CN110174820A - 双载台曝光机 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及曝光器械领域,具体提供一种双载台曝光机,包括输送装置、光源产生装置以及送料装置。所述输送装置具有机座、第一传送机构以及第二传送机构,机座具有第一带动单元及第二带动单元,第一传送机构具有第一座体、第一升降单元及第一承载单元,第二传送机构具有第二座体、第二升降单元及第二承载单元;光源产生装置设于输送装置一侧的上方;送料装置设于输送装置的另一侧。由此,可于第一传送机构输送感光基板进行曝光时,由第二传送机构输送另一个感光基板等候进行曝光,并于第二传送机构输送另一个感光基板进行曝光时,再由第一传送机构输送其他感光基板等候进行曝光,如此循环输送感光基板,提升了感光基板的传输效率及曝光机的产速。
Description
技术领域
本发明涉及曝光器械领域,尤其涉及一种双载台曝光机,更特别地涉及一种可作为提升曝光机产速的双载台曝光机。
背景技术
一般的印刷电路板已被广泛地应用于电子设备或电子装置,且为制成印刷电路板上的电路,曝光机因此被开发而加入制程的行列。
由于一般的曝光机仅能单次对一感光基板进行曝光;此外,当一感光基板于曝光机内进行曝光时,另一个感光基板往往需于前一感光基板完成曝光且从一般的曝光机内取出后,另一个感光基板才可置入曝光机内进行曝光,造成感光基板的传输效率较慢,使得曝光机的生产速率低落。
发明内容
基于本发明的至少一个实施例,可于第一传送机构输送感光基板进行曝光时,由第二传送机构输送另一个感光基板等候进行曝光,并于第二传送机构输送另一个感光基板进行曝光时,再由第一传送机构输送其他感光基板等候进行曝光,如此循环输送感光基板,而达到提升感光基板的传输效率,以提升曝光机的产速。
本发明提供一种双载台曝光机,包括:输送装置、光源产生装置以及送料装置。所述输送装置包括机座、第一传送机构以及第二传送机构,所述机座内部的两侧分别设有相对向的第一带动单元及第二带动单元,所述第一传送机构具有第一座体、第一升降单元及第一承载单元,所述第一座体设于所述第一带动单元,所述第一升降单元设于所述第一座体的一面,所述第一承载单元设于所述第一升降单元,所述第二传送机构具有第二座体、第二升降单元及第二承载单元,所述第二座体设于所述第二带动单元,所述第二升降单元设于所述第二座体的一面,所述第二承载单元设于所述第二升降单元;光源产生装置设于所述输送装置一侧的上方;送料装置设于所述输送装置的另一侧。
通过上述实施例,本发明提供一种双载台曝光机。可于第一传送机构输送感光基板进行曝光时,由第二传送机构输送另一个感光基板等候进行曝光,并于第二传送机构输送另一个感光基板进行曝光时,再由第一传送机构输送其他感光基板等候进行曝光,如此循环输送感光基板,而达到提升感光基板的传输效率,以提升曝光机的产速。
可选地,所述机座外侧具有盖板。
可选地,所述第一带动单元与所述第二带动单元为线性马达。
可选地,所述第一座体的另一面具有第一滑槽,所述第一滑槽活动结合所述第一带动单元。
可选地,所述第二座体的另一面具有第二滑槽,所述第二滑槽活动结合所述第二带动单元。
可选地,所述光源产生装置包括机箱、曝光机构以及对位机构,所述机箱与所述输送装置结合,所述曝光机构设于所述机箱中,且所述第一传送机构以及所述第二传送机构可移动至对应所述曝光机构的位置。
可选地,所述对位机构具有多数个影像截取单元及调整单元。
可选地,所述送料装置包括机箱、进料机构以及出料机构,所述机箱与所述输送装置结合,所述进料机构与所述出料机构设于所述机箱中,且所述机座位于所述进料机构与所述出料机构之间。
为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,但是此等说明与附图仅用来说明本发明,而非对本发明的权利范围作任何的限制。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明双载台曝光机的外观示意图;
图2是本发明双载台曝光机的内部示意图;
图3是本发明双载台曝光机的内部分解示意图;以及
图4是本发明双载台曝光机的另一内部分解示意图。
附图标记
1输送装置
11机座
111第一带动单元
112第二带动单元
113盖板
12第一传送机构
121第一座体
1211第一滑槽
122第一升降单元
123第一承载单元
13第二传送机构
131第二座体
1311第二滑槽
132第二升降单元
133第二承载单元
2光源产生装置
21机箱
22曝光机构
23对位机构
231影像截取单元
232调整单元
3送料装置
31机箱
32进料机构
33出料机构
具体实施方式
以下将配合附图,更进一步地说明本发明实施例的双载台曝光机。
请参阅图1至图4,如图所示:本发明一种双载台曝光机,其包括输送装置1、光源产生装置2以及送料装置3。
