CN110079763B - 掩膜板及掩膜组件 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种掩膜板，包括遮挡部和环绕所述遮挡部的外围沉积图案区；所述外围沉积图案区具有多个贯穿所述掩膜板的沉积开口；其中，多个所述沉积开口沿相同方向并行延伸，所述沉积开口的延伸方向平行于所述掩膜板。如此，当使用该掩膜板制备显示面板时，掩膜板的遮挡部受力均匀，减少了上翘、下垂或塌陷的现象的发生，且外围沉积图案区环绕遮挡部设置，多个沉积开口沿相同方向并行排布，当掩膜板张网时可以施加于遮挡部相同方向(例如张网方向)上的拉力，从而进一步减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生，提高了蒸镀的精度。还提供一种掩膜组件。

Description

掩膜板及掩膜组件

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板及掩膜组件。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)显示。

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，掩膜板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)，CMM用于蒸镀共通层，FMM用于蒸镀发光层。

发明人发现，随着产品要求的多样化，OLED显示面板的生产中存在的技术壁垒也越来越多的表现出来。针对显示面板中间需要钻孔的各种类型的产品，在制作过程中，采用现有技术中的掩膜板蒸镀容易出现蒸镀混色、均一性差的问题。

发明内容

基于此，本发明提供了一种掩膜板及掩膜组件，以解决了针对中间需要钻孔的显示面板蒸镀混色、均一性差的问题，提高了显示面板像素蒸镀位置的精度。

根据本申请的一个方面，提供一种掩膜板，包括遮挡部和环绕所述遮挡部的外围沉积图案区；

所述外围沉积图案区具有多个贯穿所述掩膜板的沉积开口；

其中，多个所述沉积开口沿相同方向并行排布。

如此，当使用该掩膜板制备显示面板时，掩膜板的遮挡部为规则形状，受力均匀，减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生。外围沉积图案区环绕遮挡部设置，多个沉积开口沿相同方向并行排布，当掩膜板张网时可以施加于遮挡部相同方向(例如张网方向)上的拉力，从而进一步减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生，提高了蒸镀的精度。

在一实施例中，所述沉积开口呈长条状，多个所述沉积开口沿相同方向彼此平行且并行间隔设置；

部分所述沉积开口中每一所述沉积开口被所述遮挡部阻断而分隔为第一部分和第二部分；

优选地，所述第一部分和第二部分以所述遮挡部的中心为基准对称设置。

在一实施例中，未被所述遮挡部阻断的所述沉积开口沿其延伸方向包括至少两个彼此间隔的子沉积开口。

在一实施例中，多个所述沉积开口呈网格状排布；

每一所述沉积开口对应于至少一个子像素。

在一实施例中，在所述沉积开口的延伸方向上，所述沉积开口的宽度连续变化或间断变化；

且相邻的两个所述沉积开口的两条相邻的边的间距连续变化或间断变化。

在一实施例中，在所述沉积开口的延伸方向上，所述开口的至少一条边为波浪形。

在一实施例中，所述沉积开口的两条边均为波浪形，所述两条边的波峰相对设置，且所述两条边的波谷相对设置。

在一实施例中，所述遮挡部开设有至少一个凹槽；

所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。

在一实施例中，所述遮挡部具有蒸镀面及与所述蒸镀面相对设置的玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；

所述凹槽包括设置于所述玻璃面的第一凹槽。

在一实施例中，所述凹槽还包括设置于所述蒸镀面的第二凹槽，且沿所述遮挡部的厚度方向上，所述第一凹槽与所述第二凹槽彼此不连通。

在一实施例中，所述遮挡部包括隔离区和虚设区；

所述隔离区用于将所述虚设区与所述外围沉积图案区彼此隔离；

其中，所述虚设区设有贯穿所述掩膜板的虚设沉积开口；和/或所述虚设区设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。

