CN110178004B - 用于检测基于fmcw的填充水平测量设备处的故障状态的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于在基于FMCW的填充水平测量设备处检测故障状态的方法。出于此目的，在时间上连续发生的至少两次参考测量中，分别确定第一参考测量信号(Sref1,SZF1)和至少一个第二参考测量信号(Sref2,SZF2)，其中，参考测量由填充水平测量设备(1)在一个和相同的预定参考测量条件下执行。在至少两个参考测量信号(Sref1,SZF1Sref2,SZF2)中，在每种情况下确定至少一个特征参数(Apeak,AHüII,fpeak,fmean,Φ)，其中，随时间推移的特征参数的变化(ΔApeak,ΔAHüII,Δfpeak,Δfmean,
Figure DDA0002118234580000011
)通过比较所述至少两个参考测量信号(Sref1,SZF1Sref2,SZF2)来确定。根据本发明，如果特征参数的变化(ΔApeak,ΔAHüII,Δfpeak,Δfmean,
Figure DDA0002118234580000012
)超过预定的最大特征参数变化(例如，ΔApeak,max)，则检测到故障状态。因此，能够通过根据本发明的方法检测到在填充水平测量设备(1)处的可能故障状态。由此实现的是，即使在具有高要求可靠性的关键应用中，填充水平测量设备(1)还能够被使用。

Description

用于检测基于FMCW的填充水平测量设备处的故障状态的方法
技术领域
本发明涉及一种用于检测基于FMCW的填充水平测量设备的误差状态的方法，以及一种适于执行该方法的填充水平测量设备。
背景技术
在自动化技术中，特别是在过程自动化技术中，经常使用用于检测和/或修改过程变量的现场设备。为了检测过程变量，传感器被使用，例如，传感器被使用在填充水平测量设备、流量测量设备、压力和温度测量设备、pH氧化还原电位测量设备、电导率测量设备等中。它们检测相应的过程变量，诸如填充水平、流量、压力、温度、pH值、氧化还原电位、或电导率。各种这样的现场设备由恩德斯豪斯公司制造和销售。
无接触测量方法已经被建立用于容器中填充材料的填充水平测量，因为它们是鲁棒性且维修费用低(在本发明的上下文中，术语“容器”还意指非密封容器，诸如例如水池、湖泊或水体)。无接触测量方法的另一个优点在于它们能够几乎不断地，换句话说，以非常高的分辨率测量填充水平(L)。因此，基于雷达的测量方法主要用于这一目的。建立的测量原理是FMCW测量原理(“调频连续波”)。其是基于以下事实：连续的雷达发射信号被发射，并且将在填充材料的表面处反射的所反射的雷达接收信号与该发射信号的瞬时频率进行比较。这里，雷达发射信号的频率位于标准化中心频率(f0)范围中的固定频带内。这里使用的标准频带是6GHz频带、26GHz频带、或79GHz 频带。这里FMCW方法的特征是传输频率不是恒定的，而在频带内周期性是变化的。在这种情况下，变化可以是线性的，并且具有锯齿或三角形形状；然而，还能够根据应用使用正弦变化。
在基于FMCW的填充水平测量方法的情况中，一个特殊的挑战是确定将测量信号与干扰信号区分开。由于填充水平测量设备的可操作性受到损害，因此由于来自误差的相对应的源的干扰信号，而能够生成错误的测量值。在这种情况下，一个主要原因是接收到由发射信号反射到干扰体上引起的干扰信号，所述干扰体为诸如容器内的搅拌器或内部配件。然而，例如，如果误差的源是天线单元中的反馈，则干扰信号还能够出现在设备内。
同时，在基于FMCW的填充水平测量的情况中，现在存在用于过滤干扰信号的许多技术方法，以便使校正所接收的信号成为可能。因此，国际公布WO 2012/139852 A1公开了一种用于校准基于FMCW的填充水平测量设备的方法，其中，即使在正常测量操作期间，也能够利用定位在测量设备和填充材料之间的振荡参考反射器来生成唯一的参考测量信号。
德国专利申请DE 10 2008 050 117 A1描述了一种用于校正填充水平测量设备的内部干扰信号的方法。在该专利申请中描述的方法是基于在最大吸收性测试环境中测量参考测量信号，然后基于参考信号生成校正曲线。
