CN110253091A - 一种齿轮轮廓的抛光机构 - Google Patents

Abstract

公开了一种齿轮轮廓的抛光机构，本发明解决了不能对齿轮轮廓进行精加工抛光的难题，该齿轮轮廓的抛光机构包括底座，底座上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统，能够加工出具有超光滑表面,它利用梯度磁场使抛光工具和齿轮轮廓表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化,使轮廓表面与磁流变液接触的区域产生较大的剪切力,以此来去除齿轮轮廓表面材料,同时不会对齿轮工件产生亚表层的破坏，该机构不仅可以确定性地对齿轮元件的面形进行修正,而且还可以获得较高的抛光效率和表面粗糙度。

Description

一种齿轮轮廓的抛光机构

技术领域

本发明涉及机床领域，更具体地讲，涉及一种齿轮轮廓的抛光机构。

背景技术

经过高度精加工的齿轮齿面主要用于动态高负荷齿轮和高速发动机齿轮箱中的齿轮，这些广泛应用于包括汽车，航空航天，机床，船舶，钢铁加工单元，国防设备和船舶等。每当齿轮齿廓啮合期间负载和速度增加时，就会对其横向相邻齿廓的载荷产生更大的摩擦，这就是导致齿轮齿廓不均匀和未完成啮合条件的原因。由于齿轮复杂的几何形状，齿轮制造和齿廓的精加工是相当大的一份挑战。成品齿轮齿廓的精度要求是提高传动性能、运行性能、使用寿命和减少齿轮箱噪音和振动的根本因素。因此需要齿轮形状精度及其表面质量得到改善，也就是说需要齿轮齿廓均匀的精加工。

通常，精加工抛光是大多数制造齿轮工艺的最后一道工序，以实现所需的表面光洁度和几何精度。齿轮精加工有着传统和非传统的工艺，例如，齿轮磨削，剃齿，珩磨和齿轮研磨主要用于齿轮齿廓精加工行业。但这些过程也有有一些局限性。齿轮磨削是一种昂贵的过程，并且还要求保证抛光效果，避免出现磨削烧伤和横向磨削线，还要杜绝齿轮磨削伤齿轮表面的完整性。

现有技术CN106736879B公开了一种滚轴式磁流变抛光装置，包括机架，载液槽，抛光轴，永磁铁，及传动机构，传动机构只由一个电机驱动，由一对蜗轮蜗杆和一对螺旋齿轮构成，工件固定于装有磁流变液的载液槽内侧面，抛光轴位于载液槽的上部且竖直伸入载液槽中，永磁铁容置于抛光轴内，与抛光轴内表面水平间距为3～5mm，抛光轴的外表面与工件抛光表面的水平距离为3～5mm，载液槽的底面安装有导轨，与导轨配合的滑块设置于机架上，蜗轮带动抛光轴转动，螺旋齿轮带动载液槽在导轨与滑块的配合下作往复直线运动，虽然具有结构紧凑、能量损耗小、控制简单、可实现磁流变液的循环利用，可适用于狭长工件的抛光加工，但是该机构相对复杂，对于齿轮等精密轮齿不能有效的进行配合，仍然不能对齿轮齿廓进行有效抛光，因此，亟需一种齿轮轮廓的抛光机构，以满足实际生产的需要。

发明内容

因此，针对现有技术上存在的不足，提供本发明的示例以基本上解决由于相关领域的限制和缺点而导致的一个或更多个问题，安全性和可靠性大幅度提高，有效的起到保护设备的作用。

按照本发明提供的技术方案，该齿轮轮廓的抛光机构包括底座，底座上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统。

进一步的，抛光系统包括位于底座上的滑动基板，滑动基板上设有抛光夹具，抛光夹具包括与滑动基板滑动配合的底板和位于底板上的左立板和右立板，左立板和右立板平行间隔设置，左立板上设有驱动孔，右立板上与驱动孔的对应位置处设有承载孔，驱动孔和承载孔之间架设有实心转动磁芯，实心转动磁芯穿出右立板，左立板上并且位于驱动孔的正下方设有电机孔，伺服电机的驱动轴穿过电机孔与主动带轮连接，主动带轮通过同步带与位于实心转动磁芯上的从动带轮连接，实心转动磁芯上穿设有绕线筒，绕线筒位于左立板和右立板之间，绕线筒上缠绕有电磁线圈，电磁线圈外套接有冷却套，冷却套上设有冷却嘴口，实心转动磁芯的端部设有抛光工具，抛光工具能够与被抛光齿轮进行抛光操作并且抛光工具与被抛光齿轮的轮齿间具有工作间隙，工作间隙充有MR抛光液。