根据本申请的另一方面，提供一种掩膜组件，包括掩膜框架及至少一个如上述实施例所述的掩膜板；

所述掩膜板接合固定于所述掩膜框架上。

附图说明

图1为本申请一实施例中的智能手表的平面示意图；

图2为现有技术中一实施例提供的掩膜板的平面示意图；

图3为现有技术中另一实施例提供的掩膜板的平面示意图；

图4为本申请一实施例中的显示面板的截面示意图；

图5为本申请一实施例中的掩膜板的结构示意图；

图6为图5所示的掩膜板的子掩膜板的平面示意图；

图7为图6所示的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；

图8为本申请另一实施例中的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；

图9为本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；

图10为本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；

图11为本申请一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图；

图12为本申请另一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图；

图13为本申请的又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图；

图14为本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的平面示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

正如背景技术中所述，随着移动技术的发展，数字化产品越来越向那功能化、微型化及便携性方向发展，以智能手表为代表的可穿戴产品逐渐开始崭露头角，为提高智能手表的显示性能，并实现微型化，智能手表目前已纷纷采用OLED显示面板，如Apple Watch、Huawei Watch等。然而，传统的机械指针手表由于高品位、精品化、工艺成熟以及多样化等因素，仍是众多消费者的首要选择。但智能手表却给予传统机械指针手表新的启示，例如传统的机械指针手表的生产者和研发者也希望在其产品的基础上增加智能显示功能，使产品达到升级。现有的机械指针手表虽然也有部分带有显示功能，但其显示面板大多用于显示简单的数字或图案，无法满足智能手表所需要的多项信息的显示。

参阅图1，与传统的机械手表相比，机械指针手表中设置OLED显示面板的智能手表10主要区别在于需要在显示面板的显示区域12的中心开设用于供手表的指针的转轴穿过的通孔14，从而可以将指针部件安装于该转轴上，实现机械指针手表的各类显示功能。容易理解，在显示面板的中心开设通孔14需要在通孔14周围设置封装结构16，以防止外界水氧由于通孔14侵入显示面板内部而影响显示性能，且在通孔14区域不蒸镀像素结构，便于后续的开孔的实施。例如，针对此类型显示面板，参阅图2，现有技术中提供了一种掩膜板，每一掩膜板具有外遮挡区1和对应开孔区域的内遮挡区2，外遮挡区1和内遮挡区2之间界定出蒸镀区，并将蒸镀区划分为多个子蒸镀区，多个子蒸镀区之间具有连接外遮挡区1和内遮挡区2的连接遮挡区，为不影响显示效果，连接遮挡区的宽度极小。如此，可以实现通孔14区域不蒸镀，但发明人研究发现，由于遮挡区与蒸镀区的结构存在较大区别，如在蒸镀区设置有蒸镀孔，而在遮挡区不设置有蒸镀孔，从而使遮挡区与蒸镀区的重量(单位面积上的重量)差距大，应力会集中在遮挡区，当应力在遮挡区集中时，在受力不均的驱使下会导致塌陷、下垂、褶皱的发生。且前述的连接遮挡区宽度较小，内遮挡区重量较大容易出现连接遮挡区断裂、变形导致整个掩膜板变形报废的情况。

为解决该缺陷，现有技术中又提供一种掩膜板，参阅图3，采用两个镜像对称的掩膜板，其中一个掩膜板阵列排布有若干个半环状的开口图案3，其中另一掩膜板阵列排布有若干个半环状的开口图案4，两个半环状的开口图案3和开口图案4镜像对称可以形成一个圆环状的开口。在实际生产过程中，通过两个子掩膜板先后蒸镀，可以实现环状的显示区域蒸镀，而对应开孔区域不蒸镀。这样，可以不用设置前述的连接遮挡区。但由于半环状开口图案的存在，遮挡区的形状为异形，相比非异形区域而言，异形区域容易受力不均，会很容易在异形区域部分上翘、下垂或塌陷的现象，进而引起蒸镀位置偏移及蒸镀混色。且采用两个子掩膜板分别进行蒸镀，增加工艺的复杂度，两次蒸镀造成的显示不良的风险也大大提高。

本申请的发明人进一步研究发现，可以通过设计一种掩膜板，改变掩膜板的子掩膜板的开口的形状及排布方式，从而可以仅采用一次蒸镀，并降低张网时遮挡区和子掩膜板因结构不同造成的塌陷和褶皱对蒸镀精度的影响，进而提高显示效果。

