CN110064537A - 具有过压阀的淋浴头 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种优选地用于卫生淋浴器的淋浴头，其包括淋浴头壳体（1）、通入淋浴头壳体的流体入口（2）、从淋浴头壳体离开的淋浴射流出口（3）、淋浴头壳体内从流体入口到淋浴射流出口的流体管道（4）、以及压力联接到流体管道的过压阀（5），该过压阀包括可移动的阀体（6），该阀体在流体管道内过压的情况下从正常位置移动到过压位置(U_S)。根据本发明，阀体（6）被构造成在过压位置（U_S）自保持并且通过用户操作可返回到正常位置（N_S），和/或阀体（6）以取决于位置的方式作用在流体管道(4）的通道横截面（D_Q）上，其中，阀体相对于正常位置在过压位置（U_S）中减小所述通道横截面。例如，用于卫生头顶淋浴器。

Description

具有过压阀的淋浴头

技术领域

本发明涉及一种淋浴头，其包括淋浴头壳体、通入淋浴头壳体中的流体入口、从淋浴头壳体离开的淋浴射流出口、淋浴头壳体内从流体入口到淋浴射流出口的流体管道、以及压力联接到流体管道的过压阀，该过压阀包括可移动的阀体，该阀体在流体管道内过压的情况下从正常位置移动到过压位置。

背景技术

这种淋浴头的已知事实是，在一定的操作时间之后，淋浴头壳体中的流体压力可能以不希望的方式上升超过正常的流体操作压力范围，即由于灰尘颗粒和/或水垢沉积物而发生过压状态，特别是在淋浴射流出口处，这会导致射流出口的横截面收缩或甚至堵塞。该问题在更大程度上在如下淋浴头上发生，例如，该淋浴头在淋浴射流出口处具有相对小直径的射流出口开口和/或在卫生淋浴器中与相对硬的水一起使用。在当前情况下，过压指的是高于正常压力范围的压力，在该正常压力范围中，考虑到正常的压力波动，流体管道中的流体压力例如在上游流体供应中在正确使用淋浴头和其无故障操作期间处于正常操作。

因此，这些淋浴头具有过压阀，该过压阀在流体头壳体中的流体管道中的过压的情况下作出响应，以便避免在这种过压状态下淋浴头的长时间操作。为此目的，过压阀压力联接到流体管道，即在压力方面联接，结果是流体管道中的过压作用在过压阀上并使其可移动阀体移动到过压位置。只要流体管道中的流体压力处于正常压力范围并且尚未发生过压，阀体就占据其正常位置，即其用于淋浴头的正常淋浴操作的位置。

在专利公开物AT 252 826中公开的这种淋浴头中，通过弹性封闭件的扩张暴露出另外的出口横截面来提供过压安全特征。更具体地，为此目的，设置有环形沟槽并且优选地具有大致V形横截面的环设置在出口侧上的射流盘与淋浴头壳体的邻接部分之间留下的环形间隙中，该射流盘通常设置有多个射流出口开口，其中附加的出口横截面是开口的形式，其设置在环形沟槽的底部上并且由弹性密封环（诸如O形环）封闭，该弹性密封环在喷淋头壳体中的流体管道中存在过压并且从而使否则关闭的开口暴露时弹性地扩张。当流体管道中不再存在过压时，密封环由于其弹性而再次自动返回到其关闭过压开口的状态。

发明内容

本发明基于提供一种开头所述类型的淋浴头的技术问题，该淋浴头提供了对上述现有技术的改进，特别是关于过压行为的功能。

本发明通过提供具有权利要求1的特征的淋浴头来解决该问题。

在该淋浴头中，根据本发明的一个方面，阀体被构造成在过压位置中自保持并且通过用户操作可返回到正常位置。在当前情况下，术语“自保持”是指阀体的如下特性，即当阀体由于流体管道中的过压而移动到其超压位置时，阀体在流体管道中不再存在过压时也保持在该位置中。阀体从其过压位置到其正常位置的返回移动通过用户致动实现，并且因此不是自动的。这使得用户首先有机会澄清过压的原因，并且如果合适的话，清洁淋浴头、特别是淋浴射流出口，如果过压是由经常会发生的那种灰尘颗粒和/或水垢沉积物引起的话，特别是清洁淋浴射流出口处。然后，用户可以将阀体从其过压位置移回至其正常位置，从而确保淋浴头再次处于其正常操作状态。