所述输送装置1包括机座11、第一传送机构12以及第二传送机构13,所述机座11内部的两侧分别设有相对向的第一带动单元111及第二带动单元112,所述第一传送机构12具有第一座体121、第一升降单元122及第一承载单元123,所述第一座体121设于所述第一带动单元111,所述第一升降单元122设于所述第一座体121的一面,所述第一承载单元123设于所述第一升降单元122,所述第二传送机构13具有第二座体131、第二升降单元132及第二承载单元133,所述第二座体131设于所述第二带动单元112,所述第二升降单元132设于所述第二座体131的一面,所述第二承载单元133设于所述第二升降单元132。
所述光源产生装置2设于所述输送装置1一侧的上方。
所述送料装置3设于所述输送装置1的另一侧。
当本发明于进行曝光作业时,由所述送料机构3的一侧将感光基板(图未示)传输至所述第一传送机构12的第一承载单元123,并由所述第一带动单元111带动所述第一座体121至所述光源产生装置2的位置,且由所述第一升降单元122带动所述第一座体121上升,而当所述第一座体121上升时,则同时带动所述第一承载单元123上升,使所述第一承载单元123上的感光基板被移动至所述光源产生装置2的位置进行曝光。
当所述第一传送机构12输送所述感光基板进行曝光时,所述第二传送机构13便由所述第二带动单元112带动至所述送料机构3,由所述送料机构3将另一个感光基板传输至所述第二传送机构13的第二承载单元133,进而可于所述第一传送机构12输送所述感光基板进行曝光时,由所述第二传送机构13输送另一个感光基板等候进行曝光。
并于所述第一传送机构12上的感光基板曝光完成后,由所述第一升降单元122带动所述第一座体121下降,而当所述第一座体121下降时,则同时带动所述第一承载单元123下降,使所述第一承载单元123上的感光基板移开所述光源产生装置2的位置,并由所述第一带动单元111带动所述第一传送机构12至所述送料机构3的位置,而由所述送料机构3的另一侧将所述感光基板输送至后续制程。当所述第一带动单元111带动所述第一传送机构12至所述送料机构3时,便同时由所述第二带动单元112带动所述第二传送机构13至所述光源产生装置2的位置,且由所述第二升降单元132带动所述第二座体131上升,而当所述第二座体131上升时,则同时带动所述第二承载单元133上升,使所述第二承载单元133上的另一个感光基板被移动至所述光源产生装置2的位置进行曝光。
当所述第二传送机构13输送另一个感光基板进行曝光时,所述送料机构3的一侧将其他感光基板(图未示)传输至所述第一传送机构12的第一承载单元123,进而可再由所述第一传送机构12输送其他感光基板等候进行曝光,如此循环输送可达到提升感光基板的传输效率,以提升曝光机的产速。
于本发明的一个实施例中,所述机座11外侧具有盖板113。由此,可将所述机座11加以封闭、而使所述第一带动单元111、所述第二带动单元112、所述第一座体121、所述第一升降单元122、所述第一承载单元123、所述第二座体131、所述第二升降单元132与所述第二承载单元133达到防护的效果。
于本发明的一个实施例中,所述第一带动单元111与所述第二带动单元112为线性马达。由此,可使所述第一带动单元111与所述第二带动单元112分别带动所述第一座体121与所述第二座体131进行顺畅的移动。
于本发明的一个实施例中,所述第一座体121的另一面具有第一滑槽1211,所述第一滑槽1211活动结合所述第一带动单元111。由此,可于所述第一座体121进行移动时,利用所述第一滑槽1211与所述第一带动单元111的配合,而使所述第一座体121具有顺畅移动的功效。
于本发明的一个实施例中,所述第二座体131的另一面具有第二滑槽1311,所述第二滑槽1311活动结合所述第二带动单元112。由此,可于所述第二座体131进行移动时,利用所述第二滑槽1311与所述第二带动单元112的配合,而使所述第二座体131具有顺畅移动的功效。
于本发明的一个实施例中,所述光源产生装置2包括机箱21、曝光机构22以及对位机构23,所述机箱21与所述输送装置1结合,所述曝光机构22设于所述机箱21中。而所述对位机构23具有多数个影像截取单元231及调整单元232;其中所述曝光机构22具有LED光源,而各影像截取单元231可为CCD影像镜头,且各影像截取单元231的数量可为四个,所述调整单元232可为底片框与马达的组合。由此,可使所述机箱21作为所述曝光机构22的防护,且可使所述第一传送机构12以及所述第二传送机构13传送感光基板至对应所述曝光机构22的位置,并通过所述对位机构23的各影像截取单元231截取感光基板的影像,并配合所述调整单元232移动所述感光基板进行对位调整,待感光基板与所述调整单元232上的靶标对位后,再对所述第一传送机构12或所述第二传送机构13上的感光基板进行LED光源的曝光。
于本发明的一个实施例中,所述送料装置3包括机箱31、进料机构32以及出料机构33,所述机箱31与所述输送装置1结合,所述进料机构32与所述出料机构33设于所述机箱31中,且所述机座11位于所述进料机构32与所述出料机构33之间。由此,可使所述机箱31作为所述进料机构32与所述出料机构33的防护;且以所述进料机构32将感光基板传输至所述第一传送机构12的第一承载单元123,或所述第二传送机构13的第二承载单元133;并以所述出料机构33将所述感光基板输送至后续制程。
