CN110350101A - 镜面oled显示装置和镜面oled显示装置的制作方法 - Google Patents

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Abstract

一种镜面OLED装置和一种镜面OLED装置的制作方法，包括运用两种不同的材料在有机膜层上制作透明阴极和反射阴极，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且所述反射阴极的边缘与所述透明阴极之边缘相接，因此，整体阴极的导电性增加，所述方法制造出的镜面OLED显示装置具有不互相干扰的显示功能以及反射功能，且实现了柔性、大尺寸且可做成各种形状的OLED镜面显示装置。

Description

镜面OLED显示装置和镜面OLED显示装置的制作方法
技术领域
本发明涉及一种显示领域技术，尤其涉及一种镜面有机发光二级体显示装置和一种镜面有机发光二级体显示装置的制作方法。
背景技术
随着显示技术的快速发展，各种新型技术不断涌现，具有多功能的显示装置已成为人们追求的目标之一。目前，市场上出现的镜面显示装置由于能同时实现显示功能和镜子功能，得到广泛的应用。镜面显示是指使用者在使用镜子的同时，能从作为镜子的显示器中看到显示画面，从而满足人们的多种需求。例如公共场所广告显示屏，车载后视镜，ATM取款机显示屏等。
现有技术中，同时具有显示功能和镜子功能的显示器主要分为两种，一为半反半透型的显示装置，缺点为周遭环境亮度过高时，显示屏会同时显示透射区以及显示区的图像，降低了画质的鲜明度；另一种为显示面和镜面分开的外挂式显示装置，此种显示装置的制作难度高，且不容易制作成柔性或各种形状的镜面显示装置。
发明内容
鉴于现有技术的不足，本发明提供了一种有机发光二级体(organic lightemitting diode,OLED)镜面显示装置及其制作方法，在制作OLED的阴极时采用精细金属屏蔽制程在有机膜层上分别制作透明阴极和反射阴极，且所述反射阴极之两边缘和两个所述透明阴极之边缘相接，从而增加整体阴极的导电性，本发明所提供之镜面OLED显示装置之显示功能与反射功能不会互相干扰，且制作工艺简单，可以做成柔性、大尺寸和各种形状的镜面显示装置。
本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种镜面OLED显示装置，包括：一薄膜电晶体(thin filmtransistor,TFT)基板，所述TFT基板包括多个像素发光点；一阳极，设置于所述TFT基板上；一有机膜层，设置于所述阳极上；至少一个透明阴极，设置于所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域；至少一个反射阴极，设置于所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域以外的区域；一封装层，设置于所述透明阴极和所述反射阴极之上。
在本发明的至少一个实施例中，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且反射阴极的边缘和所述透明阴极之边缘相接。
在本发明的至少一个实施例中，所述透明阴极的材料为镁、银之至少一种。
在本发明的至少一个实施例中，所述反射阴极的材料为铝、银之至少一种。
在本发明的至少一个实施例中，所述有机膜层还包括：一空穴注入层，设置于所述阳极之上；一空穴传输层，设置于所述空穴注入层之上；一发光层，设置于所述空穴传输层之上对应所述像素发光点的区域；一电子传输层，设置于所述发光层之上；一电子注入层，设置于所述电子传输层之上。
本发明还提供一种镜面OLED显示装置的制作方法，其步骤包括：
S1、在一TFT基板形成多个像素发光点；
S2、在所述TFT基板上依序制作阳极和有机膜层；
S3、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域制作透明阴极；
S4、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域以外的区域制作反射阴极；
S5、封装所述TFT基板。
在本发明的至少一个实施例中，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且所述反射阴极的边缘与所述透明阴极之边缘相接。
在本发明的至少一个实施例中，所述透明阴极的材料为镁、银之至少一种，其中，所述反射阴极的材料为铝、银之至少一种。
在本发明的至少一个实施例中，所述透明阴极与所述反射阴极的制作方式为精细金属屏蔽制程。
在本发明的至少一个实施例中，所述步骤S2中所述制作有机膜层的方式包括：
S21、蒸镀一空穴注入层于所述阳极之上；
S22、蒸镀一空穴传输层于所述空穴注入层之上；