进一步的，调整系统包括位于底座上的调整座，调整座上设有调整立柱，调整立柱的上部设有穿孔，穿孔中穿设有调整轴，调整轴的一端设有调整柄，调整轴的另一端设有传动件。

进一步的，支持系统包括分度夹具，分度夹具包括位于底座上的夹具基底，夹具基底上设有夹具支持体，夹具支持体上设有两个间隔设置的夹具轴套，两个夹具轴套穿设有从动转杆，从动转杆的一端与传动件配合，从动转杆的另一端连接有被抛光齿轮，从动转杆上设有分度齿轮，分度齿轮位于轴套和调整轴之间。

进一步的，MR抛光液中均匀分布有铁颗粒和SiC磨料颗粒，工作间隙中的磁通密度决定了MR抛光液中铁颗粒的偶极子，铁颗粒的偶极子彼此吸引并在磁通密度区域中形成链结构，链结构的屈服强度在抛光过程期间将活性磨粒保持在抛光工具的表面处。

进一步的，MR抛光液中的铁颗粒和SiC磨料颗粒形成立方体单元型结构，其中，两个SiC磨料颗粒与一个铁颗粒相互作用而对角放置于立方体中，铁颗粒位于立方体的中心，每个SiC磨料颗粒分别相切于立方体的三个平面。

进一步的，有效磨料颗粒区域位于被抛光齿轮的齿轮齿廓的有效磁化表面上，有效磨料颗粒区域的面积随抛光工具的旋转和往复运动的变化而变化。

进一步的，有效磨料颗粒区域是由外部磁场以及抛光工具的外廓表面和MR抛光液共同形成。

进一步的，抛光工具为圆环形抛光刀具，圆环形抛光刀具与实心转动磁芯同心设置。

进一步的，左立板的内侧还设置有定位板，定位板上设有定位孔，定位孔与电机孔同心。

进一步的，通电管穿过冷却套与电磁线圈相通，通电管内设有通电导线，通电导线的一端与电磁线圈连接，另一端与电源组件连接，电磁线圈的材质为铜，冷却嘴口与冷却单元通过冷却管道联通，冷却单元能够保持在-6℃的温度。

进一步的，滑动基板的一端设有驱动体。

本发明解决了不能对齿轮轮廓进行精加工抛光的难题，该齿轮轮廓的抛光机构包括底座，底座上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统，能够加工出具有超光滑表面, 它利用梯度磁场使抛光工具和齿轮轮廓表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化, 使轮廓表面与磁流变液接触的区域产生较大的剪切力, 以此来去除齿轮轮廓表面材料, 同时不会对齿轮工件产生亚表层的破坏，该机构不仅可以确定性地对齿轮元件的面形进行修正, 而且还可以获得较高的抛光效率和纳米级的表面粗糙度。

附图说明

图1为本发明的抛光机构示意图。

图2为本发明的抛光系统示意图。

图3为本发明的工作状态示意图。

图4为本发明的电磁线圈示意图。

图5为本发明的有效磨料颗粒区域示意图。

图6为本发明的区域变化示意图。

图7为本发明的受力状态示意图。

图8为本发明的磨削状态示意图。

图9为本发明的抛光原理过程示意图。

图10为本发明的抛光效果示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。

以下将结合附图所示的具体实施方式对本发明进行详细描述。但这些实施方式并不限制本发明，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。下面结合附图及具体实施例对本发明的应用原理作进一步描述。

磁流变抛光（MRF）的基本原理为：在外加磁场的作用下，磁流变液的粘性瞬间增大，形成具有一定塑性的类固态 Bingham 体（即“磁流变抛光模”），均匀混合在液体中的磨料在磁场作用下以半固着的形式分布于磁流变抛光模表层，在相对工件运动时产生一定的剪切力，从而实现抛光加工。由于磁流变抛光模具有柔性，对工件施加的法向压力极低，磨粒压入工件的深度较浅，低于产生亚表面损伤的深度阈值，主要通过剪切作用去除材料，因此，磁流变抛光在获得超光滑光学表面的同时，几乎不产生亚表面损伤。与传统的抛光方法相比，磁流变抛光技术具有明显的优点：

