CN110163929B - 二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置,该方法通过在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数,根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,能够识别所有的二次曲面方程,降低用户绘图操作难度,提高二次曲面方程绘图效率和准确度。
Description
技术领域
本发明涉及计算机技术领域,尤其涉及一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置。
背景技术
二次曲面方程包括椭圆锥面方程、椭球面方程、单叶双曲面方程、双叶双曲面方程、椭圆抛物面方程、双曲抛物面方程、椭圆柱面方程、双曲柱面和抛物柱面方程,即使是相同类型的二次曲面方程也有多种形式的表达式。目前,不同的二次曲面类型需要选择对应的绘图工具才能够实现绘图,用户不用知道所绘曲面的方程类型,就无法确定选取何种绘图工具进行绘图,导致二次曲面方程的绘图效率低且准确率不高。
上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种二次曲面方程的共享绘图方法、设备、存储介质及装置,旨在解决现有技术中二次曲面方程的绘图效率低且准确率不高的技术问题。
为实现上述目的,本发明提供一种二次曲面方程的共享绘图方法,所述二次曲面方程的共享绘图方法包括以下步骤:
在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;
根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;
根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;
通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
优选地,所述根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,具体包括:
判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值;
若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集;
根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
优选地,所述判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
若所述变量数量不为所述第一预设数值,且所述变量次数未均大于所述第二预设数值,则判断各所述变量次数之和是否小于等于第三预设数值;
若各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值,则查找满足各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值的第二标准方程集;
根据所述变量次数及所述第二标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
优选地,所述根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,具体包括:
根据所述目标方程类型,从所述待绘图二次曲面方程中查找各所述目标变量的变量位置;
根据所述变量位置从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式;
从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项;
根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程。
优选地,所述根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
从所述目标多项式中提取各所述目标变量对应的目标系数;
计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标;
相应地,所述通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,具体包括:
根据所述目标绘图坐标,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
优选地,所述计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标,具体包括:
计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积;
将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果;
根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
优选地,所述将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
判断所述比较结果是否满足预设规则;
若所述比较结果满足预设规则,则根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
此外,为实现上述目的,本发明还提出一种二次曲面方程的共享绘图设备,所述二次曲面方程的共享绘图设备包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的二次曲面方程的共享绘图程序,所述二次曲面方程的共享绘图程序配置为实现如上文所述的二次曲面方程的共享绘图方法的步骤。
此外,为实现上述目的,本发明还提出一种存储介质,所述存储介质上存储有二次曲面方程的共享绘图程序,所述二次曲面方程的共享绘图程序被处理器执行时实现如上文所述的二次曲面方程的共享绘图方法的步骤。
此外,为实现上述目的,本发明还提出一种二次曲面方程的共享绘图装置,所述二次曲面方程的共享绘图装置包括:
获取模块,用于在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;
识别模块,用于根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;
变换模块,用于根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;
绘制模块,用于通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
本发明中,通过在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数,根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,能够识别所有的二次曲面方程,无需用户进行人工识别,提高识别效率和准确度;根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,能绘制所有的二次曲面方程的图形,降低用户绘图操作难度,提高二次曲面方程绘图效率和准确度。
附图说明
图1是本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的二次曲面方程的共享绘图设备的结构示意图;
图2为本发明二次曲面方程的共享绘图方法第一实施例的流程示意图;
图3为本发明二次曲面方程的共享绘图方法第二实施例的流程示意图;
图4为本发明二次曲面方程的共享绘图装置第一实施例的结构框图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
参照图1,图1为本发明实施例方案涉及的硬件运行环境的二次曲面方程的共享绘图设备结构示意图。
