CN110204208A - 一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉及其制备方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其原料组成为:透锂长石45~55wt%、高岭土4~7wt%、高温低膨胀熔块25~35wt%、高温透明熔块5~15wt%、硅微粉0~10wt%、釉面稳定剂3~6wt%。此外,还公开了上述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法和应用。本发明配方体系在氧化气氛条件下具有较大的熔融温度范围,有效解决了釉面孔洞等缺陷问题,在具有良好稳定性的同时实现了易清洁的目的。本发明制备方法基于通用的日用陶瓷釉料以及日用陶瓷的生产过程即可,适用于多种低膨胀陶瓷坯体,尤其为与电器配套使用的低膨胀陶瓷锅具提供了必备条件,对于低膨胀陶瓷产业的技术进步和应用发展具有促进作用。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷釉料技术领域,尤其涉及一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉及其制备方法和应用。
背景技术
近十几年来,低膨胀陶瓷工业在国家支持与企业的自身努力下,得到了长足的发展,其中低膨胀陶瓷炊具占据了很大比重。随着人们生活水平、以及健康养生要求的不断提高,相比于原来的铁质炊具,陶瓷炊具更加符合健康理念,因此对陶瓷炊具的需求越来越大,在性能方面的要求也越来越高。作为陶瓷炊具,不仅要求美观,对于其实用性也即一定的功能性同样愈加重视,尤其是在清洗方面,需要有不粘结食物、易清洁、易洗涤的特点。然而,目前现有技术低膨胀陶瓷炊具并不具备这一功能特点,容易粘结食物,不易清洗,不能很好地满足日益增长的使用需求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,通过配方设计,使得体系在氧化气氛条件下具有较大的熔融温度范围,以有效解决釉面孔洞等缺陷问题,在具有良好稳定性的同时实现易清洁的目的。本发明的另一目的在于提供上述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法和应用。
本发明的目的通过以下技术方案予以实现:
本发明提供的一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其原料组成为:透锂长石 45~55wt%、高岭土4~7wt%、高温低膨胀熔块25~35wt%、高温透明熔块5~ 15wt%、硅微粉0~10wt%、釉面稳定剂3~6wt%。
进一步地,本发明所述釉面稳定剂为硅酸锆微粉,其细度≤0.5μm。所述硅微粉的粒度为2000目。
本发明的另一目的通过以下技术方案予以实现:
本发明提供的上述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法为:首先将所述原料中的透锂长石、高岭土、高温低膨胀熔块、高温透明熔块加入球磨机内进行一次混合球磨,然后再加入其余组成进行二次混合球磨,经陈腐即得到釉料。
上述方案中,本发明制备方法所述一次混合球磨的细度为325目筛余0.04~0.06%。所述二次混合球磨的时间为30~40min。
本发明提供的上述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法所得釉料的应用为:以所述釉料施釉后,在氧化气氛条件下,以釉烧温度1270~1300℃、保温时间 60~120min进行煅烧,即获得易洁乳白釉面。
上述方案中,本发明所述釉面的热膨胀系数为0.12~0.65×10-6/℃,易洁性A为0.35~0.45。
本发明具有以下有益效果:
(1)本发明通过优化配方设计,引入的高温低膨胀熔块不仅可以保证釉料的低膨胀性能,提高了低膨胀陶瓷的热稳定性,而且熔融温度范围宽,受窑炉温度波动影响小;引入的高温透明熔块使釉料熔融更加充分,釉中气孔少,使得釉面孔洞少,从而显著提高了易洁性。因此,本发明配方体系在氧化气氛条件下扩大了釉料的熔融温度范围,有效解决了釉面孔洞等缺陷问题,不仅保证了产品质量,而且使得釉面易于清洁,不容易粘结食物,很好地满足了日常使用的需求。
(2)本发明釉料稳定性好,所得釉层结构致密、不容易划伤、不容易吸脏,热膨胀系数可调,基于通用的日用陶瓷釉料以及日用陶瓷的生产过程即可,且适用于多种低膨胀陶瓷坯体,尤其为与电器配套使用的低膨胀陶瓷锅具提供了必备条件,有助于实现产业升级,对于低膨胀陶瓷产业的技术进步和应用发展具有促进作用。
下面将结合实施例对本发明作进一步的详细描述。
具体实施方式
本发明实施例一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其原料组成为:透锂长石 45~55wt%、高岭土4~7wt%、高温低膨胀熔块25~35wt%、高温透明熔块5~ 15wt%、硅微粉0~10wt%、釉面稳定剂3~6wt%。
其中,高温低膨胀熔块和高温透明熔块的化学组成如表1所示。
表1本发明高温低膨胀熔块和高温透明熔块的化学组成
硅微粉的粒度为2000目;釉面稳定剂为硅酸锆微粉,其细度≤0.5μm。
各实施例的原料组成如表2所示。
表2本发明各实施例易洁乳白釉的原料组成(wt%)
本发明上述实施例适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法为:首先将上述原料中的透锂长石、高岭土、高温低膨胀熔块、高温透明熔块加入球磨机内进行一次混合球磨至细度为325目筛余0.04~0.06%,然后再加入其余组成进行二次混合球磨30~40min,经陈腐即得到釉料。各实施例制备方法的工艺参数如表3所示。
表3本发明各实施例易洁乳白釉的制备方法工艺参数
本发明上述实施例适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法所得釉料的应用为:以上述釉料施釉后,在氧化气氛条件下,以釉烧温度1270~1300℃、保温时间 60~120min进行煅烧(各实施例温度及保温时间见表4),即获得易洁乳白釉面。所得釉面光亮平滑,其性能指标(热膨胀系数、易洁性A)如表4所示。
表4本发明各实施例所得釉料的应用及釉面性能指标
注:易洁性按照国家标准GB/T31859-2015进行检测。
Claims (8)
1.一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其特征在于原料组成为:透锂长石45~55wt%、高岭土4~7wt%、高温低膨胀熔块25~35wt%、高温透明熔块5~15wt%、硅微粉0~10wt%、釉面稳定剂3~6wt%。
2.根据权利要求1所述的适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其特征在于:所述釉面稳定剂为硅酸锆微粉,其细度≤0.5μm。
3.根据权利要求1或2所述的适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉,其特征在于:所述硅微粉的粒度为2000目。
4.权利要求1-3之一所述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法,其特征在于:首先将所述原料中的透锂长石、高岭土、高温低膨胀熔块、高温透明熔块加入球磨机内进行一次混合球磨,然后再加入其余组成进行二次混合球磨,经陈腐即得到釉料。
5.根据权利要求4所述的适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法,其特征在于:所述一次混合球磨的细度为325目筛余0.04~0.06%。
6.根据权利要求4所述的适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法,其特征在于:所述二次混合球磨的时间为30~40min。
7.权利要求4-6之一所述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法所得釉料的应用,其特征在于:以所述釉料施釉后,在氧化气氛条件下,以釉烧温度1270~1300℃、保温时间60~120min进行煅烧,即获得易洁乳白釉面。
8.根据权利要求7所述的适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法所得釉料的应用,其特征在于:所述釉面的热膨胀系数为0.12~0.65×10-6/℃,易洁性A为0.35~0.45。
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