1、能获得超光滑的光学表面且不损伤工件亚表面；

2、加工时，磁流变液可通过循环实现切屑过滤以及流体的冷却，同时磨粒不断更新，有助于获得稳定去除函数；

3、在稳定磁场控制下，磁流变硬化抛光工具不会变钝或变形。

如附图1所示的那样，本发明的齿轮轮廓的抛光机构包括底座1，底座1上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统。

抛光系统包括位于底座1上的滑动基板2，滑动基板2上设有抛光夹具3，抛光夹具3包括与滑动基板2滑动配合的底板和位于底板上的左立板和右立板，左立板和右立板平行间隔设置，左立板上设有驱动孔，右立板上与驱动孔的对应位置处设有承载孔，驱动孔和承载孔之间架设有实心转动磁芯4，实心转动磁芯穿出右立板，左立板上并且位于驱动孔的正下方设有电机孔，伺服电机的驱动轴穿过电机孔与主动带轮连接，主动带轮通过同步带与位于实心转动磁芯上的从动带轮连接，实心转动磁芯上穿设有绕线筒，绕线筒位于左立板和右立板之间，绕线筒上缠绕有电磁线圈，电磁线圈外套接有冷却套，冷却套上设有冷却嘴口，实心转动磁芯的端部设有抛光工具5，抛光工具5能够与被抛光齿轮进行抛光操作并且抛光工具5与被抛光齿轮的轮齿间具有工作间隙，工作间隙充有MR抛光液。

调整系统包括位于底座1上的调整座6，调整座6上设有调整立柱7，调整立柱7的上部设有穿孔，穿孔中穿设有调整轴，调整轴的一端设有调整柄，调整轴的另一端设有传动件；

支持系统包括分度夹具8，分度夹具8包括位于底座1上的夹具基底，夹具基底上设有夹具支持体，夹具支持体上设有两个间隔设置的夹具轴套，两个夹具轴套穿设有从动转杆，从动转杆的一端与传动件配合，从动转杆的另一端连接有被抛光齿轮，从动转杆上设有分度齿轮，分度齿轮位于轴套和调整轴之间。

图3a为传统的圆盘齿轮磨削示意图。图3b为本发明的磨削示意图，在使用该抛光机构过程中，MR抛光液作用于工作间隙中以完成齿轮齿廓的抛光。使用该抛光机构完成渐开线齿轮轮廓抛光的示意图如图3c所示。该抛光机构用于使用加强的MR抛光液在齿轮齿的左右轮廓表面上进行均匀精加工抛光。基于磁性齿轮工具的左侧和右侧轮廓上的均匀磁场分布，该抛光机构被设计成使得其能够在齿轮齿的左右轮廓表面上均等地进行精加工。

根据的抛光工具的影响程度，工作间隙中的磁通密度分布和被抛光齿轮齿廓上的有效磁化表面积的综合考量，最终获得的抛光工具的图示如图4所示。对于较高的磁通密度，电磁线圈是根据输入参数的不同组合选择的，例如每安培匝数、芯材的相对磁导率和线线的尺寸等。电磁线圈的材质为铜，并且铜线的电阻是尽可能低，这会有助于增加电磁线圈的功能时间。为了保持铜线圈上的低温，在电磁线圈周围缠绕冷却套，这可以防止电磁线圈的过热。电磁线圈通电，被抛光齿轮的齿廓、工作间隙的MR抛光液和抛光工具磁化。Bio-savart定律用于计算所提出被抛光齿轮表面和工作间隙中的磁场强度。在这个定律中，对单匝线圈在任意点“O”处围绕磁芯心的中心轴定位，用于计算自由空间中任意点P（x，y，z）处的磁场强度。

附图5c所示，MR抛光液中均匀分布有铁颗粒和SiC磨料颗粒，工作间隙中的磁通密度决定了MR抛光液中铁颗粒的偶极子，铁颗粒的偶极子彼此吸引并在磁通密度区域中形成链结构，链结构的屈服强度在抛光过程期间将活性磨粒保持在抛光工具的表面处。

