圈和第二密封圈分别设置于所述密封箱顶部和底部相对的两个安装面；
所述内门和所述外门分别抵接于所述第一密封圈的侧面和第二密封圈的侧面，所述内门和所述外门之间形成泄漏缓冲空间。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述泄露缓冲室内填充有预设压力的高纯度惰性气体。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述的泄漏缓冲空间呈真空状态。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述泄漏缓冲室内设置有气压检测装置。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述气压检测装置为电容型压力传感器，其特征在于，所述压力传感器包括包括底电极、顶电极、第一介电薄膜层、第二介电薄膜层及两个支撑部；
所述第一介电薄膜层、第二介电薄膜层、两个支撑部均位于所述底电极与所述顶电极之间，所述两个支撑部位于所述底电极的两端，所述第一介电薄膜层位于所述第二介电层与所述顶电极之间。
另一方面，本发明进一步提供了一种密封箱，包括主箱体，所述主箱体包括箱体、前板、后板、侧板、视窗、真空表、真空电器插座、真空阀门，所述密封箱还包括设置于所述箱体上的如上述的检修门。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述检修门设置于所述检修门设置于所述密封箱的前板、后板或侧板上。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述泄漏缓冲空间内设置有真空表、真空阀门、插板；
所述真空阀门用于对所述泄漏缓冲空间内充气。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述密封箱还包括过渡舱，过渡舱用于转移材料和设备进出密封箱。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述主箱体和过渡舱之间装置有真空密封垫，同时通过连接件连接组装。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述主箱体与过渡舱通过螺栓连接，并在连接处用密封圈密封。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述过渡舱可根据用户要求装在主箱体左右任一面，而有视窗和手套接口主箱体箱体前后都可，视窗分为前视窗、后视窗，可多人同时使用。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述检修门包括把手、顶杆、压杆、平衡块。
作为本发明实施方式的进一步改进，所述密封箱还包括活动插班，抽动所述活动插板可灵活取放所述密封箱内物品。
本发明具有以下有益效果：
1、本发明通过设置具有双层门结构的检修门，在密封箱箱体内部空腔和大气压外界环境之间设置泄漏缓冲空间；确保密封箱操作空间中的纯净度，有效隔断由于缝隙或是细微扩散存在而可能出现的外部物质泄漏侵入，气体纯度得到有效控制；
2、本发明通过设置泄漏缓冲空间，且在空间内设置真空表和真空阀门，保持密封箱里的水氧杂质低于1PPM；
3、本发明设置的泄漏缓冲空间可以有效隔断由于缝隙或是细微扩散存在而可能出现的箱体内有害物质泄漏出，保持密封箱外的大气不受污染；
4、本发明为本领域的技术进步拓展了空间，实施效果好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图；
图1是本发明实施例提供的一种检修门结构示意图；
图中示例表示为：
1-检修门；11-内门；12-外门；13-泄露缓冲室；2-密封箱；3-疏导槽；4-密封圈；31-第一阶梯；311-第一疏导槽；32-第二阶梯；321-第二疏导槽；41-第一密封圈；42-第二密封圈。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种检修门1，如图1所示，固定于密封箱2的侧面；在本发明可选的实施例中，检修门1可以固定于密封箱2的任一安装面。
在本发明实施例中，检修门1包括内门11和外门12，内门11设置于面向密封箱2内部腔体的一侧；内门11和外门12的边缘处分别与密封箱2的安装面密封可开闭连接，在内门11和外门12之间形成有泄露缓冲室13。
需要说明的是，密封箱2的外门12和内门11可以为透明材料如防辐射玻璃，也可以选择非透明材料，如不锈钢板。
具体地，密封箱2的安装面上开设有疏导槽3，疏导槽3外贴合有密封圈4，检修门1的边缘处通过密封圈4与密封箱2的安装面密封可开闭连接。
进一步地，疏导槽3面向所述密封箱内部空腔的一侧设置为阶梯状结构；阶梯状结构至少包括第一阶梯31、第二阶梯32以及位于第一阶梯31的第一疏导槽311和位于第二阶梯32的第二疏导槽321；
第一疏导槽311外贴合有第一密封圈41，第二疏导槽321外贴合有第二密封圈42，内门11和外门12的边缘处分别抵接于第一密封圈41和第二密封圈42。
在本发明实施例中，安装面上分布有两组对应分布的密封圈4，每组密封圈包括在安装面的高度方向上对称设置，数量为两个。
具体地，两个对应分布的密封圈4包括第一密封圈41和第二密封圈42，第一密封圈41和第二密封圈42分别设置于密封箱2顶部和底部相对的两个安装面；
内门11和外门12分别抵接于第一密封圈41的侧面和第二密封圈42的侧面，内门11和外门12之间形成泄漏缓冲空间13。
在本发明实施例中，泄露缓冲室13内填充有预设压力的高纯度惰性气体；预设的压力可以为1ppm；在其他可选的状态下，泄漏缓冲空间也可以呈真空状态。
在本发明实施例中，泄漏缓冲室内还设置有气压检测装置，具体地，气压检测装置为一种电容型压力传感器，包括底电极、顶电极、第一介电薄膜层、第二介电薄膜层及两个支撑部；