下面将以PMOLED(Passive Matrix OLED，被动式驱动有机发光二极管)为例，对本申请中的掩膜板及掩膜组件进行说明。其中，PMOLED显示阵列的同一行显示单元的同一性质电极是共用的，并且同一列显示单元同一性质电极也是共用的。具体而言，PMOLED显示面板是以阴极、阳极构成矩阵，以扫描方式点亮阵列中的像素，每个像素都是操作在短脉冲模式下，为瞬间高亮度发光。具体到实施例中，如图4所示，显示面板包括衬底5、第一电极6(阳极)、像素限定层7、发光层8、隔离柱9和第二电极11(阴极)。第一电极6形成于衬底上，像素限定层7形成在第一电极6上，且界定出用于沉积子像素的发光层8的像素开口，第二电极11面对第一电极6而设，且第一电极6和第二电极11构成矩阵以界定出阵列排布的多个子像素区域，隔离柱9形成于像素限定层7上，用于将相邻的两行或者两列子像素的第二电极11进行隔离，并对相邻两行或者两列子像素的第二电极11的形状起到限定作用。

图5示出了本申请一实施例中的掩膜板的结构示意图；图6为图5所示的掩膜板的子掩膜板的平面示意图；图7为图6所示的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；为便于说明，仅仅示与本申请相关的结构。

需要说明的是，一个显示面板通常是从显示母板(也叫显示大板)中切割得到，本申请的掩膜板通常被提供为形成显示母板(亦称显示大板)。其中，掩膜板包括至少一个子掩膜板20，每一子掩膜板20包括外围沉积图案区22和遮挡部24，每一子掩膜板20可以对应制造一个显示面板，例如如图1、图5及图6所示，当显示面板应用于智能手表10中，子掩膜板20的遮挡部24对应智能手表10的开孔区和封装区(用于装设指针和点胶)，子掩膜板20的外围沉积图案区22对应智能手表10的显示区域12。

参阅附图5及图6，本申请一实施例中的掩膜板，外围沉积图案区22环绕遮挡部24设置，即外围沉积图案区22沿遮挡部24的周向环绕遮挡部24，将遮挡部24环绕在中间。外围沉积图案区22可包括在掩膜板的厚度方向上贯穿掩膜板的多个沉积开口222，沉积材料(例如发光材料)穿过沉积开口222而传送到诸如基板上，以沉积形成子像素。遮挡部24对应于显示面板的开孔区和开孔区周围的封装区(点胶区)，遮挡部24为实心区，用于在蒸镀过程中防止显示面板的开孔区和封装区沉积例如发光材料，便于后续开孔和封装(点胶)的实施。遮挡部24的形状可以为圆形、多边形、椭圆形、矩形等，外围沉积图案区22环绕遮挡部24而设，外围沉积图案区22的外轮廓形状亦可以为圆形、多边形、椭圆形或矩形等，在此不作限定。

本申请的实施例中，多个沉积开口222沿相同的方向间隔并行排布。例如，如图6及图7所示的实施例中，沉积开口222呈长条状，多个沉积开口222沿相同方向彼此平行且并行间隔设置，部分沉积开口222中的每一沉积开口222被遮挡部24阻断而分隔为第一部分和第二部分。也就是说，沉积开口222沿一个方向横贯子掩膜板20，在有遮挡部24的位置被遮挡部24所阻断。可以理解，多个沉积开口222沿相同方向并行排布是指可以如前述的实施例中沿一个方向彼此平行地且并行间隔设置，亦可彼此不平行但大体上是沿一个方向延伸。