MR抛光液中的铁颗粒和SiC磨料颗粒形成立方体单元型结构，其中，两个SiC磨料颗粒与一个铁颗粒相互作用而对角放置于立方体中，铁颗粒位于立方体的中心，每个SiC磨料颗粒分别相切于立方体的三个平面。

抛光工具表面和齿轮齿面以及侧面之间的工作间隙中的磁通密度梯度遵循相同的负斜率。磁场梯度的这种负斜率表明工作间隙中的MR抛光液的磁性铁颗粒朝向较高磁化的抛光工具轮廓表面移动并且强烈地粘附在那里。因此，它确保MR抛光流体保持在抛光工具表面上并且可以在齿轮齿廓上执行相对运动以完成其表面抛光。抛光工具表面处的磁化铁颗粒在磨料颗粒上朝向工作间隙中的齿轮工件施加力，以将它们压入齿轮轮廓齿表面。

由于抛光效果体现在工作间隙中的磁通密度的负梯度中，MR抛光液的磁性铁颗粒朝向抛光工具表面吸引，其中的磁场比齿轮齿廓表面的更高。抛光工具表面上的磁化活性磨粒朝向齿轮齿廓表面施加力。活性磨粒在齿轮齿廓表面上凹进并在磁性抛光工具移动时随着运动而完成表面的抛光。

有效磨料颗粒区域位于被抛光齿轮的齿轮齿廓的有效磁化表面上，有效磨料颗粒区域是由外部磁场以及抛光工具5的外廓表面和MR抛光液共同形成，其中活性磨粒通过磁法向力收缩并通过剪切力进行精加工。附图5a给出了进行表面精加工时齿轮齿廓上的有效磨料颗粒区域，附图5b给出了活性磨料颗粒区域的倾斜面视图。

活动磨粒在齿轮齿廓上的相互作用可随抛光工具旋转及其往复速度的变化而变化。因此，活性磨粒区域DEFG的线GF和DE的长度可以在工具往复速度的方向上变化，如图6所示。从区域DEFG，采用活性磨粒的线GF的变化情况来研究在抛光工具的往复运动和旋转速度期间的位置。图6a示出了当由活性磨粒区域DEFG完成时的齿轮齿廓和由齿廓表面上的活性磨粒产生的路径迹线，图6b示出了活性磨料颗粒的速度示意图，图6c示出了活性磨料颗粒在其行进过程中合成速度（Vr）的路径。

对于齿轮齿廓的精加工，本发明的抛光工具如图7a所示，它绕其中心轴旋转并往复运动。负责去除被抛光齿轮的磨料颗粒称为活性磨料颗粒。MR抛光液中的活性磨粒通过磁性法向力或压痕力（Fn）与铁粒子链在齿轮轮廓表面上凹进，如附图7b所示。抛光工具的旋转速度产生凹进的活性磨粒的切向剪切力（Fts），这有助于从工件表面去除粗糙度峰值。而且，工具往复速度在锯齿状的活性磨粒上沿Z轴方向（滑动基板的方向）提供轴向剪切力（Fas），如附图7c所示。轴向剪切力还负责剪切齿轮齿廓表面的粗糙度峰值。齿轮面轮廓的形状是弯曲的，齿轮侧面轮廓是略微笔直的垂直弯曲形状。齿轮齿的侧面和面轮廓处的压痕和切向剪切力分别如图7c、7d所示。因此，在本发明的机构中，活性磨粒在齿轮齿廓的表面精加工期间获得三种力。工作间隙中的磁通密度强度是铁颗粒链的屈服强度的决定性因素，它为活性磨粒提供了聚合的基体。如果链的屈服强度高于粗糙度峰值的抵抗力，则活性磨粒就会从工件表面除去材料。

