CN110093584B - 一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法，涉及掩膜版领域，能够减少蒸镀材料的浪费；该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区，掩膜版包括依次设置的第一基板、导光图案层、垂直导热层；导光图案层至少部分位于掩膜图案区，垂直导热层至少覆盖掩膜图案区；垂直导热层背离第一基板一侧的表面作为掩膜版的出光面；导光图案层包括：多种不同朝向的调光面；掩膜版接收的不同方向的入射光线，经导光图案层的不同的调光面进行调光后，在出光面具有不同的出光区域。

Description

一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法

技术领域

本发明涉及掩膜版领域，尤其涉及一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法。

背景技术

电子产品在制作过程中，往往需要利用掩膜版通过蒸镀掩膜工艺来形成各种图案膜层。现有技术中通过在掩膜版上设置镂空区和非镂空区，在进行蒸镀掩膜工艺时，蒸镀材料透过掩膜版上的镂空区域，蒸镀至背板上，从而形成图案膜层；而受掩膜版的非镂空区的阻挡，蒸镀材料会直接蒸镀至掩膜版上，由于蒸镀至掩膜版上的蒸镀材料无法进行再利用，从而造成蒸镀材料的浪费，进而导致产品的成本上升。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法，能够减少蒸镀材料的浪费。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例提供一种掩膜版，包括掩膜图案区以及位于所述掩膜图案区四周的非掩膜图案区，所述掩膜版包括依次设置的第一基板、导光图案层、垂直导热层；所述导光图案层至少部分位于所述掩膜图案区，所述垂直导热层至少覆盖所述掩膜图案区；所述垂直导热层背离所述第一基板一侧的表面作为所述掩膜版的出光面；所述导光图案层包括：多种不同朝向的调光面；所述掩膜版接收的不同方向的入射光线，经所述导光图案层的不同的调光面进行调光，在所述出光面具有不同的出光区域。

在一些实施例中，所述多种不同的调光面与所述第一基板的夹角不同。

在一些实施例中，所述垂直导热层背离所述第一基板一侧的表面中包括第一平面；所述第一平面与所述第一基板平行，且所述第一平面至少覆盖所述掩膜图案区。

在一些实施例中，在所述掩膜图案区中，所述导光图案层包括透光区和调光区；所述导光图案层在所述调光区包括：沿背离所述第一基板方向上依次设置的第一调光图案层、反光器件；所述第一调光图案层在靠近所述第一基板一侧的表面为反光面或吸光面；所述反光器件在背离所述第一调光图案层的一侧包括：倾斜反光面；所述倾斜反光面和所述第一基板之间的夹角中，朝向该倾斜反光面接收入射光线一侧的角度大于90°、且小于180°。

在一些实施例中，所述倾斜反光面包括：第一倾斜反光面和第二倾斜反光面。

在一些实施例中，所述调光区包括多个独立设置的条状调光子区；所述第一调光图案层包括设置于每一所述条状调光子区的调光条。

在一些实施例中，所述调光区包括多个独立设置的条状调光子区；所述第一调光图案层包括设置于每一所述条状调光子区的调光条；在所述反光器件包括第一倾斜反光面和第二倾斜反光面的情况下，所述反光器件在每一所述条状调光子区中均包括：沿所述条状调光子区的延伸方向上设置的第一倾斜反光面和第二倾斜反光面；所述第一倾斜反光面和所述第二倾斜反光面相连接，且两者在靠近所述出光面一侧的夹角大于180°、且小于360°。

在一些实施例中，所述反光器件为棱镜结构，所述倾斜反光面位于所述棱镜结构上。

在一些实施例中，所述反光器件包括支撑部和反射图案层；所述支撑部在背离所述第一调光图案层的一侧设置具有倾斜面，所述反射图案层覆盖所述倾斜面；所述倾斜面和所述反射图案层构成所述倾斜反光面。

在一些实施例中，所述第一基板为透明基板。

本发明实施例还提供一种掩膜版系统，包括光源以及如前述的掩膜版；所述光源用于向所述掩膜版发射入射光线。

本发明实施例还提供一种采用如前述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，包括：在掩膜版的出光面上形成至少覆盖掩膜图案区的待蒸镀膜层；控制光源先后向所述掩膜版中的多种不同的调光面发射不同的入射光线，以使得不同方向的入射光线先后将位于出光面中不同出光区域的待蒸镀膜层加热蒸镀，形成不同的蒸镀图案。