虽然干扰信号可能地能够利用所述方法来补偿，但是填充水平测量设备的老化或污染会随着时间的推移改变干扰信号。因此，有趣的是，在正在进行的操作期间以及在补偿值的变化的情况下执行校正，从而得出存在误差状态的结论。在要求高度可靠性的关键工艺设备中使用的填充水平测量设备的情况中，这种误差状态的检测是特别期望的。对此类应用的必要要求在例如用于功能安全的IEC/EN 61508标准 (也称为安全完整性等级或SIL)中有所描述。
发明内容
因此，本发明的目的是提供一种方法，利用该方法能够检测到基于FMCW的填充水平测量设备中的误差状态。
本发明通过一种用于在基于FMCW的填充水平测量设备中检测误差状态的方法来解决这个问题。它至少包括以下方法步骤：
-由填充水平测量设备在至少一个预定参考测量条件下对第一参考测量信号(Sref1,SZF1)进行参考测量，
-确定参考测量信号(Sref1,SZF1)的至少一个特征参数(Apeak,AHüll, fpeak,fmean,φ)，
-在至少一个预定参考测量条件下对至少一个第二参考测量信号 (Sref2,SZF2)进行参考测量，
-至少基于第一参考测量信号(Sref1,SZF1)和第二参考测量信号 (Sref2,SZF2)来确定至少一个特征值的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean, Δφ)，以及
-当特征值中的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)超过特征值中的预定最大变化(例如，ΔApeak,max)时，检测误差状态。
在本发明的上下文中，误差状态被定义为填充水平测量设备的状态，在该状态下并不确保填充水平测量设备正在确定正确的填充水平L。在本发明的上下文中，参考测量信号(Sref1,SZF1,Sref2,SZF2)原理上被理解为在至少一个定义的参考条件下由填充水平测量设备发送、接收和处理，以便确定填充水平L的任何信号。
因此，根据本发明的方法使得能够检测填充水平测量设备中的任何误差状态。通过这种方式，能够确保即使在要求高度可靠性的关键工艺设备中还能够使用填充水平测量设备。
根据特征参数是如何定义的，根据本发明，能够检测到来自可能导致误差状态的潜在误差源的各种干扰信号。在本发明的上下文中，特征参数是由填充水平测量设备的内部信号还是外部(干扰)信号产生并不相关。因此，在本发明的上下文中，有可能的是确定为特征参数，特别是相应的参考测量信号(Sref1,Sref2)的信号最大值(Speak)的幅度(Apeak)和/或频率(fpeak)，和/或相应的中频参考测量信号(SZF1, SZF2)的幅度的包络(AHüll)、相位(φ)、或低频干扰的频率(fmean)。
在本发明的上下文中，已知的最小填充水平(Lmin)(或趋近该最小填充水平)(或达到该最小填充水平)能够例如被定义为参考测量条件。一个类似的、同样可设想的参考测量条件是，参考测量信号被确定为使用定义的远程参考对象的校准的一部分。可替选地，参考测量条件也可以是完全排空的容器，使得参考测量信号不代表任何填充水平测量值，而仅代表来自填充水平测量设备外部的大部分外部干扰信号。仅再现其中填充水平测量设备的误差的内部源的另外的可设想的参考测量条件是在其中吸收了填充水平测量设备的任何电磁波的测试环境中进行测量。
本发明的发展提供了，至少基于至少一个特征值(Apeak,AHüll,fpeak, fmean,φ)以及其变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)，来创建至少时间变化函数(例如dApeak/dt)。这里，对于至少一个特征值的变化(ΔApeak, ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)不超过特征值的预定最大变化(例如ΔApeak,max)的情况，在特征值的预定最大变化(例如ΔApeak,max)被超过之前的剩余操作持续时间(Δtr)是基于时间变化函数(例如dApeak/dt) 来计算的。
换句话说，这种发展是基于这样的思想：通过经由至少两次或更多次参考测量来确定至少一个特定特征参数的变化从而近似直到特征值中的相应最大变化可能被超过并且将因此发生填充水平测量设备的误差状态的持续时间的剩余时间段Δtr。对此的前提条件是，在最后一次参考测量时，相对应特征参数的变化尚未超过特征值的最大变化。
