CN110201941A - 二次硅料的超声波漂洗装置 - Google Patents

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Abstract

本实发明公开了一种便于实现硅料自动清洗，提高清洗效率的二次硅料的超声波漂洗装置。该二次硅料的超声波漂洗装置，包括底座、壳体、旋转体；所述壳体安装在底座上，所述壳体具有一侧开口的环形腔体，所述环形腔体的中心位置设置有中空结构的中心柱；所述壳体的一侧设置有密闭环形腔体的盖板；所述壳体的底部的外表面设置有超声波发生器；所述环形腔体的底部设置有出液口；所述环形腔体的顶部设置有喷头；所述环形腔体上端的两侧均设置有驱动齿棒；所述壳体的背面设置有驱动驱动齿棒转动的驱动电机；所述底座上设置有连通出液口和喷头的循环增压泵；采用该二次硅料的超声波漂洗装置能够简化清洗操作，提高清洗效率。

Description

二次硅料的超声波漂洗装置
技术领域
本发明涉及废弃硅料的回收利用，尤其是一种二次硅料的超声波漂洗装置。
背景技术
众所周知的：废弃的硅料在进行回收利用时，必须去除硅料上的杂质。因此废弃硅料在进行回收利用的过程中，需要经过多道工序。现有技术已有采用喷砂、泡沫浮选、离心分离、高温熔融过滤等方法来去除硅料中的碳化硅、氮化硅或石墨等杂质，但这些方法运行成本高，不易于进行批量生产，且由于处理得到的硅料除杂不够彻底，一般难以直接作为多晶硅铸锭的原材料再次利用，故造成了极大的浪费。
现有的硅料清洗装置，一般采用清洗槽，实现硅料的碱洗、酸洗和超声波清洗，在清洗过程中，上料下料工作繁琐，因此清洗效率较低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种能够便于实现硅料自动清洗，提高清洗效率的二次硅料的超声波漂洗装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：二次硅料的超声波漂洗装置，包括底座、壳体、旋转体；所述壳体安装在底座上，所述壳体具有一侧开口的环形腔体，所述环形腔体的中心位置设置有中空结构的中心柱；所述壳体的一侧设置有密闭环形腔体的盖板；
所述旋转体包括与中心柱匹配的转筒，所述转筒上设置有沿圆周均匀分布的筛板；所述筛板外沿的两侧均设置有齿圈；所述壳体的一侧设置有入料口，另一侧设置有出料口；所述入料口位于环形腔体水平中截面的上方，所述出料口位于环形腔体水平中截面的下方；
所述壳体的底部的外表面设置有超声波发生器；所述环形腔体的底部设置有出液口；所述环形腔体的顶部设置有喷头；
所述环形腔体上端的两侧均设置有驱动齿棒；所述驱动齿棒与齿圈啮合；所述壳体的背面设置有驱动驱动齿棒转动的驱动电机；
所述底座上设置有循环增压泵；所述出液口与循环增压泵的入液口连通，所述喷头通过导管与循环增压泵连通；所述出料口设置有自动开闭装置。
优选的，所述自动开闭装置采用气动阀门。
进一步的，所述驱动电机安装在中心柱内，所述驱动电机通过皮带与驱动齿棒传动连接。
进一步的，所述盖板上设置有连通中心柱内腔的散热孔。
优选的，所述超声波发生器在壳体下端120°弧度范围内沿圆周均匀分布。
本发明的有益效果是：本发明所述的二次硅料的超声波漂洗装置，由于在壳体内设置有环形腔体，在环形腔体内设置有旋转体，通过旋转体带动硅料在环形腔体内对硅料进行循环清洗，同时在环形腔体底部设置有超声波发生器，通过超声波发生器产生超声波，实现对硅料的超声波清洗；并且硅料由入料口进入，通过旋转体旋转，在环形腔体内移动，到移动到出料口的位置，在重力的作用下从出料口排出。因此，本发明所述的二次硅料的超声波漂洗装置，能够较少上料和下料的工序，简化清洗操作，同时能够实现清洗液的循环冲洗，节约清洗液，提高清洗效率。
附图说明
图1是本发明实施例中二次硅料的超声波漂洗装置的爆炸示意图；
图2是本发明实施例中二次硅料的超声波漂洗装置的立体图；
图3是本发明实施例中二次硅料的超声波漂洗装置的主视图；
图4是本发明实施例中二次硅料的超声波漂洗装置的侧视图；
图5是本发明实施例中二次硅料的超声波漂洗装置的后视图；
图6是图4中的B-B的剖视图；
图7是图3中的A-A的剖视图；
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
如图1至图7所示，本发明所述的二次硅料的超声波漂洗装置，包括底座14、壳体1、旋转体；所述壳体1安装在底座14上，所述壳体1具有一侧开口的环形腔体，所述环形腔体的中心位置设置有中空结构的中心柱2；所述壳体1的一侧设置有密闭环形腔体的盖板16；
所述旋转体包括与中心柱2匹配的转筒3，所述转筒3上设置有沿圆周均匀分布的筛板4；所述筛板4外沿的两侧均设置有齿圈5；所述壳体1的一侧设置有入料口9，另一侧设置有出料口10；所述入料口9位于环形腔体水平中截面的上方，所述出料口10位于环形腔体水平中截面的下方；
所述壳体1的底部的外表面设置有超声波发生器12；所述环形腔体的底部设置有出液口8；所述环形腔体的顶部设置有喷头7；
所述环形腔体上端的两侧均设置有驱动齿棒6；所述驱动齿棒6与齿圈5啮合；所述壳体1的背面设置有驱动驱动齿棒6转动的驱动电机13；
所述底座4上设置有循环增压泵18；所述出液口8与循环增压泵18的入液口连通，所述喷头7通过导管15与循环增压泵18连通；所述出料口10设置有自动开闭装置11。
在工作的过程中：
在环形腔体内加热清洗液，清洗液的高度低于出料口的高度；然后硅料由入料口9进入到环形腔体内的旋转体上，启动驱动电机13，驱动电机13带动旋转体转动，从而使得硅料在重力作用下进入到转筒3上相邻两块筛板4之间；然后跟随旋转体一起转动，此时循环增压泵18启动，将清洗液由环形腔体底部抽到顶部通过喷头对硅料进行喷淋清洗。
同时，硅料在旋转体的带动下进入到环形墙体底部的倾斜液中，通过超声波发生器发出的超声波进行超声波清洗；旋转体继续转动将硅料带到出料口位置，如果此时打开出料口，硅料在重力的作用下从出料口排出。从而实现对硅料的超声波清洗。
综上所述，本发明所述的二次硅料的超声波漂洗装置，由于在壳体内设置有环形腔体，在环形腔体内设置有旋转体，通过旋转体带动硅料在环形腔体内对硅料进行循环清洗，同时在环形腔体底部设置有超声波发生器，通过超声波发生器产生超声波，实现对硅料的超声波清洗；并且硅料由入料口进入，通过旋转体旋转，在环形腔体内移动，到移动到出料口的位置，在重力的作用下从出料口排出。因此，本发明所述的二次硅料的超声波漂洗装置，能够较少上料和下料的工序，简化清洗操作，同时能够实现清洗液的循环冲洗，节约清洗液，提高清洗效率。
为了便于控制，优选的，所述自动开闭装置11采用气动阀门。
为了便于简化设备体积，进一步的，所述驱动电机13安装在中心柱2内，所述驱动电机13通过皮带19与驱动齿棒6传动连接。
为了便于驱动电机13的散热，进一步的，所述盖板16上设置有连通中心柱2内腔的散热孔17。
为了保证对硅料的充分超声波清洗，进一步的，所述超声波发生器12在壳体1下端120°弧度范围内沿圆周均匀分布。