在一些实施例中，所述掩膜版在掩膜图案区中，所述导光图案层包括透光区和调光区；所述导光图案层在所述调光区包括：沿背离所述第一基板方向上依次设置的第一调光图案层、反光器件；所述第一调光图案层在靠近所述第一基板一侧的表面为反光面或吸光面；所述反光器件在背离所述第一调光图案层的一侧包括：倾斜反光面；所述倾斜反光面和所述第一基板之间的夹角中，朝向该倾斜反光面接收入射光线一侧的角度大于90°、且小于180°；所述控制光源先后向所述掩膜版中的多种不同的调光面发射不同的入射光线，以使得不同方向的入射光线先后将位于出光面中不同出光区域的待蒸镀膜层加热蒸镀，形成不同的蒸镀图案包括：控制光源从第一基板的背面，以第一方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层的第一区域接收从所述透光区透过的光线的照射受热蒸镀，形成第一蒸镀图案；控制光源从所述掩膜版中倾斜反光面朝向的侧面，以倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二区域接收经所述倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案。

在一些实施例中，所述第一方向为与所述第一基板垂直的方向。

在一些实施例中，所述倾斜反光面包括：第一倾斜反光面和第二倾斜反光面；所述控制光源从所述掩膜版中倾斜反光面朝向的侧面，以倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二区域接收经所述倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案包括：控制光源从所述掩膜版中第一倾斜反光面朝向的侧面，以第一倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第一子区域接收经所述第一倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第一子蒸镀图案；控制光源从所述掩膜版中第二倾斜反光面朝向的侧面，以第二倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二子区域接收经所述第二倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二子蒸镀图案。

在一些实施例中，逐个形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案；或者，先同时形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案的三个蒸镀图案中的两个蒸镀图案，再形成所述三个蒸镀图案中的另一个蒸镀图案；或者，先形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案的三个蒸镀图案中的一个蒸镀图案，再同时形成所述三个蒸镀图案中的另外两个蒸镀图案。

本发明实施例提供一种掩膜版、掩膜系统及蒸镀掩膜方法，该掩膜版包括掩膜图案区以及位于掩膜图案区四周的非掩膜图案区，掩膜版包括依次设置的第一基板、导光图案层、垂直导热层；导光图案层至少部分位于掩膜图案区，垂直导热层至少覆盖掩膜图案区；垂直导热层背离第一基板一侧的表面作为掩膜版的出光面；导光图案层包括：多种不同朝向的调光面；掩膜版接收的不同方向的入射光线，经导光图案层的不同调光面进行调光后，在出光面具有不同的出光区域。

综上所述，相比于相关技术中，采用具有镂空图案的掩膜版进行蒸镀掩膜形成一个蒸镀图案时，导致蒸镀图案以外的区域的蒸镀材料蒸镀至掩膜版上，无法再加以利用而言，本发明实施例提供的掩膜版能够将接收的不同方向的入射光线，经导光图案层的不同调光面调光后，在出光面具有不同的出光区域；这样一来，在进行蒸镀掩膜时，通过在掩膜版的出光面制作一层待蒸镀薄膜，并在不同方向的入射光线的作用下，可以将该待蒸镀薄膜的不同区域进行多次蒸镀，形成多个蒸镀图案，从而也就提高了蒸镀材料的利用率，减少了蒸镀材料的浪费，进而降低了产品的成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种像素驱动电路示意图；

图3为本发明实施例提供的一种亚像素内部结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种显示面板的内部结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种显示面板的亮度分布示意图；

图6为本发明实施例提供的一种显示面板的局部剖面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种显示面板中辅助阴极的位置示意图；

图8为本发明实施例提供的一种掩膜版的平面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种掩膜版的剖面结构示意图；

图10为本发明实施例提供的一种掩膜版的局部剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的一种蒸镀掩膜方法；

图12为图10的掩膜版的蒸镀过程示意图；

图13为本发明实施例提供的一种掩膜版局部的剖面结构示意图；

图14为本发明实施例提供的一种蒸镀掩膜方法；

图15为图13的掩膜版的蒸镀过程示意图；

图16为本发明实施例提供的一种掩膜版的局部剖面结构示意图；

图17为本发明实施例提供的一种蒸镀掩膜方法；

图18为图16的掩膜版的蒸镀过程示意图；

图19为本发明实施例提供的一种掩膜版局部放大示意图；

图20为本发明实施例提供的一种掩膜版中的导光图案层的局部放大示意图；

图21为本发明实施例提供的一种掩膜版中的导光图案层的局部放大示意图；

图22为本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

除非另外定义，本申请实施例中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。

此外，本申请中，“上”、“下”、“左”、“右”、“水平”以及“竖直”等方位术语是相对于附图中的部件示意置放的方位来定义的，应当理解到，这些方向性术语是相对的概念，它们用于相对于的描述和澄清，其可以根据附图中部件所放置的方位的变化而相应地发生变化。