S23、蒸镀一发光层于所述空穴传输层之上对应所述像素发光点的区域；
S24、蒸镀一电子传输层于所述发光层之上；
S25、蒸镀一电子注入层于所述电子传输层之上。
本发明的有益效果为：本发明提供镜面OLED制造方法所制造的镜面OLED显示装置采用正常的OLED制作流程，不同点在于，在制作OLED的阴极时采用精细金属屏蔽制程分别在有机膜层上对应发光像素点的区域制作透明阴极；在有机膜层上对应发光像素点的区域以外的区域制作反射阴极，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且所述反射阴极的边缘和所述透明阴极之边缘相接，从而增加整体阴极的导电性，本发明所提供之镜面OLED装置之显示功能与反射功能不会互相干扰，制作工艺简单，且可以做成柔性、大尺寸和各种形状的镜面显示装置。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明第一实施例中之镜面OLED显示装置的层状结构示意图。
图2为本发明第一实施例中之镜面OLED显示装置的俯视图。
图3为本发明第二实施例中之镜面OLED显示装置制作方法的步骤流程图。
图4为本发明第二实施例中，完成步骤S1后的OLED显示装置的俯视图。
图5为本发明第二实施例中，步骤S2的有机膜层的制作步骤流程图。
图6为本发明第二实施例中，完成步骤S2后的镜面OLED显示装置的层状结构示意图。
图7为本发明第二实施例中，完成步骤S3后的镜面OLED显示装置的层状结构示意图。
图8为本发明第二实施例中，完成步骤S4后的镜面OLED显示装置的层状结构示意图。
图9为本发明第二实施例中，完成步骤S5后的镜面OLED显示装置的层状结构示意图。
实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术之镜面显示装置中，半反半透式显示装置的显示功能与反射功能会互相干扰，以及外挂式镜面显示装置不容易制作成柔性、大尺寸和各种形状的镜面显示装置技术问题，本实施例能够解决所述技术问题。
为了更加清楚地叙述本发明，第一实施例与第二实施例均将像素发光点所对应的区域定义为发光区A1，TFT基板中所述发光区A1以外的区域定义为反射区A2。
第一实施例
如图1、图2所示，本实施例提供一种镜面OLED显示装置，包括：一TFT基板10，所述TFT基板包括许多像素发光点11；一阳极(图未标示)，设置于所述TFT基板10上；一有机膜层12，设置于所述阳极(图未标示)上；两个透明阴极13，设置于所述有机膜层12上的所述发光区A1内；一个反射阴极14，设置于所述有机膜层12上的所述反射区A2内。
具体的，如图1所示，所述有机膜层12还可以细分为空穴注入层121、空穴传输层122、发光层123、电子传输层124以及电子注入层125，其中，所述发光层123只蒸镀在所述空穴传输层122之上的所述发光区A1内。
具体的，所述反射阴极14与所述透明阴极13交替设置，且所述反射阴极14的边缘与所述透明阴极13之边缘相接。因此，整体阴极的导电性增加，且所述镜面OLED显示装置的显示功能以及反射功能不会互相干扰。
具体的，所述透明阴极13的材料可为镁、银或其他透明金属氧化物等透明导电金属材料之至少一种。
具体的，所述反射阴极14的材料为铝、银等高反射性导电金属材料之至少一种。
具体的，所述镜面OLED显示装置还包括一层封装层15设置在所述透明阴极13和所述反射阴极14之上，本实施例的封装方式可为柔性封装、盖板封装或是其他的封装结构。
具体的，本实施例之镜面OLED显示装置，运用两种不同的材料分别制作出透明阴极13、反射阴极14，所述反射阴极14与所述透明阴极13交替设置，且所述反射阴极14的边缘分别与所述透明阴极13之边缘相接。因此，整体阴极的导电性增加，且所述镜面OLED显示装置的显示功能以及反射功能不会互相干扰，实现了同时具有显示功能和反射功能的高品质镜面OLED显示装置。
第二实施例
如图3所示，本实施例提供一种镜面OLED显示装置的制作方法，其步骤包括：
S1、在一TFT基板形成多个像素发光点；
S2、在所述TFT基板上依序制作阳极和有机膜层；
S3、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域制作透明阴极；
S4、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域外的区域制作反射阴极；
S5、封装所述TFT基板。
具体的，如图4所示，在TFT基板10上形成许多像素发光点11之后，所述像素发光点11对应的区域为所述发光区A1，所述发光区A1为本实施例镜面OLED显示装置的制作方法制作出的镜面OLED显示装置的发光区域；所述TFT基板10中所述发光区A1以外的区域为所述反射区A2，所述反射区A2为本实施例镜面OLED显示装置的制作方法制作出的镜面OLED显示装置的反射区域。