如图1所示,该二次曲面方程的共享绘图设备可以包括:处理器1001,例如中央处理器(Central Processing Unit,CPU),通信总线1002、用户接口1003,网络接口1004,存储器1005。其中,通信总线1002用于实现这些组件之间的连接通信。用户接口1003可以包括显示屏(Display),可选用户接口1003还可以包括标准的有线接口、无线接口,对于用户接口1003的有线接口在本发明中可为USB接口。网络接口1004可选的可以包括标准的有线接口、无线接口(如无线保真(WIreless-FIdelity,WI-FI)接口)。存储器1005可以是高速的随机存取存储器(Random Access Memory,RAM)存储器,也可以是稳定的存储器(Non-volatileMemory,NVM),例如磁盘存储器。存储器1005可选的还可以是独立于前述处理器1001的存储装置。
本领域技术人员可以理解,图1中示出的结构并不构成对二次曲面方程的共享绘图设备的限定,可以包括比图示更多或更少的部件,或者组合某些部件,或者不同的部件布置。
如图1所示,作为一种计算机存储介质的存储器1005中可以包括操作系统、网络通信模块、用户接口模块以及二次曲面方程的共享绘图程序。
在图1所示的二次曲面方程的共享绘图设备中,网络接口1004主要用于连接后台服务器,与所述后台服务器进行数据通信;用户接口1003主要用于连接用户设备;所述二次曲面方程的共享绘图设备通过处理器1001调用存储器1005中存储的二次曲面方程的共享绘图程序,并执行本发明实施例提供的二次曲面方程的共享绘图方法。
所述二次曲面方程的共享绘图设备通过处理器1001调用存储器1005中存储的二次曲面方程的共享绘图程序,并执行本发明实施例提供的二次曲面方程的共享绘图方法。
基于上述硬件结构,提出本发明二次曲面方程的共享绘图方法的实施例。
参照图2,图2为本发明二次曲面方程的共享绘图方法第一实施例的流程示意图,提出本发明二次曲面方程的共享绘图方法第一实施例。
在第一实施例中,所述二次曲面方程的共享绘图方法包括以下步骤:
步骤S10:在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数。
应理解的是,本实施例的执行主体是所述二次曲面方程的共享绘图设备。所述共享绘图设备可以是个人计算机或者服务器等电子设备,本实施例对此不加以限制。可以是从预设存储器中获取所述待绘图二次曲面方程,还可以是用户通过所述二次曲面方程的共享绘图设备的显示界面输入所述待绘图二次曲面方程。所述待绘图二次曲面方程包括任意形式的椭圆锥面方程、椭球面方程、单叶双曲面方程、双叶双曲面方程、椭圆抛物面方程、双曲抛物面方程、椭圆柱面方程、双曲柱面或抛物柱面方程。为了进一步识别所述待绘图二次曲面方程的类型,从而选取对应的绘图模型进行绘图,可对所述待绘图二次曲面方程进行分析,从所述绘图二次曲面方程中查找目标变量,并统计所述目标变量的数量及各所述目标变量的变量次数。例如,所述待绘图二次曲面方程为a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0,则所述目标变量为x、y和z,所述变量数量为3,所述目标变量x、y和z的所述变量次数均为2。
步骤S20:根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
可理解的是,对于用户输入的任意椭圆锥面、椭球面、单叶双曲面和双叶双曲面方程,都能够转化为如下的标准方程式:
a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0 (1)
对于任意的椭圆抛物面和双曲抛物面方程,都能够转化为如下的标准方程:a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)=0 (2)
a(x-x0)2+c(z-z0)2+b(y-y0)=0 (3)
b(y-y0)2+c(z-z0)2+a(x-x0)=0 (4)
对于任意的椭圆柱面和双曲柱面方程,都能够转化为如下的标准方程:
a(x-x0)2+b(y-y0)2+d=0 (5)
a(x-x0)2+c(z-z0)2+d=0 (6)
b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0 (7)
对于任意的抛物柱面方程,都能够转化为如下的标准方程:
a(x-x0)2+b(y-y0)=0 (8)
b(y-y0)2+a(x-x0)=0 (9)
a(x-x0)2+c(z-z0)=0 (10)
c(z-z0)2+a(x-x0)=0 (11)
b(y-y0)2+c(z-z0)=0 (12)
c(z-z0)2+b(y-y0)=0 (13)
从上面(1)至(13)的标准方程可以看出:(1)至(4)的标准方程都有3个变量;(5)至(13)的标准方程都有2个变量;(1)的标准方程中目标变量的变量次数都是二次的;(2)至(4)的标准方程有2个目标变量的变量次数是二次的,第三个目标变量的变量次数是一次的;(5)至(7)的标准方程两个目标变量的变量次数都是二次的;(8)至(13)的标准方程一个目标变量的变量次数是二次的,另一个目标变量的变量次数是一次的;进一步地,(1)至(13)的标准方程可以进行如下二级分类:根据方程中变量个数进行一级分类:(1)至(4)的标准方程由于都是3个变量归为一类,(5)至(13)的标准方程都是2个变量归为一类;根据方程中变量的次数进行二级分类:(1)的标准方程中目标变量的变量次数都是二次的,而(2)至(4)的准方程有两个目标变量的变量次数是二次的,第三个目标变量的变量次数是一次的,故(1)的标准方程式一类;而(2)至(4)的标准方程是一类;(5)至(7)的标准方程由于两个目标变量的变量次数都是二次的,故归为一类;而(8)至(13)的标准方程由于一个目标变量的变量次数是二次的,另一个目标变量的变量次数是一次的,故归为另一类。则可将标准方程(1)称为第一类标准方程,标准方程(2)至(4)称为第二类标准方程,标准方程(5)至(7)称为第三类标准方程,标准方程(8)至(13)称为第四类标准方程。通过所述变量数量及各所述目标变量的变量次数,即可识别出所述待绘图二次曲面方程所属的目标方程类型。
步骤S30:根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程。
需要说明的是,对于任意的二次曲面方程,都可以转化为(1)至(13)的标准方程。则可根据所述变量数量及各所述目标变量的变量次数识别出所述待绘图二次曲面方程所属的目标方程类型,再对所述待绘图二次曲面方程进行形式转换,即转换为上述(1)至(13)的标准方程。根据所述目标方程类型,从所述待绘图二次曲面方程中查找各所述目标变量的变量位置;根据所述变量位置从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式;从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项;根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程。
例如,所述目标变量为x、y和z,从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式为a(x-x0)2、b(y-y0)2和c(z-z0)2,从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项为d,则根据所述目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程为a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0。
步骤S40:通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
在具体实现中,所述预设测试工具可以是Matlab7.0,所述二次曲面方程的共享绘图设备可以是CPU为3.2GHz和内存为1.86GB的个人台式电脑。查找与所述目标形式二次曲面方程对应的目标绘图坐标,根据所述目标绘图坐标,通过所述预设测试工具,绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