本发明实施例以掩膜版在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示面板的制作过程中应用为例进行说明。

OLED显示面板因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，受到广泛的关注，OLED显示面板也被誉为新一代显示技术。

如图1所示，上述显示面板001包括：显示区1(active area，AA；简称AA区；也可称为有效显示区)和围绕AA区一圈设置的周边区2。

显示面板001在显示区1中包括多个亚像素(sub pixel)P，该多个亚像素P中至少包括第一颜色亚像素、第二颜色亚像素和第三颜色亚像素；其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色(例如红色、绿色和蓝色)。示例的，在一些实施例中显示面板001可以包括红色亚像素、绿色亚像素、蓝色亚像素。另外，可以理解的是，显示面板001中还设置有多条栅线(Gate Line)GL以及多条数据线(Data Line)DL，并且每一亚像素P中均设置有像素驱动电路3。

为了方便说明，本申请中上述多个亚像素P是以矩阵形式排列为例进行的说明。在此情况下，沿水平方向X排列成一排的亚像素P称为同一行亚像素；沿竖直方向Y排列成一排的亚像素P称为同一列亚像素。同一行亚像素可以与一根栅线GL连接，同一列亚像素可以与一根数据线DL连接。

如图1所示，在亚像素P中设置有像素驱动电路3，该像素驱动电路3包括OLED以及驱动OLED的驱动电路。其中，驱动电路一般由薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)、电容(Capacitance，简称C)等电子器件组成。示例的，如图2所示，在一些实施例中，上述驱动电路可以是由两个薄膜晶体管(一个开关晶体管STFT和一个驱动晶体管DTFT)和一个存储电容Cst构成的2T1C结构的像素驱动电路3。当然，驱动电路还可以是由两个以上的薄膜晶体管(多个开关TFT和一个驱动TFT)和至少一个电容构成。

如图3所示，在亚像素P中，上述有机发光二极管(OLED)包括阴极100和阳极200，以及位于阴极100和阳极200之间的发光功能层。其中，发光功能层可以包括有机发光层EML、位于有机发光层EML和阳极之间的空穴传输层HTL、位于有机发光层EML和阴极之间的电子传输层ETL。当然，根据需要，在一些实施例中，还可以在空穴传输层HTL和阳极之间设置空穴注入层，可以在电子传输层ETL和阴极之间设置电子注入层。

在显示时，通过控制施加在阳极200和阴极100上的电压，利用阳极注入空穴，阴极注入电子，所形成的电子和空穴在有机发光层EML相遇而产生激子，从而激发有机发光层EML发光；通过驱动电路控制控制施加在阳极200和阴极100上的电压差，进而控制有机发光层EML的发光亮度不同，以实现不同的灰阶显示。

另外，如图1所示，显示面板001在周边区2设置有栅极驱动电路(可以为GOA电路)和数据驱动电路。其中，栅极驱动电路可以设置在沿栅线GL的延伸方向上的侧边，数据驱动电路可以设置在沿数据线DL的延伸方向上的侧边，以驱动显示面板001中的像素驱动电路01，从而实现画面显示。

如图4所示，在显示面板001中，所有亚像素P中的有机发光二极管OLED的阴极100为连接在一起的面状电极，在通过位于显示面板001的周边区2中的信号线向阴极100(面状电极)输入电信号时，由于电流电阻损失(IR raising)的存在，会导致阴极100在中心区域处产生较大的电压损失，使得位于显示面板001的中心区域的有机发光二极管OLED的阳极200和阴极100的电压差减小，造成在显示时，显示面板001中心位置区域处的亮度相比于边缘位置区域的亮度低(参考图5中的曲线11)，导致显示画面的均匀性差。

示例的，以高分辨率的硅基Micro OLED显示面板为例，如图6中示出的显示面板的局部剖面图所示，该显示面板在设置有驱动电路的基板10上设置白光有机发光二极管WOLED，在显示面板001的出光侧设置有彩色滤光图案层(例如红色滤光图案层R、绿色滤光图案层G、蓝色滤光图案层B)。