通过本发明的这种发展，因此已经能够根据“预测性维护”的原理来预先预测误差状态。这里，用于确定变化函数(例如，dApeak/dt) 的一种可能性是使用回归，在最简单的情况下是线性回归。然而，一般来说，在本发明的意义内选择合适的回归类型(即，指数、对数等) 不限于线性回归，而是取决于特定特征参数中的变化的单独过程。因此，最小二乘法能够被用于执行回归和/或确定合适的回归类型。
特别地，为了更精确地确定变化函数(例如，dApeak/dt)，根据本发明，有利的是，如果在每种情况下，一旦至少一个预定参考测量条件再次出现，不仅确定了第二参考测量信号，而且附加地确定另外的参考测量信号(Sref3-Sefn)。
在本发明的上下文中，还能够利用第一参考测量信号(Sref1,SZF1) 来创建第一校正曲线，并且利用第二参考测量信号(Sref2,SZF2)来创建第二校正曲线。利用相应的校正曲线，可以通过参考信号(sref1,sZF1,Sref2, SZF2)中出现的干扰来校正测量信号，在定期的测量操作中基于该测量信号来确定填充水平L。
在这种情况下，根据本发明，还可能不(排他地)基于参考测量信号(Sref1,Sref2SZF1,SZF2)，而是(可能另外地)基于第一校正曲线和第二校正曲线来确定至少一个特征值的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak, Δfmean,Δφ)。
本发明的目的类似于根据本发明的方法通过填充水平测量设备来实现，该填充水平测量设备适于在这些变体中的至少一个中执行上述方法。因此，它至少包括：
-信号生成单元(11)，该信号生成单元(11)用于生成雷达发射信号(SHF)
-发射天线(14)和/或接收天线(15)，该发射天线(14)用于发射发射信号(SHF)和/或该接收天线(15)用于接收雷达接收信号 (EHF)，
-混频器(17)，该混频器(17)用于通过将发射信号(SHF)与接收信号(EHF)混频来生成中频信号(SZF1,SZF2)，以及
-评估单元(19)，该评估单元(19)用于利用中频信号(SZF1,SZF2) 确定测量信号和/或参考测量信号(Sref1,sref2)，和/或用于基于测量信号确定填充水平(L)，和/或用于基于参考测量信号(Sref1,Sref2SZF1,SZF2) 来确定误差状态。
附图说明
下面将参考以下附图更详细地解释本发明。以下示出了：
图1示出了容器上基于FMCW的填充水平测量设备的标准布置，
图2示出了用于执行根据本发明的方法的基于FMCW的填充水平测量设备的典型电路配置，
图3a 和图 3b 示出了用于确定基于FMCW的填充水平测量设备的接收信号的特征参数的示意表示，以及
图4示出了用于确定基于FMCW的填充水平测量设备的预期剩余操作持续时间的特征参数的回归。
具体实施方式
为了帮助理解根据本发明的方法，首先在图1中示出了在容器2 上且根据FMCW测量原理操作的填充水平测量设备1的典型布置。在容器2中存在填充材料3，填充材料3的填充水平L由填充水平测量设备1进行确定。为此，填充水平测量设备1以已知的安装高度h被安装在填充材料3上方的容器2上。根据该应用，容器2能够高达30米以上。
填充水平测量设备1以这样的方式被布置在容器2上，使得在填充材料3的表面的方向上，该填充水平测量设备1发射典型的FMCW 的雷达发射信号SHF。在雷达发射信号SHF在填充材料表面(或者，不期望地在容器2内侧的干扰体，诸如例如伸入到容器中的流入管21)处反射之后，填充水平测量设备1接收雷达接收信号EHF。在这种情况下，作为FMCW的特征，当前发射的雷达发射信号SHF和雷达接收信号EHF之间的频率差取决于到填充材料表面的距离d＝h-L。
通常，填充水平测量设备1经由诸如“PROFIBUS”、“HART”、或“无线HART”的总线系统连接到诸如过程控制系统的上级单元4。一方面，关于填充水平测量设备的可能误差状态的信息能够经由这种方式来传送。另一方面，还能够传输关于填充水平L的信息，以便控制容器2上可能存在的任何流入装置21和/或流出装置22。