(一)若所述目标形式二次曲面方程是第一类曲面方程,则所述目标绘图坐标具体如下:
(A1)如果a*d<0,b*d<0和c*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是椭球面方程。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B1)如果a*d<0,b*d<0和c*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为z轴的单叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C1)如果a*d<0,c*d<0和b*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴是y轴的单叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D1)如果b*d<0,c*d<0和a*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为x轴的单叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(E1)如果a*d<0,b*d>0和c*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为x轴的双叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(F1)如果b*d<0,a*d>0和c*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为y轴的双叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(G1)如果c*d<0,b*d>0和a*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是虚轴为z轴的双叶双曲面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(H1)如果d=0,b*a<0和c*a<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为x轴的椭圆锥面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(I1)如果d=0,b*c<0和c*a<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆锥面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(J1)如果d=0,b*a<0和c*b<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是虚轴为y轴的椭圆锥面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(K1)如果不满足上述(A1)至(J1)的条件,则获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
(二)若所述目标形式二次曲面方程是第二类曲面方程,则所述目标绘图坐标具体如下:
1、如果所述目标形式二次曲面方程中目标变量x和y的变量次数是二次的,而目标变量z的变量次数是一次的,则进一步判断如下:
(A2)如果b*c<0和c*a<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B2)如果b*c>0和c*a<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C2)如果b*c<0和c*a>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D2)如果不满足(A2)至(C2)的条件,则获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
2、如果所述目标形式二次曲面方程中目标变量x和z的变量次数是二次的,而目标变量y的变量次数是一次的,则进一步判断如下:
(A3)如果b*a<0和c*b<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为y轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B3)如果b*a<0和c*b>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C3)如果b*a>0和c*b<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D3)如果不满足(A3)至(C3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
3、如果所述目标形式二次曲面方程中目标变量y和z的变量次数是二次的,而目标变量x的变量次数是一次的,则进一步判断如下:
(A4)如果b*a<0和c*a<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为x轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B4)如果b*a<0和c*a>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C4)如果b*a<0和c*a>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D4)如果不满足(A4)至(C4)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
(三)若所述目标形式二次曲面方程是第三类曲面方程,则所述目标绘图坐标具体如下:
1、如果所述目标形式二次曲面方程中目标变量x和y的变量次数都是二次的,而变量z不存在,则进一步判断如下:
(A5)如果d*a<0和b*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B5)如果d*a<0和b*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C5)如果d*a>0和b*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程为双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D5)如果不满足(A5)至(C5)中的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
2、所述目标形式二次曲面方程中目标变量x和z的变量次数都是二次的,而目标变量y不存在,则进一步判断如下:
(A6)如果d*a<0和b*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为旋转轴为y轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B6)如果d*a<0和c*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C6)如果d*a>0和c*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D6)如果不满足上述(A6)至(C6)中的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
3、所述目标形式二次曲面方程中目标变量y和z的变量次数都是二次的,而目标变量x的变量次数是一次的,则进一步判断如下:
(A7)如果d*c<0和b*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是旋转轴为旋转轴为x轴的椭圆抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(B7)如果d*b<0和c*d>0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(C7)如果d*b>0和c*d<0,则可以判定所述目标形式二次曲面方程是双曲抛物面。对应的所述目标绘图坐标如下:
(D7)如果不满足上述(A7)至(C7)中的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
(四)若所述目标形式二次曲面方程是第四类曲面方程,则所述目标绘图坐标具体如下:
1、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量x和y,其中x的变量次数是二次的,y的变量次数是一次的,如果b*a<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
2、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量x和y,其中x的变量次数是一次的,y的变量次数是二次的,如果b*a<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
3、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量x和z,其中x的变量次数是二次的,z的变量次数是一次的,如果c*a<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
4、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量x和z,其中x的变量次数是一次的,z的变量次数是二次的,如果c*a<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
5、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量y和z,其中y的变量次数是二次的,z的变量次数是一次的,如果c*b<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
6、如果所述目标形式二次曲面方程中只存在目标变量y和z,其中y的变量次数是一次的,z的变量次数是二次的,如果c*b<0,则对应的所述目标绘图坐标如下:
如果不满足该条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误,比如用户输入时输入错误。
本实施例中,通过在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数,根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,能够识别所有的二次曲面方程,无需用户进行人工识别,提高识别效率和准确度;根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,能绘制所有的二次曲面方程的图形,降低用户绘图操作难度,提高二次曲面方程绘图效率和准确度。
参照图3,图3为本发明二次曲面方程的共享绘图方法第二实施例的流程示意图,基于上述图2所示的第一实施例,提出本发明二次曲面方程的共享绘图方法的第二实施例。
在第二实施例中,所述步骤S20,包括:
步骤S201:判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值。
应理解的是,所述第一预设数值为3,判断所述变量数量是否为3个,若所述变量数量为3个,则进一步判断所述变量次数是否均大于第二预设数值,所述第二预设数值为0,若所述变量次数均大于0,则可从变量数量为3个对应的第一标准方程集中进一步确定所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
步骤S202:若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集。
可理解的是,为了方便描述,将所述待绘图二次曲面方程中的所述目标变量x、y和z的变量次数依次用Lx、Ly和Lz表示。若所述变量数量为3个,且所述变量次数均大于0,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集,所述第一标准方程集中包括所有目标变量为3个的标准形式的二次曲面方程。
步骤S203:根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
在本实施例中,所述步骤S30,包括:
根据所述目标方程类型,从所述待绘图二次曲面方程中查找各所述目标变量的变量位置;根据所述变量位置从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式;从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项;根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程。
举例说明,所述目标变量为x、y和z,从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式为a(x-x0)2、b(y-y0)2和c(z-z0)2,从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项为d,则根据所述目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程为:
a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0。
需要说明的是,根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,具体分析如下:
1、若Lx=Ly=Lz=2,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第一类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0。
1)如果a*d<0,b*d<0和c*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是椭球面方程,则可按照上述(m1)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果a*d<0,b*d<0和c*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为z轴的单叶双曲面,则可按照上述(m2)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果a*d<0,c*d<0和b*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴是y轴的单叶双曲面,则可按照上述(m3)所示的目标绘图坐标进行绘图。
4)如果b*d<0,c*d<0和a*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为x轴的单叶双曲面,则可按照上述(m4)所示的目标绘图坐标进行绘图。
5)如果a*d<0,b*d>0和c*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为x轴的双叶双曲面,则可按照上述(m5)所示的目标绘图坐标进行绘图。
6)如果b*d<0,a*d>0和c*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为y轴的双叶双曲面,则可按照上述(m6)所示的目标绘图坐标进行绘图。