在此基础上，如图6所示，为了减小阴极100的阻抗(也即降低IR raising)，在阴极100上并联设置辅助电极101，该辅助电极101可以采用电阻率小的金属材料，如Mn、Al、Ti等，以减小显示面板001在显示时，中心位置区域和边缘位置区域的亮度差(参考图5中的曲线12)，从而提高显示画面的亮度均匀性。

当然，为了避免辅助阴极101对正常显示造成影响，如图7所示，可以将辅助阴极101设置在相邻的亚像素P之间的位置(也即像素定义层PDL的位置)。

上述辅助阴极101在制作时，采用本发明实施例提供的掩膜系统进行掩膜蒸镀，能够避免在蒸镀过程中，辅助阴极101以外的区域的蒸镀材料蒸镀至掩膜版上而无法加以利用，而造成蒸镀材料的浪费。

本发明实施例提供的掩膜系统包括光源以及掩膜版，其中，光源用于向掩膜版发射入射光线。

上述光源采用发出具有较大能量的光线的光源，例如可以为激光光源、紫外光光源等。

如图8所示，上述掩膜版M包括：掩膜图案区01以及位于掩膜图案区01四周的非掩膜图案区02。

在一些实施例中，如图8所示，掩膜版M在掩膜图案区01包括多个有效掩膜区C(不限制于图8中的6个有效掩膜区C)，每一有效掩膜区C对应一个显示面板001所在的区域。

如图9所示(图8沿AA’位置的剖面图)，上述掩膜版M包括依次设置的第一基板20、导光图案层21、垂直导热层22。

上述导光图案层21至少部分位于掩膜图案区01，垂直导热层22至少覆盖掩膜图案区01；其中，垂直导热层22背离第一基板20一侧的表面作为掩膜版M的出光面D1。

如图10(图8沿BB’位置的剖面图，也即掩膜版M中的一个有效掩膜区C位置的剖面图)所示，上述导光图案层20包括：多种不同朝向的调光面(131、132)。在一些实施例中，多种不同的调光面与第一基板20的夹角不同。其中，多种不同的调光面可以包括反光面、吸光面中的一种或多种。

上述多种不同朝向的调光面，也可以称为多类调光面；同种(同类)调光面是指，对光线的调节方式完全一致。例如，在采用反射的调光方式下，对于接收同一方向的入射光线，同种调光面的入射角以及出射角均相同。

另外，每一种调光面可以是一个，也可以多个。如图10所示，两种调光面：第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132，均为多个。其中，第一基板20本身为平面结构，本发明实施例中所涉及的倾斜反光面、倾斜面、倾角、夹角等均是以第一基板20所在的平面为参考水平面。

上述掩膜版M接收的不同方向的入射光线，经导光图案层21的不同调光面进行调光，在出光面D1具有不同的出光区域。此处可以理解的是，掩膜版M接收的不同方向的入射光线必然是从除掩膜版M的出光面D1以外的平面接收的。

上述垂直导热层22采用具有较好垂直导热效果的材料，从而能够将掩膜版M接收的光源发出的光线产生的热量，有效的传导至出光面的出光区域。

综上所述，相比于相关技术中，采用具有镂空图案的掩膜版进行蒸镀掩膜形成一个蒸镀图案时，导致蒸镀图案以外的区域的蒸镀材料蒸镀至掩膜版上，无法再加以利用而言，本发明实施例提供的掩膜版M能够将接收的不同方向的入射光线，经导光图案层21的不同调光面调光后，在出光面D1具有不同的出光区域；这样一来，在进行蒸镀掩膜时，通过在掩膜版M的出光面D1制作一层待蒸镀薄膜，并在不同方向的入射光线的作用下，可以将该待蒸镀薄膜的不同区域进行多次受热蒸镀，形成多个蒸镀图案，从而也就提高了蒸镀材料的利用率，减少了蒸镀材料的浪费，进而降低了产品的成本。

在此基础上，为了保证蒸镀成膜的均匀性，如图9所示，上述垂直导热层22在背离第一基板20一侧的表面中包括第一平面，该第一平面与第一基板20平行，且该第一平面至少覆盖掩膜图案区01；也即出光面D1至少在位于掩膜图案区01与第一基板20平行。以下通过具体实施例对本发明中导光图案层21的设置方式做进一步的说明。

实施例一

如图10所示，在掩膜版M的掩膜图案区01(或者说有效掩膜区C)中，导光图案层20包括反光器件212；反光器件212在背离第一基板20的一侧包括第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132。也即掩膜版M包括两种调光面；其中，两种调光面均包括多个反光面。