值得注意的是，制备显示面板时可以首先通过构图工艺制备衬底5上形成第一电极6。然后，在第一电极6上沉积像素限定层7，对像素限定层7进行曝光、显影、刻蚀去除像素开口处的像素限定层材料，以暴露出在像素开口对应的部分第一电极6，即通过构图工艺在衬底上形成像素限定层7的图形，并在像素限定层7上形成隔离柱9。接着，利用该掩膜板在像素开口处形成发光层8，最后，通过溅射工艺形成第二电极11。如此，一方面，当使用该掩膜板制备显示面板时，多个沉积开口222沿相同方向(例如，沿平行于阴极的延伸方向的方向)并行延伸排布，使得例如显示面板的同一性质电极(例如，阳极或阴极)之间是有效隔断的，有利于显示面板的正常显示。另一方面，在掩膜板的遮挡下，可以有效控制沉积过程中沉积粒子的运动方向，保证隔离柱9的表面及侧壁上不会形成连续的发光材料，从而保证相邻的子像素之间不会串色，且一个沉积开口可以沉积多个子像素，将掩膜板张网时遮挡部和外围沉积图案区22因结构不同造成的塌陷和褶皱对蒸镀精度的影响程度降低至趋于最小化。又一方面，掩膜板的遮挡部24为规则形状，受力均匀，减少了上翘、下垂或塌陷的现象的发生，且外围沉积图案区22环绕遮挡部24设置，多个沉积开口222沿相同方向并行延伸，当掩膜板张网时可以施加于遮挡部24相同方向(例如张网方向)上的拉力，从而进一步减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生，提高了蒸镀的精度。

作为一种较佳的实施例，被遮挡部24阻断的沉积开口222的第一部分和第二部分以遮挡部24的中心为基准对称设置。具体到一实施方式中，遮挡部24的形状为圆形，外围沉积图案区22呈圆环状，多个沉积开口222沿第一方向(如图6所示的左右方向)平行且沿第二方向(如图6所示的上下方向)间隔设置，部分沉积开口222被遮挡部24阻断为左右对称的第一部分和第二部分。这样，进一步地提高了掩膜板的对称程度，从而减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生，提高了蒸镀的精度。

一些实施例中，未被遮挡部24阻断的沉积开口222沿其延伸方向包括至少两个彼此间隔的子沉积开口222。应当理解的是，由于遮挡部24为实心结构，外围沉积图案区22对应遮挡部24在第一方向和第二方向交叉的区域(本文称作第一区域)，也即被遮挡部24阻断的沉积开口222所覆盖的区域的重量，与遮挡部24在第二方向上方和下方的区域(本文称作第二区域)的外围沉积图案区22的重量差距较大。而将未被遮挡部24阻断的沉积开口222沿其延伸方向包括至少两个彼此间隔的子沉积开口222，缩小了第一区域和第二区域重量之间的差距，且在掩膜板张网时在第二方向上会有一个拉力，从而进一步地减少上翘、下垂或塌陷的现象的发生，提高了蒸镀的精度。

图8示出了本申请另一实施例中的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图。

参阅图8，本申请的另一些实施例中，多个沉积开口222呈网格状排布，具体地，多个沉积开口222沿一个方向并行排布，从而构成网格状，换言之，多个沉积开口222沿一个方向不横贯子掩膜板，而是沿一个方向并行排布构成网格状的结构。具体到一实施例中，多个沉积开口222可以以遮挡部24的中心为基准呈阵列排布，每一沉积开口222对应于至少一个子像素。可以理解，每一沉积开口222对应于至少一个子像素，并不是指沉积开口222的长度或宽度等于至少一个子像素的长度或宽度，而是指一个沉积开口222用于对应沉积至少一个子像素的发光材料。还可以理解，每一沉积开口222对应的子像素的数量需要根据像素排布及工艺的可实施性而定，在此不作限定。

应当理解的是，沉积开口222的形状可以为如图7所示的实施例中的矩形，亦可为方形、圆形、椭圆形等形状，在此不作限定。

应当理解的是，沉积开口222呈网格状排布的实施例中，当使用上述实施例中的掩膜板制备显示面板时，同样可以使得例如显示面板的同一性质的电极之间是有效隔断的，有利于显示面板的正常显示。且在掩膜板的遮挡下，可以保证隔离柱9的表面及侧壁上不会形成连续的发光材料，从而保证相邻的像素之间不会串色。同时，掩膜板的遮挡部24为非异形区，受力均匀，可以减轻上翘、下垂或塌陷的问题。

图9示出了本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图；图10示出了本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的外围沉积图案区的局部平面示意图。