7)如果c*d<0,b*d>0和a*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是虚轴为z轴的双叶双曲面,则可按照上述(m7)所示的目标绘图坐标进行绘图。
8)如果d=0,b*a<0和c*a<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为x轴的椭圆锥面,则可按照上述(m8)所示的目标绘图坐标进行绘图。
9)如果d=0,b*c<0和c*a<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆锥面,则可按照上述(m9)所示的目标绘图坐标进行绘图。
10)如果d=0,b*a<0和c*b<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是虚轴为y轴的椭圆锥面,则可按照上述(m10)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至10)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
2、若Lx=Ly=2,Lz=1,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第二类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+b(y-y0)2+c(z-z0)=0。
1)如果b*c<0和c*a<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m11)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果b*c>0和c*a<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m12)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果b*c<0和c*a>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m13)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
3、若Lx=Lz=2,Ly=1,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第二类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+c(z-z0)2+b(y-y0)=0。
1)如果b*a<0和c*b<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为y轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m14)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果b*a<0和c*b>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m15)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果b*a>0和c*b<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m16)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
4、若Ly=Lz=2,Lx=1,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第二类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:b(y-y0)2+c(z-z0)2+a(x-x0)=0。
1)如果b*a<0和c*a<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为x轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m17)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果b*a<0和c*a>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m18)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果b*a<0和c*a>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m19)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
在本实施例中,所述步骤S201之后,还包括:
若所述变量数量不为所述第一预设数值,且所述变量次数未均大于所述第二预设数值,则判断各所述变量次数之和是否小于等于第三预设数值;若各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值,则查找满足各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值的第二标准方程集;根据所述变量次数及所述第二标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
应理解的是,若所述变量数量不为3个,且所述变量次数未均大于0,则判断各所述变量次数之和是否小于等于第三预设数值,所述第三预设数值取值为4,即如果Lx+Ly+Lz≤4,说明所述待绘图二次曲面方程中三个变量不可能同时存在,则查找满足各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值的第二标准方程集,所述第二标准方程集中包括所有满足Lx+Ly+Lz≤4的标准形式的二次曲面方程。
在本实施例中,所述根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程之后,还包括:
从所述目标多项式中提取各所述目标变量对应的目标系数;计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标;相应地,所述通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,具体包括:根据所述目标绘图坐标,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
在具体实现中,各所述目标变量x、y和z分别对应的目标系数为a、b和c,计算各所述目标系数之间的乘积为a*b、a*c和b*c,所述目标常数项为d,通过将所述乘积及所述目标常数项分别与0进行比较,获得比较结果,根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
在本实施例中,所述计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标,具体包括:
计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积;将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果;根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
可理解的是,所述第二预设数值取值为0,通过将a*b、a*c、b*c以及d与0进行比较,获得所述比较结果,则可根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