图2示出了基于FMCW的填充水平测量设备1的合适的电路配置，利用该基于FMCW的填充水平测量设备1，根据本发明的方法能够被实现用于检测任何误差状态：为了生成典型的FMCW测量方法的高频信号SHF，填充水平测量设备1包括相对应的信号生成单元11。这里，高频信号SHF被设计，使得该高频信号SHF具有在微波范围内的频率(如以6GHz、26GHz或79GHz为标准的，但是也可能高达100GHz 以上)。这里，该频率不是恒定的，而是在预定的频率差内周期性地变化(例如，在79GHz的情况下，频率差可以是2GHz，使得相对应的频率将被设置在78GHz和80GHz之间)。在FMCW方法中，高频信号SHF的频率的锯齿形(即，在该周期内随时间恒定的)变化在周期性变化的情况中是常见的。然而，任何其他形式也是可设想的，例如，在相应的频率差内频率中的正弦变化。
当(锯齿形)变化的周期性是典型的FMCW方法时，(锯齿形) 变化的周期性在这里能够是高达若干个100MHz的数量级。因为能够通过增加带宽来增加填充水平测量的分辨率，所以在这种情况下高频信号SHF的频率差优选地被尺寸设计成尽可能大。因此，因为在较高频率下，能够实现较大的频率差(从绝对角度来看)，所以高频信号sHF的通常较高频率对于分辨率是有利的。
一旦已经生成高频信号SHF，该高频信号SHF就经由信号分离器12 (以及可选地发射放大器13)馈送到发射天线14。这里，高频电信号 SHF被转换成实际的雷达发射信号SHF并相应地被发射。
在测量操作期间，雷达接收信号EHF通过在填充材料3的表面处 (和/或在容器2内侧的干扰体21，诸如伸入到容器中的流入管21处；参见图1)反射雷达发射信号SHF来生成。在校准或参考测量的情况下，雷达接收信号EHF是由雷达发射信号SHF通过预定参考条件(例如，通过在测量路径中在已知距离d处布置的参考物体)的反射来产生的。另一个参考条件也可以由容器2本身中精确已知的填充水平L来表示 (例如，已知的最小填充水平Lmin，其例如不能够由于相应布置的流出装置22而导致进一步下降；再一次参见图1)。此外，很大的消声的测量环境(例如，相对应的吸收室)还可以被设想为参考条件。在这种情况下，根本没有最佳地产生雷达接收信号EHF。
雷达接收信号EHF在填充水平测量设备1的接收天线15处被接收，并且被转换回成电信号(该电信号继而能够可选地被接收放大器16放大)。随后利用接收混频器17将该信号与射频信号SHF混合，其中，高频信号SHF出于此目的从信号分离器12分支出来。结果，在频率Fpeak依赖于距离d的每种情况下，生成典型的FMCW方法的频信号SZF1、 SZF2，并且因此使能够测量填充水平L。如果合适的发射/接收开关被使用，则替代分开的发射天线14和接收天线15，当然也能够可替选地使用单个的发射/接收天线。这可以以经典方式被实现为喇叭天线。然而，对于更高的频率，或者如果发射天线14和接收天线15分开地被实现，则像平面天线那样的(特别是像贴片(patch)天线或分形(fractal)天线那样的)设计是有利的。
为了确定其频率fpeak(或者，如果雷达发射信号还可能地在干扰体处反射，则确定其多个频率fpeak)，中频信号SZF1、SZF2通常将由数字化单元18进行(快速)傅立叶变换，并且因此被转换成容易评估的 (参考)测量信号sref1、sref2。同时，还可以进行模数(A/D)转换。由此产生的频谱示意性地被示出在图3a中：
在每种情况下，频谱代表了根据频率f的相对应的(参考)测量信号sref1、sref2的信号强度或幅度A。图3a中示出的两个频谱在至少一个和相同的参考条件下(例如，容器2中精确已知的最小填充水平Lmin下)产生了一个接一个执行的两个参考测量。根据相应的参考条件，能够基于相对应的参考测量信号Sref1、Sref2的两个频谱来确定在所有两个频谱中包含的不同特征参数。作为特征值，例如，能够确定了信号最大值Speak或其幅度Apeak和/或其频率fpeak。相应的信号最大值Speak的出现是取决于个体参考条件，因此例如可以产生参考测量的已知最小填充水平Lmin。
从图3a中两个参考测量信号Sref1、Sref2的比较能够看出的是，特征值(即，信号最大值speak的频率fpeak或幅度Apeak)在两次参考测量之间的时间的时段内不一定维持恒定。例如，反而可能出现信号最大值speak的频率变化Δfpeak或幅度变化ΔApeak。
幅度Apeak在两次参考测量之间的时间间隔内的衰减ΔApeak的一个原因可能是，例如由于灰尘状填充材料3而导致在发射天线14和/或接收天线15上逐渐形成垢(crust)。另一方面，频率变化Δfpeak可以归因于填充水平测量设备1的误差的内部源，例如混频器17的失谐。