上述第一倾斜反光面131和第一基板20之间的夹角中，朝向该第一倾斜反光面131接收入射光线一侧的角度β1大于90°、且小于180°；例如，可以为120°、135°、150°。

上述第二倾斜反光面132和第二基板20之间的夹角中，朝向该第二倾斜反光面132接收入射光线一侧的角度β2大于90°、且小于180°；例如，可以为120°、135°、150°。

在此情况下，掩膜版M从第一倾斜反光面131朝向的侧面接收入第一倾斜方向的射光线，经第一倾斜反光面131反射后，从出光面D1的第一区域出射；掩膜版M从第二倾斜反光面132朝向的侧面接收入第二倾斜方向的射光线，经第二倾斜反光面132反射后，从出光面D1的第二区域出射；其中第一区域和第二区域不同，也即两者没有交叠的部分。

基于此，在采用包括上述图10的掩膜版M的掩膜系统，在进行蒸镀掩膜时，如图11所示，蒸镀掩膜方法可以包括：

步骤S101、如图12中(a)所示，在掩膜版M的出光面D1上形成至少覆盖掩膜图案区01的待蒸镀薄膜30。

步骤S102、如图12中(b)所示，控制光源40从掩膜版M中第一倾斜反光面131朝向的侧面，以第一倾斜方向的入射光线L1照射掩膜版M，待蒸镀膜层30中的第一区域S1接收经第一倾斜反光面131反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第一蒸镀图案51。

步骤S103、如图12中(c)所示，控制光源40从掩膜版M中第二倾斜反光面132朝向的侧面，以第二倾斜方向的入射光线L2照射掩膜版M，待蒸镀膜层30中的第二区域S2接收经第二倾斜反光面132反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案52。

需要说明的是，图12中仅是以先进行步骤S102形成第一蒸镀图案51，再进行步骤S103形成第二蒸镀图案52为例进行说明的；实际中，也可以是先进行步骤S103形成第二蒸镀图案52，再进行步骤S102形成第一蒸镀图案51。另外，上述第一蒸镀图案51和第二蒸镀图案52可以蒸镀至同一背板上，可以蒸镀至不同的背板上，本发明对此不做限定，根据实际的蒸镀需求进行选择即可。

实施例二

如图13所示，在掩膜版M的掩膜图案区01(或者说有效掩膜区C)中，导光图案层21包括透光区P1和调光区P2。

导光图案层21在调光区P2包括：沿背离第一基板20方向上依次设置的第一调光图案层211、反光器件212。为了保证透光区P1的透光效果，在一些实施例中，可以设置第一基板20为透明基板。

在一些实施例中，如图13所示，反光器件212在第一基板20上的正投影可以与第一调光图案层211在第一基板20上的正投影重合；在一些实施例中，反光器件212在第一基板20上的正投影可以位于第一调光图案层211在第一基板20上的正投影内部；本发明对此不做限定。

如图13所示，上述反光器件212在背离第一调光图案层211的一侧包括一个倾斜反光面13。该倾斜反光面13和第一基板20之间的夹角中，朝向该倾斜反光面13接收入射光线一侧的角度β大于90°、且小于180°；例如，可以为120°、135°、150°。

在一些实施例中，上述第一调光图案层211的下表面14可以为反光面。示例的，第一调光图案层211可以反光材料制成，例如可以采用金属反光材料制成。

在一些实施例中，上述第一调光图案层211的下表面14可以为吸光面。示例的，第一调光图案层211可以吸光材料制成，例如可以采用黑色树脂材料制成。

综上可知，在该掩膜版M中包括两种调光面：第一调光图案层211的下表面14以及倾斜反光面13。

在此情况下，掩膜版M从第一基板20的背面接收第一方向的入射光线，该光线穿过透光区P1从出光面D1的第一区域出射，而受第一调光图案层211的下表面14反射或吸收，入射光线不能从出光面D1出射；掩膜版M从倾斜反光面13朝向的侧面接收入倾斜方向的射光线，经倾斜反光面13反射后，从出光面D1的第二区域出射；其中第一区域和第二区域不同，也即两者没有交叠的部分。

基于此，在采用包括上述图13的掩膜版M的掩膜系统，在进行蒸镀掩膜时，如图14所示，蒸镀掩膜方法可以包括：

步骤S201、如图15中(a)所示，在掩膜版M的出光面D1上形成至少覆盖掩膜图案区01的待蒸镀薄膜30。

步骤S202、如图15中(b)所示，控制光源40从第一基板20的背面，以第一方向的入射光线L1照射掩膜版M，待蒸镀膜层30的第一区域S1接收从透光区P1透过的光线的照射受热蒸镀，形成第一蒸镀图案51。