根据本发明的额外或替代方面，阀体以取决于位置的方式作用在流体管道的通道横截面上，其中阀体相对于正常位置在过压位置中减小所述通道横截面。根据本发明的这个方面，与正常操作相比，过压阀不能确保暴露额外的过压开口或者在过压的情况下淋浴头的整个流体出口横截面相应增加，但确保流体管道从流体入口到淋浴射流出口的通道横截面减小。这减少了通过淋浴头的流体的体积流量。例如，体积流量减少可能非常大以致流体仅从淋浴头滴下单个液滴。这促使用户干预或维修淋浴头。

因此，在其所述的每个方面中，本发明可靠且有利地避免了淋浴头在淋浴头壳体中以过大的压力操作长时间的情况。

在本发明的改进方案中，淋浴射流出口包括多个射流出口开口，并且流体管道包括在射流出口开口上游的歧管腔室。阀体作用在流体入口和歧管腔室之间的流体管道的通道横截面上。因此，当在流体管道中发生过压时，阀体可以在此时减小流体管道的通道横截面，从而可以减少流体通入歧管腔室的体积流量。因此，歧管腔室中的过压可以经由射流出口开口消散，并且可以通过减小的体积流量给予用户指示，即存在过压的情况。

在本发明的改进方案中，阀体是柱形的并且可在淋浴头壳体内沿轴向方向移动，并且包括径向突出的环形轴环，该环形轴环包括至少一个阀通道开口。流体管道包括阀腔室、和通向阀腔室的至少一个阀入口开口以及离开阀腔室的至少一个阀出口开口，在阀腔室中阀体及其环形凸缘被引导用于轴向移动。相对于正常位置，阀体通过其环形轴环在过压位置中减小了至少一个阀出口开口的通道横截面。在该实施例中，环形轴环因此用作一种可移动的阀关闭体，该阀关闭体在阀体处于其正常位置时暴露至少一个阀出口开口，并且在阀体处于过压位置时至少部分地（即完全地或者部分地）阻塞或关闭阀出口开口。

在本发明的一个实施例中，至少一个阀入口开口轴向延伸，至少一个阀通道开口也如此轴向延伸。在阀体的正常位置，阀通道开口与阀入口开口对齐。这表示该区域中的流体管道的实施方式，其在设计和流动工程方面是有利的。

在本发明的一个实施例中，淋浴头壳体中的淋浴头包括中空柱形阀座体，阀体保持在该中空柱形阀座体上用于引导的移动并且阀腔室位于该中空柱形阀座体中。该至少一个阀出口开口以径向方向分量（可选地另外以轴向方向分量）向外延伸通过阀座体的柱形表面区段。在流量工程和操作方面，该设计措施对于过压阀也是有利的。

在本发明的改进方案中，喷淋头包括形成淋浴射流出口的射流盘，并且阀体位于淋浴头壳体的与射流盘相同的一侧上。由于淋浴头的射流盘侧通常是淋浴头在操作期间面向用户的一侧，或者用户无论如何都可以容易地看到并且容易接近的一侧，这种措施具有如下优点：用户可以容易地识别阀体及其相应的瞬时位置，并且在需要时可以容易地处理，例如将阀体从其过压位置移回到其正常位置。

在本发明的一个实施例中，阀体在过压位置中突出超过射流盘的外侧，而在正常位置中阀体未突出超过射流盘的外侧，即与其齐平，或者替代地，相对于其向后设置。因此，用户可以非常容易地从阀体相对于射流盘的位置察觉是否存在过压的情况。

在本发明的改进方案中，过压阀包括磁体布置结构，该磁体布置结构通过磁力将阀体保持在正常位置，其中磁力可以被流体管道中的过压超越控制，而不是被淋浴头的正常无故障操作期间的流体管道中的任何正常流体压力波动的压力超越控制。在这种情况下，随着阀体距正常位置的距离增加，磁力的强度减小到过压位置中的不相关值。在当前情况下，术语“不相关值”意味着过压位置中的磁力值等于零或者为任何速率，该任何速率小到使得磁力不再能够在克服正常摩擦力和任何残余流体压力的同时使阀体自动地从其过压位置移动回到其正常位置，即使在不再存在过压的情况下（即流体管道中的过压已经被消散）。换句话说，磁力与阀体从其过压位置到正常位置的返回运动无关。因此，用户可以在他想要将阀体移回其正常位置时自行决定，为此他可以相应地致动阀体。在正常位置中，然后再次通过磁力的作用保持阀体。