因此，根据本发明，通过以时间上适当的间隔执行至少两次参考测量，不仅检测到至少一个特征参数(例如，信号最大值Speak的频率 fpeak或幅度Apeak)本身，而且还检测到其在参考测量之间的时间间隔内的变化ΔApeak、Δfpeak。
本发明的核心在于，(例如幅度的变化ΔApeak的)特征值的变化与特征值中的至少一个预定最大变化ΔApeak,max、Δfpeak,max进行比较，该最大变化被分配给相应的特征值。在这种情况下，特征值中的最大变化ΔApeak,max、Δfpeak,max代表了阈值，在该阈值之后，不再能够进行可靠的填充水平测量，并且因此已经出现了填充水平测量设备1的误差状态。
在最大幅度变化ΔApeak,max的情况下，这可能是在高于其的情况下 (参考)测量信号中信号最大值speak的幅度Apeak已经下降到最小幅度 Apeak,min的幅度值，根据该最小幅度，在考虑信噪比的情况下信号最大值speak不再能够被明确地识别。然而，如果频率的最大变化Δfpeak,max被定义为特征值的最大变化，则这可能是在频率的最大允许变化，在该最大允许变化以内，填充水平测量的定义最小分辨率得到保证，因此尚未触发误差状态。
另一方面，如果超过了特征值中的最大变化ΔApeak,max、Δfpeak,max，这将被相对应的评估单元19(参见图2)检测到，并且如果合适，则将其转发到上级单元4。
在本发明的意义内，不仅转换成频谱的中频信号SZF1、SZF2能够被用于确定参考测量中的特征参数Apeak、fpeak，而且“原始的”中频信号SZF1、SZF2本身还能够从图3b中看出。这里的特征参数似乎还能够是中频信号SZF1、SZF2(与高频信号SHF相关)的包络AHüll(即，幅度特征)、低频干扰fmean或相位φ。这些参数能够由于部件的老化而改变其值。因此，例如，老化影响了在不同频率处的衰减，并且因此改变包络AHüll。
图4图示了根据本发明的方法的发展。换句话说，这种发展是基于这样的思想：通过经由至少两次或更多次参考测量来确定至少一个特定特征参数的变化从而近似直到特征值中的相应最大变化可能被超过并且将因此发生填充水平测量设备的误差状态的持续时间的剩余时间段Δtr，。对此的前提条件是，在每种情况下，在当前最后一次参考测量时，相对应的特征参数的变化尚未超过特征值的最大变化。
在图4中，基于信号最大值Speak的幅度变化ΔApeak，以示例的方式图示了这种发展。在至少两次参考测量之间的时间段内基于相应参考测量信号Sref1、Sref2、…、Srefn检测到的幅度变化ΔApeak的基础上，变化函数dApeak/dt被创建。为此，可以执行幅度变化ΔApeak的回归。在所示的示例性实施例中，为此使用线性回归，因为这里幅度减小ΔApeak随着时间的推移近似恒定。随时间推移恒定地减小的幅度Apeak能够由例如发射天线14和/或接收天线15上垢的持续增加引起。
然而，一般来说，在本发明的意义内选择合适的回归类型(即指数、对数等)不限于线性回归，而是根据特定特征参数中的变化的单独过程(例如，为了找到合适的回归类型和/或执行实际回归，可以使用最小二乘法)。
在创建变化函数dApeak/dt之后，直到幅度变化ΔApeak变得如此之大以至于幅度Apeak将下降在最小幅度Apeak,min以下的预期的剩余操作持续时间Δtr由此被近似(基于上一次参考测量时的幅度Apeak)。因此，利用本发明的这种发展，已经能够根据“预测性维护”的原理预先检测到误差状态。
附图标记列表
1 填充水平测量设备
2 容器
3 散状材料
4 上级单元
11 信号生成单元
12 信号分离器
13 发射放大器
14 发射天线
15 接收天线
16 接收放大器
17 混频器
18 数字化单元
19 评估单元
21 流入
22 流出
A 幅度
AHüll 中频信号的包络
Apeak 信号最大值的幅度
Apeak,min 最小幅度
d 距离
dApeak/dt 时间变化函数
EHF 雷达接收信号
f 频率
fmean 低频干扰的频率
fpeak 信号最大值的频率
h 填充水平测量设备的安装高度
L 填充水平
Lmin 最小填充水平
SHF 雷达发射信号
SHF 高频信号
Sref1,2 参考测量信号
Speak 信号最大值
SZF1,2 中频信号
ΔApeak 幅度的变化
ΔApeak,max 幅度的最大变化
Δfpeak 频率的变化
Δtr 剩余操作持续时间

Claims (7)