Claims (5)

1.二次硅料的超声波漂洗装置，其特征在于：包括底座(14)、壳体(1)、旋转体；所述壳体(1)安装在底座(14)上，所述壳体(1)具有一侧开口的环形腔体，所述环形腔体的中心位置设置有中空结构的中心柱(2)；所述壳体(1)的一侧设置有密闭环形腔体的盖板(16)；
所述旋转体包括与中心柱(2)匹配的转筒(3)，所述转筒(3)上设置有沿圆周均匀分布的筛板(4)；所述筛板(4)外沿的两侧均设置有齿圈(5)；所述壳体(1)的一侧设置有入料口(9)，另一侧设置有出料口(10)；所述入料口(9)位于环形腔体水平中截面的上方，所述出料口(10)位于环形腔体水平中截面的下方；
所述壳体(1)的底部的外表面设置有超声波发生器(12)；所述环形腔体的底部设置有出液口(8)；所述环形腔体的顶部设置有喷头(7)；
所述环形腔体上端的两侧均设置有驱动齿棒(6)；所述驱动齿棒(6)与齿圈(5)啮合；所述壳体(1)的背面设置有驱动驱动齿棒(6)转动的驱动电机(13)；
所述底座(4)上设置有循环增压泵(18)；所述出液口(8)与循环增压泵(18)的入液口连通，所述喷头(7)通过导管(15)与循环增压泵(18)连通；所述出料口(10)设置有自动开闭装置(11)。
2.如权利要求1所述的二次硅料的超声波漂洗装置，其特征在于：所述自动开闭装置(11)采用气动阀门。
3.如权利要求2所述的二次硅料的超声波漂洗装置，其特征在于：所述驱动电机(13)安装在中心柱(2)内，所述驱动电机(13)通过皮带(19)与驱动齿棒(6)传动连接。
4.如权利要求2所述的二次硅料的超声波漂洗装置，其特征在于：所述盖板(16)上设置有连通中心柱(2)内腔的散热孔(17)。
5.如权利要求1所述的二次硅料的超声波漂洗装置，其特征在于：所述超声波发生器(12)在壳体(1)下端120°弧度范围内沿圆周均匀分布。
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