综上所述,本发明实施例所提供的一种双载台曝光机,可于第一传送机构输送感光基板进行曝光时,由第二传送机构输送另一个感光基板等候进行曝光,并于第二传送机构输送另一个感光基板进行曝光时,再由第一传送机构输送其他感光基板等候进行曝光,如此循环输送感光基板,而达到提升感光基板的传输效率,以提升曝光机的产速。
以上所述仅为本发明的实施例,其并非用以局限本发明的专利范围。
Claims (8)
1.一种双载台曝光机,其特征在于,所述双载台曝光机包括:
输送装置,其包括机座、第一传送机构以及第二传送机构,所述机座内部的两侧分别设有相对向的第一带动单元及第二带动单元,所述第一传送机构具有第一座体、第一升降单元及第一承载单元,所述第一座体设于所述第一带动单元,所述第一升降单元设于所述第一座体的一面,所述第一承载单元设于所述第一升降单元,所述第二传送机构具有第二座体、第二升降单元及第二承载单元,所述第二座体设于所述第二带动单元,所述第二升降单元设于所述第二座体的一面,所述第二承载单元设于所述第二升降单元;
光源产生装置,其设于所述输送装置一侧的上方;以及
送料装置,其设于所述输送装置的另一侧。
2.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述机座外侧具有盖板。
3.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述第一带动单元与所述第二带动单元为线性马达。
4.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述第一座体的另一面具有一第一滑槽,所述第一滑槽活动结合所述第一带动单元。
5.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述第二座体的另一面具有一第二滑槽,所述第二滑槽活动结合所述第二带动单元。
6.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述光源产生装置包括机箱、曝光机构以及对位机构,所述机箱与所述输送装置结合,所述曝光机构设于所述机箱中,且所述第一传送机构以及所述第二传送机构可移动至对应所述曝光机构的位置。
7.根据权利要求6所述的双载台曝光机,其特征在于,所述对位机构具有多数个影像截取单元及调整单元。
8.根据权利要求1所述的双载台曝光机,其特征在于,所述送料装置包括机箱、进料机构以及出料机构,所述机箱与所述输送装置结合,所述进料机构与所述出料机构设于所述机箱中,且所述机座位于所述进料机构与所述出料机构之间。
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
CN205028025U (zh) * | 2015-07-21 | 2016-02-10 | 合肥芯硕半导体有限公司 | 一种ldi双工件曝光装置 |
CN106909029A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-06-30 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法 |
CN206920817U (zh) * | 2017-03-31 | 2018-01-23 | 苏州微影激光技术有限公司 | 一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机 |
CN208636650U (zh) * | 2018-09-06 | 2019-03-22 | 川宝科技股份有限公司 | 双载台曝光机 |
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2018
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN205028025U (zh) * | 2015-07-21 | 2016-02-10 | 合肥芯硕半导体有限公司 | 一种ldi双工件曝光装置 |
CN106909029A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-06-30 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 激光直接成像曝光机用移动聚焦结构及聚焦方法 |
CN206920817U (zh) * | 2017-03-31 | 2018-01-23 | 苏州微影激光技术有限公司 | 一种兼具独立和合并两种模式的双台面直写曝光机 |
CN208636650U (zh) * | 2018-09-06 | 2019-03-22 | 川宝科技股份有限公司 | 双载台曝光机 |
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