第一介电薄膜层、第二介电薄膜层、两个支撑部均位于底电极与顶电极之间，两个支撑部位于底电极的两端，第一介电薄膜层位于第二介电层与顶电极之间。
在本发明实施例中，电容型压力传感器也可以在气流的水平方向上平行设置多组或者设置螺旋形结构气流通道，在气流的螺旋形流动方向上间隔预设距离的电容型压力传感器。
另一方面，本发明实施例还提供了密封箱2，包括主箱体，所述主箱体包括箱体、前板、后板、侧板、视窗、真空表、真空电器插座、真空阀门，密封箱还包括设置于箱体上的如上述的检修门1。
可选地，检修门1设置于密封箱2的前板。在其他可选的实施例中，检修门也可以设置在密封箱2的后板或者侧板上。
进一步地，泄漏缓冲空间13内设置有真空表、真空阀门、插板；
其中，真空阀门用于对所述泄漏缓冲空间内充气。
在其他可选的实施例中，密封箱2还包括过渡舱，过渡舱用于转移材料和设备进出密封箱。
其中，箱体和过渡舱之间装置有真空密封垫，同时通过连接件连接组装。
可选地，箱体与过渡舱通过螺栓连接，并在连接处用密封圈密封。
过渡舱可根据用户要求装在主箱体左右任一面，而有视窗和手套接口箱体箱体前后都可，视窗分为前视窗、后视窗，可多人同时使用。
具体地，检修门包括把手、顶杆、压杆、平衡块。
进一步地，密封箱还包括活动插班，抽动所述活动插板可灵活取放所述密封箱内物品。
在其他可实施的方式中，检修门的泄露缓冲室还可以适用于观察窗中；观察窗双层门体为透明材质。
本发明具有以下有益效果：
1、本发明通过设置具有双层门结构的检修门，在密封箱箱体内部空腔和大气压外界环境之间设置泄漏缓冲空间；确保密封箱操作空间中的纯净度，有效隔断由于缝隙或是细微扩散存在而可能出现的外部物质泄漏侵入，气体纯度得到有效控制；
2、本发明通过设置泄漏缓冲空间，且在空间内设置真空表和真空阀门，保持密封箱里的水氧杂质低于1PPM；
3、本发明设置的泄漏缓冲空间可以有效隔断由于缝隙或是细微扩散存在而可能出现的箱体内有害物质泄漏出，保持密封箱外的大气不受污染；
4、本发明为本领域的技术进步拓展了空间，实施效果好。
上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再一一赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种检修门，固定于密封箱的任一安装面，其特征在于，所述检修门包括内门和外门，所述内门设置于面向所述密封箱内部腔体的一侧；
所述内门和外门的边缘处分别与所述密封箱的安装面密封可开闭连接，在所述内门和外门之间形成有泄露缓冲室。
2.根据权利要求1所述的检修门，其特征在于，所述密封箱的安装面上开设有疏导槽，所述疏导槽外贴合有密封圈，所述检修门的边缘处通过所述密封圈与所述密封箱的安装面密封可开闭连接。
3.根据权利要求2所述的检修门，其特征在于，所述疏导槽面向所述密封箱内部空腔的一侧设置为阶梯状结构；所述阶梯状结构至少包括第一阶梯、第二阶梯以及位于所述第一阶梯的第一疏导槽和位于所述第二阶梯的第二疏导槽；
所述第一疏导槽外贴合有第一密封圈，所述第二疏导槽外贴合有第二密封圈，所述内门和外门的边缘处分别抵接于所述第一密封圈和所述第二密封圈。
4.根据权利要求2所述的检修门，其特征在于，所述安装面上至少分布有两个密封圈，所述两个密封圈在安装面的高度方向上对称设置。
5.根据权利要求4所述的检修门，其特征在于，所述两个对应分布的密封圈包括第一密封圈和第二密封圈，所述第一密封圈和第二密封圈分别设置于所述密封箱顶部和底部相对的两个安装面；
所述内门和所述外门分别抵接于所述第一密封圈的侧面和第二密封圈的侧面，所述内门和所述外门之间形成泄漏缓冲空间。
6.根据权利要求1所述的密封箱，其特征在于，所述泄露缓冲室内填充有预设压力的高纯度惰性气体或呈真空状态。
7.根据权利要求1所述的密封箱，其特征在于，所述泄漏缓冲室内设置有气压检测装置。
8.根据权利要求7所述的密封箱，其特征在于，所述泄漏缓冲室所述气压检测装置为电容型压力传感器，其特征在于，所述压力传感器包括包括底电极、顶电极、第一介电薄膜层、第二介电薄膜层及两个支撑部；
所述第一介电薄膜层、第二介电薄膜层、两个支撑部均位于所述底电极与所述顶电极之间，所述两个支撑部位于所述底电极的两端，所述第一介电薄膜层位于所述第二介电层与所述顶电极之间。
9.一种密封箱，包括主箱体，所述主箱体包括箱体、前板、后板、侧板、视窗、真空表、真空电器插座、真空阀门，其特征在于，所述密封箱还包括设置于所述箱体上的如权利要求1-8任意一项所述的检修门。
10.根据权利要求9所述的密封箱，其特征在于，所述检修门设置于所述密封箱的前板、后板或侧板上；
所述泄漏缓冲空间内设置有真空表、真空阀门、插板；
所述真空阀门用于对所述泄漏缓冲空间内充气。
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| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: No. 58, Tingtao Road, Suzhou Industrial Park, Jiangsu 215000 Applicant after: Weige Technology (Suzhou) Co.,Ltd. Applicant after: CHINA NUCLEAR POWER ENGINEERING Co.,Ltd. Address before: 215000 No.18 Pingsheng Road, Suzhou Industrial Park, Jiangsu Province Applicant before: VIGOR GAS PURIFICATION TECHNOLIGIES, Inc. Applicant before: CHINA NUCLEAR POWER ENGINEERING Co.,Ltd. |
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20191115 |