当抛光液的铁颗粒在磁场作用下磁化时，在活性磨粒上施加正常的磁力。压痕力将活性磨粒推到工件表面上并将它们压在工件表面上。由于在凹进的活性磨粒上产生的剪切力，材料的去除发生在齿轮齿廓上并且其表面完成抛光。如图8a所示，在精加工抛光操作开始期间，具有铁颗粒的聚集的活性磨粒接近齿轮齿廓表面的粗糙度峰值。由于压痕力（Fn），活性磨粒会缩进到齿轮齿廓表面上。如图8b所示，由于在合成速度方向上的轴向（Fas）和切向剪切（Fts）力，凹进的活性磨料从粗糙度峰值中去除材料。在完成多个精加工循环后，精细加工的齿轮齿廓如图8c所示。

图9给出了一个齿轮轮廓进行多次往复操作后，粗糙度峰值变化情况。

图10a、10b为传统磨齿工艺抛光的扫描电子显微镜（SEM）图，图10c、10d为本发明抛光工艺的扫描电子显微镜（SEM）图，从附图可以明显看出，本发明的抛光效果相对传统抛光工艺有了显著提高。

另外，抛光工具5为圆环形抛光刀具，圆环形抛光刀具与实心转动磁芯4同心设置。

左立板的内侧还设置有定位板，定位板上设有定位孔，定位孔与电机孔同心。滑动基板2的一端设有驱动体。

通电管穿过冷却套与电磁线圈相通，通电管内设有通电导线，通电导线的一端与电磁线圈连接，另一端与电源组件连接，电磁线圈的材质为铜，冷却嘴口与冷却单元通过冷却管道联通，冷却单元能够保持在-6℃的温度。

该齿轮轮廓的抛光机构的使用步骤如下：

A．将被抛光齿轮套装在从动转杆的一端；

B．手动转动调整轴上的调整柄，从而被抛光齿轮跟随从动转杆发生转动，使得抛光工具能够处于被抛光齿轮的轮齿之间；

C．在抛光工具和被抛光齿轮的齿廓的间隙区域充填MR抛光液；

D．启动电源组件，电磁线圈通电，被抛光齿轮的齿廓、工作间隙的MR抛光液和抛光工具磁化；

E．启动伺服电机，在同步带的带动下，实心转动磁芯开始旋转，继而抛光工具跟随实心转动磁芯旋转，开始对被抛光齿轮的齿廓进行抛光处理，然后操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，从而保证抛光工具在被抛光齿轮的左右齿廓表面进行均匀精加工抛光，同时开启冷却单元，冷却套对电磁线圈进行冷却处理；

F．当被抛光齿轮的一个齿廓抛光完毕后，停止伺服电机，操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，使得抛光工具离开被抛光齿轮的轮齿，然后手动转动调整轴上的调整柄，从而被抛光齿轮跟随从动转杆发生转动，再操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，使得抛光工具能够处于新的被抛光齿轮的齿廓；

G．重复操作E步骤，对新的被抛光齿轮的齿廓进行抛光操作，以此类推，完成被抛光齿轮所有的齿廓的抛光处理。

本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (10)

1.一种齿轮轮廓的抛光机构，所述的齿轮轮廓的抛光机构包括底座（1），所述的底座（1）上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统；其特征在于，

所述的抛光系统包括位于所述的底座（1）上的滑动基板（2），所述的滑动基板（2）上设有抛光夹具（3），所述的抛光夹具（3）包括与所述的滑动基板（2）滑动配合的底板和位于底板上的左立板和右立板，所述的左立板和右立板平行间隔设置，所述的左立板上设有驱动孔，所述的右立板上与所述的驱动孔的对应位置处设有承载孔，所述的驱动孔和所述的承载孔之间架设有实心转动磁芯（4），所述的实心转动磁芯（4）穿出所述的右立板，所述的左立板上并且位于所述的驱动孔的正下方设有电机孔，所述的伺服电机的驱动轴穿过所述的电机孔与主动带轮连接，所述的主动带轮通过同步带与位于所述的实心转动磁芯（4）上的从动带轮连接，所述的实心转动磁芯（4）上穿设有绕线筒，所述的绕线筒位于所述的左立板和右立板之间，所述的绕线筒上缠绕有电磁线圈，所述的电磁线圈外套接有冷却套，所述的冷却套上设有冷却嘴口，所述的实心转动磁芯的端部设有抛光工具（5），所述的抛光工具（5）能够与被抛光齿轮进行抛光操作并且所述的抛光工具（5）与所述的被抛光齿轮的轮齿间具有工作间隙，所述的工作间隙充有MR抛光液；