1.一种用于在基于FMCW的填充水平测量设备(1)中检测误差状态的方法，包括以下方法步骤：
-由所述填充水平测量设备(1)在至少一个预定参考测量条件下对第一参考测量信号(Sref1)或第一中频信号(SZF1)进行参考测量，
-确定所述第一参考测量信号(Sref1)或第一中频信号(SZF1)的至少一个特征参数(Apeak,AHüll,fpeak,fmean,φ)，
-在所述至少一个预定参考测量条件下对至少一个第二参考测量信号(Sref2)或第二中频信号(SZF2)进行参考测量，
-至少基于所述第一参考测量信号(Sef1)或第一中频信号(SZF1)，和所述第二参考测量信号(Sref2)或第二中频信号(SZF2)来确定至少一个特征值的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)，以及
-当所述特征值中的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)超过所述特征值中的预定最大变化(ΔApeak,max)时，检测所述误差状态，
其中，至少基于所述至少一个特征值(Apeak,AHüll,fpeak,fmean,φ)以及其变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)，来创建至少时间变化函数(dApeak/dt)，并且
其中，对于所述至少一个特征值的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)不超过特征值的所述预定最大变化(ΔApeak,max)的情况，基于所述时间变化函数(dAapeak/dt)来计算直到特征值的所述预定最大变化(ΔApeak,max)的剩余操作持续时间(Δtr)，
其中，所述变化函数(dApeak/dt)利用回归来确定，
其中，最小二乘法被用于确定回归的合适类型。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，确定了相应的参考测量信号(Sref1,Sref2)的信号最大值(Speak)的幅度(Apeak)、频率(fpeak)、相应的中频参考测量信号(SZF1,SZF2)的幅度的包络(AHüll)、相位(φ)、和/或低频干扰的频率(fmean)。
3.根据权利要求1所述的方法，其中，下降到最小填充水平(Lmin)之下被用作为所述参考测量条件。
4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述变化函数(dApeak/dt)利用线性回归来确定。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，在每种情况下，一旦所述至少一个预定参考测量条件再次出现，就确定另外的参考信号(Sref3-Srefn)或另外的中频信号(SZF3--SZFn)。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，利用所述第一参考测量信号(Sref1)或第一中频信号(SZF1)创建第一校正曲线，
其中，利用所述第二参考测量信号(Sref2)或第二中频信号(SZF2)来创建第二校正曲线，并且
其中，基于所述第一校正曲线和所述第二校正曲线来确定所述至少一个特征值的变化(ΔApeak,ΔAHüll,Δfpeak,Δfmean,Δφ)。
7.一种用于执行权利要求1至6中任一项中描述的方法的填充水平测量设备，包括：
-信号生成单元(11)，所述信号生成单元(11)用于生成雷达发射信号(SHF)
-用于发射所述发射信号(SHF)的发射天线(14)和用于接收雷达接收信号(EHF)的接收天线(15)，
-混频器(17)，所述混频器(17)用于通过将所述发射信号(SHF)与所述接收信号(EHF)混频来生成中频信号(SZF1,SZF2)，
-评估单元(19)，所述评估单元(19)用于利用所述中频信号(SZF1,SZF2)来确定测量信号并且根据所述测量信号来确定填充水平(L)，和/或利用所述中频信号(SZF1,SZF2)来确定参考测量信号(Sref1,Sref2)并且基于所述参考测量信号(Sref1,Sref2)或所述中频信号(SZF1,SZF2)来确定误差状态。
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