在本实施例中,所述将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果之后,还包括:
判断所述比较结果是否满足预设规则;若所述比较结果满足预设规则,则根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
应理解的是,所述预设规则包括d*a<0且b*d<0,d*a<0且b*d>0等。若所述比较结果不满足预设规则,则可进行错误提示,比如,在所述二次曲面方程的共享绘图设备的显示界面进行提示,以使用户及时检查所述待绘图二次曲面方程是否存在输入错误。具体分析如下:
1、若Ly=Lx=2,Lz=0,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第三类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+b(y-y0)2+d=0。
1)如果d*a<0和b*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为z轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m20)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果d*a<0和b*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m21)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果d*a>0和b*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m22)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
2、若Lz=Lx=2,Ly=0,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第三类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+c(z-z0)2+d=0。
1)如果d*a<0和b*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋转轴为旋转轴为y轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m23)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果d*a<0和c*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m24)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果d*a>0和c*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m25)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
3、若Lz=Ly=2,Lx=0,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第三类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:b(y-y0)2+c(z-z0)2+d=0。
1)如果d*c<0和b*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是旋旋转轴为旋转轴为x轴的椭圆抛物面,则可按照上述(m26)所示的目标绘图坐标进行绘图。
2)如果d*b<0和c*d>0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m27)所示的目标绘图坐标进行绘图。
3)如果d*b>0和c*d<0,则可以判定所述待绘图二次曲面方程是双曲抛物面,则可按照上述(m28)所示的目标绘图坐标进行绘图。
如果不满足上述1)至3)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
4、若Lx=2,Ly=1,Lz=0,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+b(y-y0)=0。
1)如果b*a<0,则可按照上述(m29)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
5、若Lx=1,Ly=2,Lz=0,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)+b(y-y0)2=0。
1)如果b*a<0,则可按照上述(m30)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
6、若Lx=2,Ly=0,Lz=1,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)2+c(z-z0)=0。
1)如果c*a<0,则可按照上述(m31)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
7、若Lx=1,Ly=0,Lz=2,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:a(x-x0)+c(z-z0)2=0。
1)如果c*a<0,则可按照上述(m32)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
8、若Lx=0,Ly=2,Lz=1,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:b(y-y0)2+c(z-z0)=0。
1)如果c*b<0,则可按照上述(m33)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
9、若Lx=0,Ly=1,Lz=2,则识别出所述待绘图二次曲面方程的所述目标方程类型为第四类曲面方程。则可将所述待绘图二次曲面方程转换为目标形式二次曲面方程为:b(y-y0)+c(z-z0)2=0。
1)如果c*b<0,则可按照上述(m34)所示的目标绘图坐标进行绘图;
如果不满足上述1)的条件,则说明获取的所述待绘图二次曲面方程有误。
例如,获取的所述待绘图二次曲面方程为(z+2)2/9=-5(y-1)2/6+3,分析如下:
获取的所述目标系数分别为b=5/6,c=1/9,所述目标常数项为d=-3,计算所述目标系数与所述目标常数项的乘积,获得b*d<0和c*d<0,则对应的所述目标绘图坐标为上述(m26),具体为:
本实施例中,通过判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值,若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集,根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,从而提高方程类型识别的效率和准确度。
此外,本发明实施例还提出一种存储介质,所述存储介质上存储有二次曲面方程的共享绘图程序,所述二次曲面方程的共享绘图程序被处理器执行时实现如上文所述的二次曲面方程的共享绘图方法的步骤。
此外,参照图4,本发明实施例还提出一种二次曲面方程的共享绘图装置,所述二次曲面方程的共享绘图装置包括:
获取模块10,用于在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;识别模块20,用于根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;变换模块30,用于根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;绘制模块40,用于通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