所述的调整系统包括位于所述的底座（1）上的调整座（6），所述的调整座（6）上设有调整立柱（7），所述的调整立柱（7）的上部设有穿孔，所述的穿孔中穿设有调整轴，所述的调整轴的一端设有调整柄，所述的调整轴的另一端设有传动件；

所述的支持系统包括分度夹具（8），所述的分度夹具（8）包括位于所述的底座（1）上的夹具基底，所述的夹具基底上设有夹具支持体，所述的夹具支持体上设有两个间隔设置的夹具轴套，两个所述的夹具轴套穿设有从动转杆，所述的从动转杆的一端与所述的传动件配合，所述的从动转杆的另一端连接有所述的被抛光齿轮，所述的从动转杆上设有分度齿轮，所述的分度齿轮位于所述的轴套和所述的调整轴之间。

2.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的MR抛光液中均匀分布有铁颗粒和SiC磨料颗粒，所述的工作间隙中的磁通密度决定了所述的MR抛光液中铁颗粒的偶极子，所述的铁颗粒的偶极子彼此吸引并在磁通密度区域中形成链结构，所述的链结构的屈服强度在抛光过程期间将活性磨粒保持在所述的抛光工具（5）的表面处。

3.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的MR抛光液中的铁颗粒和SiC磨料颗粒形成立方体单元型结构，其中，两个所述的SiC磨料颗粒与一个所述的铁颗粒相互作用而对角放置于立方体中，所述的铁颗粒位于立方体的中心，每个所述的SiC磨料颗粒分别相切于立方体的三个平面。

4.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，有效磨料颗粒区域位于被抛光齿轮的齿轮齿廓的有效磁化表面上，所述的有效磨料颗粒区域的面积随所述的抛光工具（5）的旋转和往复运动的变化而变化。

5.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的有效磨料颗粒区域是由外部磁场以及所述的抛光工具（5）的外廓表面和所述的MR抛光液共同形成。

6.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的抛光工具（5）为圆环形抛光刀具，所述的圆环形抛光刀具与所述的实心转动磁芯（4）同心设置。

7.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的左立板的内侧还设置有定位板，所述的定位板上设有定位孔，所述的定位孔与所述的电机孔同心。

8.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，通电管穿过所述的冷却套与所述的电磁线圈相通，通电管内设有通电导线，所述的通电导线的一端与所述的电磁线圈连接，另一端与电源组件连接，所述的电磁线圈的材质为铜，所述的冷却嘴口与冷却单元通过冷却管道联通，所述的冷却单元能够保持在-6℃的温度。

9.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的滑动基板（2）的一端设有驱动体。

10.一种抛光机构的使用方法，所述的抛光机构为权利要求1-9中任意一项所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的齿轮轮廓的抛光机构的使用步骤如下：

A．将被抛光齿轮套装在从动转杆的一端；

B．手动转动调整轴上的调整柄，从而被抛光齿轮跟随从动转杆发生转动，使得抛光工具能够处于被抛光齿轮的轮齿之间；

C．在抛光工具和被抛光齿轮的齿廓的间隙区域充填MR抛光液；

D．启动电源组件，电磁线圈通电，被抛光齿轮的齿廓、工作间隙的MR抛光液和抛光工具能够磁化；

E．启动伺服电机，在同步带的带动下，实心转动磁芯开始旋转，继而抛光工具跟随实心转动磁芯旋转，开始对被抛光齿轮的齿廓进行抛光处理，然后操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，从而保证抛光工具在被抛光齿轮的左右齿廓表面进行均匀精加工抛光，同时开启冷却单元，冷却套对电磁线圈进行冷却处理；

F．当被抛光齿轮的一个齿廓抛光完毕后，停止伺服电机，操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，使得抛光工具离开被抛光齿轮的轮齿，然后手动转动调整轴上的调整柄，从而被抛光齿轮跟随从动转杆发生转动，再操作驱动体，使得抛光夹具在滑动基板上前后滑动，使得抛光工具能够处于新的被抛光齿轮的轮齿之间；

G．重复操作E步骤，对新的被抛光齿轮的齿廓进行抛光操作，以此类推，完成被抛光齿轮所有的齿廓的抛光处理。