CN110302697A - 锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置 - Google Patents

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王贤超
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Abstract

本发明提供一种锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,所述锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有开口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构。本发明不仅可以降低工人的劳动强度,而且能够实现均匀下料。

Description

锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置
技术领域
本发明属于陶瓷砖生产过程釉料加工技术领域,涉及一种干粒釉加工搅拌装置,特别涉及一种锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置。
背景技术
随着陶瓷生产技术的不断提高,全抛干粒釉产品开始迈向市场,干粒釉产品较传统的抛釉砖无论是镜面效果还是透感,都优于传统的抛釉砖,而对于干粒全抛产品中主要涉及干法与湿法的生产工艺,而对于湿法工艺中,其所使用的干粒釉干重量比干法要少的多,因此生产成本也较干法工艺生产要低。但是湿法工艺生产中涉及到干粒釉的加工工序,在干粒釉的制备过程中为了保证釉料具有良好的悬浮性能,需要将胶水、釉粉、水以及干粒熔块按照一定的比例混合,如果使用传统的釉料加工搅拌装置,不仅劳动强度大,而且加工效率也比较低,为了提高加工的效果,其需开发新的湿法干粒釉加工设备。
使用传统的釉料加工搅拌装置对湿法全抛干粒釉进行加工,其要事先使用分散机将釉料与水、胶水混均,然后再倒入搅拌机与干粒熔块混合,而在此加工过程需要人工倒入釉粉,其不仅劳动强度大、效率低,而且耗时长。此外,传统的干粒釉加工装置,其倾倒干粒熔块的方式是使用人工倾倒,效率比较低。
发明内容
鉴于上述问题,本发明目的在于提供一种锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,不仅可以降低工人的劳动强度,而且能够实现均匀下料。
为此,本发明提供的一种锥形钟罩,所述锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有开口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构。
根据本发明,钟罩内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构,由此在工作过程中从开口投入的料在凹陷部填满后,会往四周倾泻,使得倾倒的料能均匀地从四周落下。
也可以是,本发明中,所述外层与内层之间的间隔为200~260mm。间隔过大会使下料过快,易造成局部干粒过多沉淀;因为搅拌叶并不是与搅拌缸内壁零接触的,因此,如果间隔太小易使下落的干粒粘在搅拌缸的壁上。
也可以是,本发明中,所述锥形钟罩的倾斜角度为45°~50°。在该角度既可以保证钟罩框架的稳定性,同时也满足倾倒量能快速下落。
另一方面,本发明还提供一种具备上述锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,包括:
搅拌缸;
设于所述搅拌缸内的搅拌主轴及安装于所述搅拌主轴上的搅拌叶,所述搅拌主轴由电机驱动旋转;
设于所述搅拌缸的上方的锥形钟罩,所述锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有投料口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构,投入的料在凹陷部填满时往四周倾泻。
根据本发明,锥形钟罩的双层结构不仅能防止在干粒熔块倾倒过程中产生的粉尘,还避免倾倒中熔块过于集中,使得釉缸中局部干粒熔块沉淀过大出现阻碍搅拌叶运转的现象。内层顶部具备凹陷部的圆锥状结构的存在是:当在工作过程中凹陷部填满后,其后面的干粒熔块会往四周倾泻,使得倾倒的干粒熔块能从均匀地四周落下,防止釉缸中由于干粒熔块下落过快而造成的局部沉淀现象。
也可以是,本发明中,所述搅拌叶包括上层搅拌叶和下层搅拌叶,所述上层搅拌叶与所述下层搅拌叶形成为倾斜角度相反的结构。
根据本发明,在搅拌装置中改变了搅拌叶的形状,极大限度降低搅拌过程中干粒釉料对搅拌叶阻碍所产生的能耗,还提高了搅拌混合的均匀性。搅拌叶上下层结构采用互为相反的倾斜角度,利于在搅拌过程中产生螺旋旋涡状,使得混料效果更加地均匀。
也可以是,本发明中,还具备设于所述下层搅拌叶底部的辅助搅拌叶。
根据本发明,能有效防止在搅拌过程中底部沉淀的现象。
也可以是,本发明中,还具备将干粒熔块直接吊起倒入所述搅拌缸中的起重机构。
根据本发明,不仅降低了员工的劳动强度,还加快了加工工序中所需的时间,大大提高了工作效率,降低生产成本。
也可以是,本发明中,还具备配置于所述搅拌缸的出料口的电动蝶阀。
根据本发明,有利于将搅拌缸中的尽数放出。