在一些实施例中，上述第一方向可以为垂直第一基板20的方向。

步骤S203、如图15中(c)所示，控制光源40从掩膜版M中倾斜反光面13朝向的侧面，以倾斜方向的入射光线L2照射掩膜版M，待蒸镀膜层30中的第二区域S2接收经倾斜反光面13反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案52。

需要说明的是，图15中仅是以先进行步骤S202形成第一蒸镀图案51，再进行步骤S203形成第二蒸镀图案52为例进行说明的。实际中，也可以是先进行步骤S203形成第二蒸镀图案52，再进行步骤S202形成第一蒸镀图案51。另外，第一蒸镀图案51和第二蒸镀图案52可以蒸镀至同一背板上，可以蒸镀至不同的背板上，本发明对此不做限定，根据实际的蒸镀需求进行选择即可。

实施例三

如图16所示，该掩膜版M与实施例二中的掩膜版M相比，仅反光器件212在背离第一调光图案层211的一侧包括二个倾斜反光面13：第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132，其他设置可以与实施例二中一致，此处不再赘述。

基于此可知，该掩膜版M中包括三种调光面：第一调光图案层211的下表面14、第一倾斜反光面131、第二倾斜反光面132。

在此情况下，掩膜版M从第一基板20的背面接收第一方向的入射光线，该光线穿过透光区P1从出光面D1的第一区域出射，而受第一调光图案层211的下表面14反射或吸收，入射光线不能从出光面D1出射。掩膜版M从第一倾斜反光面131朝向的侧面接收入第一倾斜方向的射光线，经第一倾斜反光面131反射后，从出光面D1的第二区域(也可以称为：第一子区域)出射；掩膜版M从第二倾斜反光面132朝向的侧面接收入第二倾斜方向的射光线，经第二倾斜反光面132反射后，从出光面D1的第三区域(也可以称为：第二子区域)出射。其中，第一区域、第二区域、第三区域不同，也即三者之间没有交叠的部分。

基于此，在采用包括上述图16的掩膜版M的掩膜系统，在进行蒸镀掩膜时，如图17所示，蒸镀掩膜方法可以包括：

步骤S301、如图18中(a)所示，在掩膜版M的出光面D1上形成至少覆盖掩膜图案区01的待蒸镀薄膜30。

步骤S302、如图18中(b)所示，控制光源40从第一基板20的背面，以第一方向的入射光线L1照射掩膜版M，待蒸镀膜层30的第一区域S1接收从透光区P1透过的光线的照射受热蒸镀，形成第一蒸镀图案51。

在一些实施例中，上述第一方向可以为垂直第一基板20的方向。

步骤S303、如图18中(c)所示，控制光源40从掩膜版M中第一倾斜反光面131朝向的侧面，以第一倾斜方向的入射光线L2照射掩膜版M，待蒸镀膜层30中的第二区域S2(第一子区域)接收经第一倾斜反光面131反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案52(第一子蒸镀图案)。

步骤S304、如图18中(d)所示，控制光源40从掩膜版M中第二倾斜反光面132朝向的侧面，以第二倾斜方向的入射光线L3照射掩膜版M，待蒸镀膜层30中的第三区域S3(第二子区域)接收经第二倾斜反光面132反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第三蒸镀图案53(第一子蒸镀图案)。

需要说明的是，图18中仅是示例的以依次进行步骤S302、步骤S303、步骤S304，也即依次形成第一蒸镀图案51、第二蒸镀图案52、第三蒸镀图案53为例进行说明的。本发明中对于步骤S302、步骤S303、步骤S304的制作顺序不做限定。

在一些实施例中，可以逐个形成第一蒸镀图案51、第二蒸镀图案52、第三蒸镀图案53，但并不限制第一蒸镀图案51、第二蒸镀图案52、第三蒸镀图案53的先后形成次序。

在一些实施例中，可以先同时进行步骤S302、步骤S303、步骤S304中的两个步骤，再进行另一个步骤；也即先同时形成第一蒸镀图案51、第二蒸镀图案52、第三蒸镀图案53中的两个蒸镀图案，再形成另一个蒸镀图案。

在一些实施例中，可以先进行步骤S302、步骤S303、步骤S304中的一个步骤，再同时进行另外两个步骤；也即先形成第一蒸镀图案51、第二蒸镀图案52、第三蒸镀图案53中的一个蒸镀图案，再同时形成另外两个蒸镀图案。