本申请的一些实施例中，在沉积开口222的延伸方向上，相邻的沉积开口222的两条相邻边之间具有第一间距。在沉积开口222的延伸方向上，沉积开口222的宽度连续变化或间断变化，且第一间距连续变化或间断变化。例如，如图9所示的实施例中，沉积开口222的至少一条边为波浪形，掩膜板上沉积开口222在延伸方向(即图8中的Y方向)上宽度(即图8中的沉积开口222在X方向的长度)连续变化。又例如，如图10所示的实施例中，沉积开口222的至少一条边为波浪形，掩膜板上沉积开口222在延伸方向(即图10中的Y方向)上宽度(即图10中的沉积开口222在X方向的长度)间断变化。需要说明的是，宽度间断变化是指：在沉积开口222上存在部分区域(如图10所示的区域A)内任意相邻两个位置的宽度相同，而在另一部分区域(如图10所示的区域B)内任意相邻两个位置的宽度不相同。具体到一实施例中，多个沉积开口222在掩膜板上规则排布，因此，相邻两个沉积开口222之间的间距在平行于沉积开口222的延伸方向上也呈现为连续变化或者间断变化。沉积开口222在延伸方向上，无论其宽度是连续变化还是间断变化都可以为周期性变化，一个变化周期的长度可以对应于一个子像素的宽度。

这样，一方面，在沉积开口222不同宽度位置以及相邻沉积开口222的不同间距之间，产生的应力位置不同，不同位置处的应力相互抵消，从而可以有效减弱应力集中，改善掩膜板的应力分布，减小了变形和受力不均，提高了掩膜板的平坦度。另一方面，在掩膜板张网时，在各个方向上对遮挡部24具有一个拉力，从而改善其因重量大而塌陷或下垂的问题，且有利于改善掩膜板的弯曲性能，进一步减小了变形和受力不均，提高了掩膜板的平坦度，进而提高了掩膜板的掩膜精度。再一方面，由于沉积开口222的宽度连续变化或间断变化，在保证发光材料可以准确地沉积在像素限定层7的像素开口中的同时，一定程度上降低相邻的子像素的混色的几率。

可以理解，在其他实施例中，沉积开口222的至少一条边还可以为例如方波状、锯齿状等，在此不作限定。

一些实施例中，沉积开口222的两条边均为波浪形，两条边的波峰相对设置，且两条边的波谷相对设置。如图9所示的实施例中，延伸方向上的两条边的波峰T相对设置且波谷B相对设置。具体到一实施例中，两条边均由相同曲率半径的圆弧形边相连而成，具体到其他实施例中，两条边也可以均由相同曲率半径的椭圆形边相连而成，例如将沉积开口222的两边设置成由圆弧形或者椭圆形相连形成的波浪形，这样，进一步地可以有效减弱应力集中，改善掩膜板的应力分布，减小了变形和受力不均，提高了掩膜板的平坦度。此外，沉积开口222的宽度一个变化周期的长度可以对应于一个子像素的宽度，而相邻的子像素之间的间距可以对应于沉积开口222的宽度一个变化周期的长度或多个变化周期的长度，沉积开口222的波谷之间的间距较小，可以进一步地保证隔离柱9的表面及侧壁上不会形成连续的发光材料，从而改善相邻的子像素之间的混色问题。图11示出了本申请一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图；图12示出了本申请的另一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图；图13示出本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图。

本申请的一些实施例中，遮挡部24开设有至少一个凹槽242，该凹槽242的深度小于所述掩膜板的厚度。容易理解，由于在遮挡部24开设有凹槽242，且单个凹槽242的深度小于掩膜板的厚度(即凹槽242沿厚度方向并非贯穿掩膜板)，既保证了遮挡部24不会存在像素蒸镀到基板上，又减少了遮挡部24的厚度，从而使遮挡部24的重量减小，使遮挡部24的重量与外围沉积图案区22的重量差距小，降低了遮挡部24的应力集中，从而使掩膜板主体在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板在张网过程中的塌陷、褶皱现象。

一些实施例中，遮挡部24具有蒸镀面与玻璃面，蒸镀面与玻璃面分别位于遮挡部24相对的两侧，蒸镀面面向蒸镀源设置，玻璃面背向蒸镀源设置。具体地，凹槽242可以采用以下三种方式中的一种开设于遮挡部24：