具体的，如图5和图6所示，所述步骤S2中制作所述有机膜层的方式包括：
S21、蒸镀一空穴注入层于所述阳极之上；
S22、蒸镀一空穴传输层于所述空穴注入层之上；
S23、蒸镀一发光层于所述空穴传输层之上的所述发光区A1内；
S24、蒸镀一电子传输层于所述发光层之上；
S25、蒸镀一电子注入层于所述电子传输层之上。
具体的，所述S3如图7所示，透明阴极13被制作在所述有机膜层12之上的所述发光区A1内，其中，所述透明阴极13的材料可为镁、银或其他透明金属氧化物等透明导电金属材料之至少一种，因此，光可以穿透所述发光区A1进而实现显示的效果。
具体的，所述透明阴极13的制作方式为精细金属屏蔽制程。
具体的，所述S4如图8所示，反射阴极14被制作在所述有机膜层12之上的反射区A2内，其中，所述反射阴极14的材料为铝、银等高反射性导电金属材料之至少一种，因此，所述反射区A2能够反射光线。
具体的，所述反射阴极14的制作方式为精细金属屏蔽制程。
具体的，所述反射阴极14与所述透明阴极13交替设置，且所述反射阴极14的边缘与所述透明阴极13之边缘相接。因此，整体阴极的导电性增加，且本实施例制作出的镜面OLED显示装置的显示功能以及反射功能不会互相干扰。
具体的，所述S5之封装方式可为柔性封装、盖板封装或是其他的封装结构，封装完成后的结构如图9所示，封装层15沉积在所述透明阴极13以及所述反射阴极14之上。
有益效果为：本发明提供镜面OLED制造方法，在制作OLED的阴极时采用精细金属屏蔽制程分别在发光区上制作透明阴极；在非发光区制作反射阴极，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且所述反射阴极的边缘与所述透明阴极之边缘相接，从而增加整体阴极的导电性，本发明所提供之镜面OLED装置之显示功能与反射功能不会互相干扰，制作工艺简单，且可以做成柔性、大尺寸和各种形状的镜面显示装置。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种镜面OLED显示装置，包括：
一TFT基板，所述TFT基板包括多个像素发光点；
一阳极，设置于所述TFT基板上；
一有机膜层，设置于所述阳极上；
至少一个透明阴极，设置于所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域；
至少一个反射阴极，设置于所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域以外的区域；
一封装层，设置于所述透明阴极和所述反射阴极之上。
2.根据权利要求1所述之镜面OLED显示装置，其中，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且反射阴极的边缘和所述透明阴极之边缘相接。
3.根据权利要求1所述之镜面OLED显示装置，其中，所述透明阴极的材料为镁、银之至少一种。
4.根据权利要求1所述之镜面OLED显示装置，其中，所述反射阴极的材料为铝、银之至少一种。
5.根据权利要求1所述之镜面OLED显示装置，其中，所述有机膜层还包括：
一空穴注入层，设置于所述阳极之上；
一空穴传输层，设置于所述空穴注入层之上；
一发光层，设置于所述空穴传输层之上对应所述像素发光点的区域；
一电子传输层，设置于所述发光层之上；
一电子注入层，设置于所述电子传输层之上。
6.一种镜面OLED显示装置的制作方法，其步骤包括：
S1、在一TFT基板形成多个像素发光点；
S2、在所述TFT基板上依序制作阳极和有机膜层；
S3、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域制作透明阴极；
S4、在所述有机膜层上对应所述像素发光点的区域以外的区域制作反射阴极；
S5、封装所述TFT基板。
7.根据权利要求6所述之镜面OLED显示装置制作方法，其中，所述反射阴极与所述透明阴极交替设置，且所述反射阴极的边缘与所述透明阴极之边缘相接。
8.根据权利要求6所述之镜面OLED显示装置制作方法，其中，所述透明阴极的材料为镁、银之至少一种；
其中，所述反射阴极的材料为铝、银之至少一种。
9.根据权利要求6所述之镜面OLED显示装置制作方法，其中，所述透明阴极与所述反射阴极的制作方式为精细金属屏蔽制程。
10.根据权利要求6所述之镜面OLED显示装置制作方法，其中，所述步骤S2中所述制作有机膜层的方式还包括：
S21、蒸镀一空穴注入层于所述阳极之上；
S22、蒸镀一空穴传输层于所述空穴注入层之上；
S23、蒸镀一发光层于所述空穴传输层之上对应所述像素发光点的区域；
S24、蒸镀一电子传输层于所述发光层之上；
S25、蒸镀一电子注入层于所述电子传输层之上。
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