也可以是,本发明中,所述搅拌缸的底部与水平夹角为10°~20°。
根据本发明,能有效地提高搅拌的效率,由于在搅拌叶工作过程中比起水平的或是局部倾斜更加有搅拌的动力,其形成的螺旋状搅拌旋涡能减少能耗。
附图说明
图1示出了本发明的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置的一实施形态的结构示意图;
图2是图1所示搅拌装置的俯视图;
图3是图1所示搅拌装置中电动葫芦的结构示意图;
图4是图1所示搅拌装置中锥形钟罩的结构示意图;
图5是图1所示搅拌装置中的搅拌叶顺时针旋转的结构示意图;
附图标记:
1、电动葫芦;
2、锥形钟罩;
3、搅拌主轴;
4、电机;
5、下层搅拌叶;
6、上层搅拌叶;
7、固定梁;
8、电机连接座;
9、搅拌缸;
10、电动蝶阀;
51、辅助搅拌叶。
具体实施方式
以下结合附图和下述实施方式进一步说明本发明,应理解,附图和下述实施方式仅用于说明本发明,而非限制本发明。
本申请在此公开了一种锥形钟罩及具备锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,能够实现均匀下料。
具体地,图4示出了锥形钟罩的结构示意图。如图4所示,锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有开口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构。由此在工作过程中从开口投入的料在凹陷部填满后,会往四周倾泻,使得倾倒的料能均匀地从四周落下。
图1示出了具备上述锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置的一实施形态。如图1所示,该湿法全抛干粒釉加工搅拌装置包括搅拌缸9;设于搅拌缸9内的搅拌主轴3及安装于搅拌主轴3上的搅拌叶,搅拌主轴3由电机4驱动旋转。电机4可安装于电机连接座8。电机4可以是摆线针电机(配置电频),采用摆线针电机能有效地防止漏油污染釉料,而且其运转平稳,过载能力强,振动和噪音低。
该搅拌装置还包括设于搅拌缸9的上方的锥形钟罩2,锥形钟罩2形成为双层结构,外层的上部形成有投料口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构,投入的料在凹陷部填满时往四周倾泻。在搅拌缸9的上方固定梁7的正下方安置有一横杠固定杆,电机4及其电机连接座8固定于该固定杆,锥形钟罩2中心与电机4中心在同一直线上。锥形钟罩2位于电机4上方。具体地,锥形钟罩2的内层圆锥状结构位于电机4的上方。
由此,锥形钟罩的双层结构不仅能防止在干粒熔块倾倒过程中产生的粉尘,还避免倾倒中熔块过于集中,使得釉缸中局部干粒熔块沉淀过大出现阻碍搅拌叶运转的现象。内层顶部具备凹陷部的圆锥状结构的存在是:当在工作过程中凹陷部填满后,其后面的干粒熔块会往四周倾泻,使得倾倒的干粒熔块能均匀地从四周落下,防止釉缸中由于干粒熔块下落过快而造成的局部沉淀现象。并且,由于该凹陷部的存在也不需要提前将釉粉与水搅拌均匀,可直接同时加入到设备中,减少工序的加工时间。凹陷部高度可在120~150mm,可以方便后期将凹陷处的干粒熔块掏出。本实施形态中,凹陷部高度例如为120mm。
进一步而言,锥形钟罩2的外层与内层之间的间隔为200~260mm。在本实施形态中,例如可为260mm。此外,锥形钟罩的倾斜角度为45°~50°在该角度既可以保证钟罩框架的稳定性,同时也满足倾倒量能快速下落。在本实施形态中,例如可为45°。
如图1和图5所示,搅拌叶可包括上层搅拌叶6和下层搅拌叶5,上层搅拌叶6与下层搅拌叶5形成为倾斜角度相反的结构。由此,可使得下层的干粒釉顺时针螺旋上升时,上层的搅拌逆时针搅拌,使得下层的干粒釉更加充分地被搅匀,而且在该方式的搅拌转动过程中能有效降低与干粒熔块间的摩擦,提高搅拌的效果,使得干粒釉混合得更加地均匀。具体地,本实施形态中,下层搅拌叶5与水平夹角为30°,上层搅拌叶6与水平夹角为120°。
此外,还如图1所示,该搅拌装置还具备设于下层搅拌叶5底部的辅助搅拌叶51。由此能有效防止在搅拌过程中底部沉淀的现象。
另外,还如图1所示,该搅拌装置还具备配置于搅拌缸9的出料口的电动蝶阀10。由此,有利于将搅拌缸中的尽数放出。又,搅拌缸9的底部与水平夹角为10°~20°能有效地提高搅拌的,由于在搅拌叶工作过程中比起水平的或是局部倾斜更加有搅拌的动力,其形成的螺旋状搅拌旋涡能减少能耗。具体地,在本实施形态中,搅拌缸9的底部与水平夹角为10°。
如图1和图2所示,该搅拌装置还具备将干粒熔块直接吊起倒入所述搅拌缸中的起重机构。该起重机构例如可以是安装于固定梁7的电动葫芦1,电动葫芦可采用现有的装置,通过遥控控制电动葫芦,将干粒熔块吊起后送至搅拌缸上方处。具体地,通过电动葫芦1将干粒釉料提升至锥形钟罩2上方,在上方入口倾倒。通过配合电动葫芦的方式将上吨的干粒熔块直接吊起倒入搅拌装置中,在此工作条件下,不仅降低了员工的劳动强度,还加快了加工工序中所需的时间,原本一天加工5t干粒釉料需要8h,使用本发明8h可加工15t的干粒釉,大大提高了工作效率,降低生产成本。
在不脱离本发明的基本特征的宗旨下,本发明可体现为多种形式,因此本发明中的实施形态是用于说明而非限制,由于本发明的范围由权利要求限定而非由说明书限定,而且落在权利要求界定的范围,或其界定的范围的等价范围内的所有变化都应理解为包括在权利要求书中。