一、凹槽242只开设于蒸镀面；

二、凹槽242只开设于玻璃面；

三、凹槽242同时开设于蒸镀面与玻璃面。

例如，参阅图11，在其中一个实施例中，凹槽242开设于玻璃面，即只在玻璃面开设有凹槽242。具体到实施方式中，开设在蒸镀面的凹槽242数量为一个，一个凹槽242采用整面半刻(即凹槽242的深度小于遮挡部24)的方式开设于玻璃面。在本实施方式中，设置凹槽242覆盖玻璃面的全部区域，也可以设置凹槽242覆盖玻璃面的大部分区域，且凹槽242的横截面形状可以采用多边形，如三角形、长方形或者五边形等，还可以采用圆形或者椭圆形。上述当凹槽242覆盖玻璃面的全部区域时，凹槽242的底壁与遮挡部24的玻璃面的大小完全相同，此时凹槽242的底壁可以充当遮挡部24的玻璃面。参阅图12，进一步地，开设在玻璃面的凹槽242的数量可以为至少两个，在子掩膜板20所在平面上，每相邻两个凹槽242之间具有间距，至少两个凹槽242采用条状半刻或点状半刻的方式开设于玻璃面。当凹槽242采用条状半刻时，凹槽242的横截面形状为长条状；当凹槽242采用点状半刻时，凹槽242的横截面形状为圆形或椭圆形。在其他实施例中，当凹槽242采用条状半刻时，凹槽242的横截面的条形的长边沿子掩膜板20长边的方向延伸，以进一步减小掩膜板的张网褶皱。

应当理解的是，凹槽242亦可仅设置于蒸镀面，考虑到后续清洗的难度，作为一种优选的实施方式，如前述实施例，凹槽242优先设置于玻璃面。

例如，参阅图13，在其中另一个实施例中，凹槽242同时开设于蒸镀面与玻璃面，即在蒸镀面与玻璃面均开设有凹槽242，进一步降低了掩膜板张网后，对掩膜板自身的硬度的影响，进而进一步减小塌陷、褶皱。如当凹槽242只开设在蒸镀面时，蒸镀面的硬度会小于玻璃面的硬度，此时在一定程度上存在折断的风险，当凹槽242只开设在玻璃面时也是如此。具体地，凹槽242包括第一凹槽242b和第二凹槽242a，第一凹槽24b开设于玻璃面，第二凹槽242a开设于蒸镀面，第一凹槽242b与第二凹槽242a沿遮挡部24的厚度方向相互隔离的设置，即第一凹槽242b的底壁与第二凹槽242a的底壁之间具有间距，以保证任何一个第一凹槽242b与任何一个第二凹槽242a在遮挡部24的厚度方向上不存在相互连通的情况，从而避免像素蒸镀到基板上的情况发生。进一步地，第一凹槽242b与第二凹槽242a沿遮挡部24厚度方向的深度可以相同也可以不同，且第一凹槽242b与第二凹槽242a的横截面形状可以相同也可以不同。具体到一个实施方式中，第一凹槽242b的深度小于第二凹槽242a的深度，或者第一凹槽242b的深度与第二凹槽242a的深度相等，且第一凹槽242b与第二凹槽242a的深度均为掩膜板的厚度的一半，或者第一凹槽242b与第二凹槽242a的深度均大于掩膜板的厚度的一半。

可以理解，在其他一些实施方式中，第一凹槽242b和第二凹槽242a的数量可以为至少两个，在此不作限定。为便于布置，第一凹槽242b和第二凹槽242a朝向掩膜板所在平面上的投影可以至少部分重叠，但第一凹槽242b和第二凹槽242a沿遮挡部24厚度方向的深之和小于遮挡部24(掩膜板)的厚度。