在此基础上，以下对上述实施例(包括实施例一、实施例二、实施例三)中掩膜版M的其他设置结构做进一步的说明。

对于实施例二和实施例三而言，如图19所示，掩膜版M在每一有效掩膜区C均包括：多个独立设置的条状调光子区p；在此情况下，导光图案层21中的第一调光图案层211包括：设置于每一条状调光子区p的调光条。该调光条的下表面为吸光面或反光面(参考图13和图16中的第一调光图案层211的下表面14)。

对于实施例一而言，掩膜版M在每一有效掩膜区C，可以包括多个连续设置的条状调光子区p；也可以包括多个独立设置的条状调光子区p；本发明对此不做具体限定。

对于前述实施一和实施例三(图10和图16)中示出的反光器件212包括第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132的情况下，反光器件212在每一条状调光子区p中均包括：沿条状调光子区p的延伸方向上设置的条状第一倾斜反光面131和条状第二倾斜反光面132；参考图16，第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132相连接，且两者在靠近出光面D1一侧的夹角α大于180°、且小于360°；例如，可以为220°、260°、300°。

对前述各实施例中的反光器件212中的倾斜反光面13(包括第一倾斜反光面131和第二倾斜反光面132)而言：

在一些实施例中，如图20所示，上述反光器件212可以为棱镜结构，倾斜反光面13位于棱镜结构上；也即在加工制作棱镜结构的反光器件212时，直接制作出倾斜反光面13。在一些实施例中，如图21所示，反光器件212可以包括支撑部2121和反射图案层2122；其中，支撑部2121在背离第一调光图案层211的一侧设置有倾斜面m，反射图案层2122覆盖倾斜面m；倾斜面m和反射图案层2122构成了前述的倾斜反光面13。

本发明实施例还提供一种如前述的掩膜版M的制作方法，如图22所示，上述制作方法包括：

步骤S01、参考图13、图16，在透明的第一基板20上至少位于掩膜图案区01形成第一调光图案层211；其中，第一调光图案层211在靠近第一基板20一侧的表面为反光面或吸光面；第一调光图案层211中保留膜层部分构成掩膜版M的调光区P2，去除膜层部分构成掩膜版M的透光区P1。

示例的，可以在在第一基板20上形成金属反射薄膜，并通过构图工艺(包括曝光、显影、刻蚀、剥离等过程)形成第一调光图案层211。

步骤S02、在形成有第一调光图案层211的第一基板20上，位于调光区P2形成反光器件212；其中，反光器件212在背离第一基板20的一侧包括：倾斜反光面13；倾斜反光面13与第一基板20不垂直、不平行，且倾斜反光面13朝向背离第一基板20的一侧。

示例的，可以先在供体基板上形成采用棱镜结构形成的上述反光器件212，然后将反光器件212从供体基板转移至第一调光图案层211上。

步骤S03、在形成有反光器件212的第一基板20上形成至少覆盖掩膜图案区01的垂直导热层22；垂直导热层22背离第一基板20一侧的表面作为掩膜版M的出光面D1；掩膜版M接收的不同方向的入射光线，经第一调光图案层211的下表面14和倾斜反光面13反射后，在出光面D1具有不同的出光区域。

由于前述实施例已经对掩膜版M的结构和有益效果进行了详细的描述，此处不再赘述。另外，对于前述实施例中提供的其他掩膜版M结构，可以参考上述制作方法中的相关内容，对应选择合适的制作工艺即可，此处不再赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种掩膜版，包括掩膜图案区以及位于所述掩膜图案区四周的非掩膜图案区，其特征在于，所述掩膜版包括依次设置的第一基板、导光图案层、垂直导热层；

所述导光图案层在所述第一基板上的正投影部分或全部位于所述掩膜图案区在所述第一基板上的正投影内，所述垂直导热层至少覆盖所述掩膜图案区；

所述垂直导热层背离所述第一基板一侧的表面作为所述掩膜版的出光面；

所述导光图案层包括：多种不同朝向的调光面；

所述掩膜版接收的不同方向的入射光线，经所述导光图案层的不同的调光面进行调光后，在所述出光面具有不同的出光区域。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述多种不同的调光面与所述第一基板的夹角不同。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述垂直导热层背离所述第一基板一侧的表面中包括第一平面；

所述第一平面与所述第一基板平行，且所述第一平面至少覆盖所述掩膜图案区。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