Claims (9)

1.一种锥形钟罩,其特征在于,所述锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有开口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构。
2.根据权利要求1所述的锥形钟罩,其特征在于,所述外层与内层之间的间隔为200~260mm。
3.根据权利要求1或2所述的锥形钟罩,其特征在于,所述锥形钟罩的倾斜角度为45°~50°。
4.一种具备根据权利要求1至3中任一项所述的锥形钟罩的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,包括:
搅拌缸;
设于所述搅拌缸内的搅拌主轴及安装于所述搅拌主轴上的搅拌叶,所述搅拌主轴由电机驱动旋转;
设于所述搅拌缸的上方的锥形钟罩,所述锥形钟罩形成为双层结构,外层的上部形成有投料口,内层形成为顶部具备凹陷部的圆锥状结构,投入的料在凹陷部填满时往四周倾泻。
5.根据权利要求4所述的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,所述搅拌叶包括上层搅拌叶和下层搅拌叶,所述上层搅拌叶与所述下层搅拌叶形成为倾斜角度相反的结构。
6.根据权利要求5所述的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,还具备设于所述下层搅拌叶底部的辅助搅拌叶。
7.根据权利要求4至6中任一项所述的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,
还具备将干粒熔块直接吊起倒入所述搅拌缸中的起重机构。
8.根据权利要求4至7中任一项所述的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,还具备配置于所述搅拌缸的出料口的电动蝶阀。
9.根据权利要求4至7中任一项所述的湿法全抛干粒釉加工搅拌装置,其特征在于,所述搅拌缸的底部与水平夹角为10°~20°。
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