本发明所述二次曲面方程的共享绘图装置的其他实施例或具体实现方式可参照上述各方法实施例,此处不再赘述。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者系统不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者系统中还存在另外的相同要素。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。在列举了若干装置的单元权利要求中,这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。词语第一、第二、以及第三等的使用不表示任何顺序,可将这些词语解释为标识。
通过以上的实施方式的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到上述实施例方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件,但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质(如只读存储器镜像(Read Only Memory image,ROM)/随机存取存储器(Random AccessMemory,RAM)、磁碟、光盘)中,包括若干指令用以使得一台终端设备(可以是手机,计算机,服务器,空调器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
以上仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述二次曲面方程的共享绘图方法包括以下步骤:
在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;
根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;
根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;
通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形;
其中,所述根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型,具体包括:
判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值;
若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集,所述第一标准方程集中包括所有所述变量数量的标准形式的二次曲面方程;
根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
2.如权利要求1所述的二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
若所述变量数量不为所述第一预设数值,且所述变量次数未均大于所述第二预设数值,则判断各所述变量次数之和是否小于等于第三预设数值;
若各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值,则查找满足各所述变量次数之和小于等于所述第三预设数值的第二标准方程集;
根据所述变量次数及所述第二标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
3.如权利要求1或2所述的二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程,具体包括:
根据所述目标方程类型,从所述待绘图二次曲面方程中查找各所述目标变量的变量位置;
根据所述变量位置从所述待绘图二次曲面方程中提取各所述目标变量分别对应的目标多项式;
从所述待绘图二次曲面方程中提取出目标常数项;
根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程。
4.如权利要求3所述的二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述根据各所述目标变量分别对应的目标多项式和所述目标常数项构建所述目标形式二次曲面方程之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
从所述目标多项式中提取各所述目标变量对应的目标系数;
计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标;
相应地,所述通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形,具体包括:
根据所述目标绘图坐标,通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形。
5.如权利要求4所述的二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积,根据所述乘积及所述目标常数项识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标,具体包括:
计算各所述目标系数与所述目标常数项的乘积;
将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果;
根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
6.如权利要求5所述的二次曲面方程的共享绘图方法,其特征在于,所述将所述乘积及所述目标常数项与所述第二预设数值进行比较,获得比较结果之后,所述二次曲面方程的共享绘图方法还包括:
判断所述比较结果是否满足预设规则;
若所述比较结果满足预设规则,则根据所述比较结果识别所述目标形式二次曲面方程的目标绘图坐标。
7.一种二次曲面方程的共享绘图设备,其特征在于,所述二次曲面方程的共享绘图设备包括:存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的二次曲面方程的共享绘图程序,所述二次曲面方程的共享绘图程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项所述的二次曲面方程的共享绘图方法的步骤。
8.一种存储介质,其特征在于,所述存储介质上存储有二次曲面方程的共享绘图程序,所述二次曲面方程的共享绘图程序被处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项所述的二次曲面方程的共享绘图方法的步骤。
9.一种二次曲面方程的共享绘图装置,其特征在于,所述二次曲面方程的共享绘图装置包括:
获取模块,用于在获取到待绘图二次曲面方程时,获取所述待绘图二次曲面方程中目标变量的变量数量及变量次数;
识别模块,用于根据所述变量数量及所述变量次数识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型;
变换模块,用于根据所述目标方程类型变换所述待绘图二次曲面方程的形式,获得目标形式二次曲面方程;
绘制模块,用于通过预设测试工具绘制所述目标形式二次曲面方程的目标二次曲面图形;
所述识别模块,还用于判断所述变量数量是否为第一预设数值,并判断所述变量次数是否均大于第二预设数值;若所述变量数量为所述第一预设数值,且所述变量次数均大于所述第二预设数值,则查找与所述第一预设数值对应的第一标准方程集,所述第一标准方程集中包括所有所述变量数量的标准形式的二次曲面方程;根据所述变量次数及所述第一标准方程集识别所述待绘图二次曲面方程的目标方程类型。
Priority Applications (1)
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