在所述掩膜图案区中，所述导光图案层包括透光区和调光区；

所述导光图案层在所述调光区包括：沿背离所述第一基板方向上依次设置的第一调光图案层、反光器件；

所述第一调光图案层在靠近所述第一基板一侧的表面为反光面或吸光面；

所述反光器件在背离所述第一调光图案层的一侧包括：倾斜反光面；

所述倾斜反光面和所述第一基板之间的夹角中，朝向该倾斜反光面接收入射光线一侧的角度大于90°、且小于180°。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述倾斜反光面包括：第一倾斜反光面和第二倾斜反光面。

6.根据权利要求4或5所述的掩膜版，其特征在于，

所述调光区包括多个独立设置的条状调光子区；

所述第一调光图案层包括设置于每一所述条状调光子区的调光条。

7.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，

所述调光区包括多个独立设置的条状调光子区；所述第一调光图案层包括设置于每一所述条状调光子区的调光条；

所述反光器件在每一所述条状调光子区中均包括：沿所述条状调光子区的延伸方向上设置的第一倾斜反光面和第二倾斜反光面；所述第一倾斜反光面和所述第二倾斜反光面相连接，且两者在靠近所述出光面一侧的夹角大于180°、且小于360°。

8.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，

所述反光器件为棱镜结构，所述倾斜反光面位于所述棱镜结构上；

或者，所述反光器件包括支撑部和反射图案层；所述支撑部在背离所述第一调光图案层的一侧设置具有倾斜面，所述反射图案层覆盖所述倾斜面；所述倾斜面和所述反射图案层构成所述倾斜反光面。

9.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一基板为透明基板。

10.一种掩膜系统，其特征在于，包括光源以及如权利要求1-9任一项所述的掩膜版；所述光源用于向所述掩膜版发射入射光线。

11.一种采用如权利要求10所述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，其特征在于，包括：

在掩膜版的出光面上形成至少覆盖掩膜图案区的待蒸镀膜层；

控制光源先后向所述掩膜版中的多种不同的调光面发射不同的入射光线，以使得不同方向的入射光线先后将位于出光面中不同出光区域的待蒸镀膜层加热蒸镀，形成不同的蒸镀图案。

12.根据权利要求11所述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，其特征在于，

所述掩膜版在掩膜图案区中，所述导光图案层包括透光区和调光区；所述导光图案层在所述调光区包括：沿背离所述第一基板方向上依次设置的第一调光图案层、反光器件；所述第一调光图案层在靠近所述第一基板一侧的表面为反光面或吸光面；所述反光器件在背离所述第一调光图案层的一侧包括：倾斜反光面；所述倾斜反光面和所述第一基板之间的夹角中，朝向该倾斜反光面接收入射光线一侧的角度大于90°、且小于180°；

所述控制光源先后向所述掩膜版中的多种不同的调光面发射不同的入射光线，以使得不同方向的入射光线先后将位于出光面中不同出光区域的待蒸镀膜层加热蒸镀，形成不同的蒸镀图案包括：

控制光源从第一基板的背面，以第一方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层的第一区域接收从所述透光区透过的光线的照射受热蒸镀，形成第一蒸镀图案；

控制光源从所述掩膜版中倾斜反光面朝向的侧面，以倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二区域接收经所述倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案。

13.根据权利要求12所述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，其特征在于，

所述第一方向为与所述第一基板垂直的方向。

14.根据权利要求12所述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，其特征在于，

所述倾斜反光面包括：第一倾斜反光面和第二倾斜反光面；

所述控制光源从所述掩膜版中倾斜反光面朝向的侧面，以倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二区域接收经所述倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二蒸镀图案包括：

控制光源从所述掩膜版中第一倾斜反光面朝向的侧面，以第一倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第一子区域接收经所述第一倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第一子蒸镀图案；

控制光源从所述掩膜版中第二倾斜反光面朝向的侧面，以第二倾斜方向的入射光线照射所述掩膜版，所述待蒸镀膜层中的第二子区域接收经所述第二倾斜反光面反射后的光线的照射受热蒸镀，形成第二子蒸镀图案。

15.根据权利要求14所述的掩膜系统的蒸镀掩膜方法，其特征在于，

逐个形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案；

或者，先同时形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案的三个蒸镀图案中的两个蒸镀图案，再形成所述三个蒸镀图案中的另一个蒸镀图案；

或者，先形成所述第一蒸镀图案、所述第一子蒸镀图案、所述第二子蒸镀图案的三个蒸镀图案中的一个蒸镀图案，再同时形成所述三个蒸镀图案中的另外两个蒸镀图案。

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