图14为本申请又一实施例中的掩膜板的子掩膜板的遮挡部的截面示意图。

本申请的一些实施例中，遮挡部24包括隔离区244和虚设区246，隔离区244用于将虚设区246与外围沉积图案区22彼此隔离，所述虚设区246设有贯穿掩膜板的虚设沉积开口；和/或虚设区246设有至少一个凹槽242，凹槽242的深度小于所述掩膜板的厚度。具体地，虚设区246可以对应于显示面板的开孔区，隔离区244对应于显示面板的封装区(点胶区)。这样，将遮挡部24划分为两部分，其中虚设区246开设有虚设沉积开口，当采用该掩膜板蒸镀时，蒸镀材料可以从沉积开口222与虚设沉积开口蒸镀到基板上。容易理解，虚设沉积开口的设置，可以减轻遮挡部24的重量，使遮挡部24与外围沉积图案区22的重量差异小，降低了遮挡部24的应力集中，从而使掩膜板在张网过程中受力均匀，进一步降低了掩膜板在张网过程中的塌陷、褶皱现象。同时在虚设区246与外围沉积图案区22之间设置有隔离区244，可以将通过虚设沉积开口的发光层与外围沉积图案区22的沉积开口222沉积的发光层隔离，也就是说，虚设沉积开口沉积的发光层不能起到发光作用，在后开孔操作中被切除，不影响后续显示面板的开孔及封装。

值得注意的是，隔离区244可以占据遮挡部24一部分比例，此时隔离区244占据遮挡部24的比例不受限定，只要保证隔离区244将虚设区246中沉积的材料与外围沉积图案区22沉积的材料隔离开来，且不影响后续钻孔及点胶即可。本实施例中开设凹槽242和前述实施例中的开设凹槽242方式相似，故不在此重复描述。

基于上述的掩膜板，本申请一实施例还提供一种掩膜组件，该掩膜组件包括掩膜框架、支撑条及至少一个上述实施例中所述的掩膜板，支撑条固定连接于掩膜框架，至少一个掩膜板层叠设置于支撑条上，且与掩膜板框架固定连接。

掩模组件在工作过程时，掩膜板的蒸镀面面向蒸镀源，掩膜板的玻璃面面向基板，支撑条位于掩膜板的蒸镀面，以改善掩膜板在蒸镀过程中下垂的问题，进一步降低了掩膜板在张网过程中的褶皱现象。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括遮挡部和环绕所述遮挡部的外围沉积图案区；

所述外围沉积图案区具有多个在掩膜板的厚度方向上贯穿所述掩膜板的沉积开口，一所述沉积开口用于沉积多个子像素；

所述沉积开口呈长条状，多个所述沉积开口沿相同方向彼此平行且并行间隔设置；

部分所述沉积开口中每一所述沉积开口被所述遮挡部阻断而分隔为第一部分和第二部分；

其中，多个所述沉积开口沿平行于阴极的延伸方向的方向并行延伸排布，使得显示面板的同一性质电极之间有效隔断。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分以所述遮挡部的中心为基准对称设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，未被所述遮挡部阻断的所述沉积开口沿其延伸方向包括至少两个彼此间隔的子沉积开口。

4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，多个所述沉积开口呈网格状排布；

每一所述沉积开口对应于至少一个子像素。

5.根据权利要求1~4任一项所述的掩膜板，其特征在于，在所述沉积开口的延伸方向上，所述沉积开口的宽度连续变化或间断变化；

且相邻的两个所述沉积开口的两条相邻的边的间距连续变化或间断变化。

6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，在所述沉积开口的延伸方向上，所述开口的至少一条边为波浪形。

7.根据权利要求1~4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡部开设有至少一个凹槽；

所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。

8.根据权利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡部具有蒸镀面及与所述蒸镀面相对设置的玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置；

所述凹槽包括设置于所述玻璃面的第一凹槽。

9.根据权利要求1~4任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡部包括隔离区和虚设区；

所述隔离区用于将所述虚设区与所述外围沉积图案区彼此隔离；

其中，所述虚设区设有贯穿所述掩膜板的虚设沉积开口；和/或所述虚设区设有至少一个凹槽，所述凹槽的深度小于所述掩膜板的厚度。

10.一种掩膜组件，其特征在于，包括掩膜框架及至少一个如权利要求1~9任一项所述的掩膜板；

所述掩膜板接合固定于所述掩膜框架上。

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