附图说明

在附图中示出并在下面描述本发明的有利实施例，其中另外提及和解释了根据本发明的进一步有利实施例。在附图中：

图1示出了通过淋浴头的纵向截面，

图2示出了通过图1中的淋浴头的中心区域的详细纵向截面，

图3示出了通过具有处于正常位置的阀体的过压阀的纵向截面，可以在图1中的淋浴头中使用所述阀，

图4示出了图3中的过压阀的透视图，

图5示出了图3中的区域V的细节视图，

图6示出了图3中的视图，其中阀体处于过压位置，并且

图7示出了根据图6的处于过压位置的过压阀的侧视图。

具体实施方式

图1和图2中所示的淋浴头包括淋浴头壳体1、通入淋浴头壳体1的流体入口2、离开淋浴头壳体1的淋浴射流出口3、淋浴头壳体内的从流体入口2到淋浴射流出口3的流体管道4、以及过压阀5。过压阀5压力联接到流体管道4，即，在过压阀5操作地联接到的相应区域中在流体管道4中主要存在的流体压力作用在过压阀5上。安装在图1和图2中所示的淋浴头中的过压阀5在图3至图7中更详细地示出。显而易见的是，该过压阀也可用于其他淋浴头中。

过压阀5包括可移动的阀体6，在流体管道4内的过压的情况下，阀体6从图3至图5所示的正常位置N_S移动到图6和图7所示并且在图1和图2的安装状态中所示的过压位置U_S。

在本发明的对应实施例中，阀体6被构造成在过压位置U_S中自保持并且通过用户操作可返回到正常位置N_S。这意味着，当阀体5由于流体管道4中的过压而采用其过压位置时，所述阀体保持在过压位置U_S中，直到用户将其移回正常位置N_S，即使过压此时不再存在于流体管道4中。

在所示的说明性实施例中，过压阀5具有用于此目的的磁体布置结构7，所述布置结构通过可被流体管道4中的过压超越控制的磁力F_M将阀体6保持在正常位置N_S中，其中随着阀体6距正常位置N_S的距离增加，磁力F_M的强度减小到过压位置U_S中的不相关值。在替代实施例中，过压阀包括一些其他常规的保持力源来替代这种磁体布置结构，所述源使阀体在正常位置N_S受到保持力，该保持力可被流体管道4中的过压超越控制并且在过压位置U_S不再作用在阀体6上，或者至少不再足够强，以便当过压不再存在时能够将阀体6移回自身的正常位置N_S。

在所示的说明性实施例中，磁体布置结构7由两个相互作用的磁体7a、7b形成，其中第一磁体7b布置在阀体6中或阀体6上，并且第二磁体7a布置在保持静止的过压阀5的部分中或部分上。例如，两个磁体7a、7b可以是永磁体，并且可以提供磁力F_M作为两个磁体7a、7b之间的磁吸引力，如常规那样的，随着两个磁体7a、7b之间距离的增加，磁吸引力强度迅速减小。适当地选择磁体7a、7b以确保在阀体6的正常位置N_S中（其中它们以最短的距离间隔开），它们以将阀体6保持在其正常位置N_S所需的强度提供磁力F_M，而在阀体6的过压位置U_S中（其中两个磁体7a、7b以最远的距离间隔开），磁力F_M实际上已下降至零，或者以任何速率下降到足以确保其不再能够抵抗可能存在的任何摩擦力和任何流体压力将阀体6移回正常位置N_S的程度。

在本发明的对应实施例中，阀体6以取决于位置的方式作用在流体管道4的通道横截面D_Q上，使得阀体相对于正常位置N_S在过压位置U_S中减小通道横截面D_Q。

在所示的说明性实施例中，阀体6是柱形的并且可在淋浴头壳体1内沿轴向方向A_R移动，其中，如常规的那样，轴向方向A_R应当表示平行于柱形阀体6的纵向中心轴线的方向和与其相反的方向。阀体6包括径向突出的环形轴环8，该环形轴环8包括至少一个阀通道开口9。流体管道4包括阀腔室10，其中阀体6及其环形轴环8被引导用于轴向移动。此外，流体管道4具有通向阀腔室10的至少一个阀入口开口11、以及离开阀腔室10的至少一个阀出口开口12。当阀体6处于相对于当阀体6处于正常位置N_S的操作状态的过压位置U_S时，阀体6通过其环形轴环8减小至少一个阀出口开口12的通道横截面D_Q。换句话说，在所示的示例中，阀体6在至少一个阀出口开口12的区域中减小流体管道4的通道横截面D_Q。在替代实施例中，阀体在流体管道4的不同点处作用在流体管道4的通道横截面D_Q上，使得当发生过压时使通道横截面D_Q变小。当阀体6处于过压位置U_S时，尺寸的减小可以在于通道横截面D_Q被完全关闭，即减小到零，或者替代地，减小到在零值和最大值之间的一些其他期望的减小的横截面值，通道横截面D_Q在流体管道4的相关点处具有所述最大值。

例如，阀腔室10、至少一个阀入口开口11和至少一个阀出口开口12都可以形成在过压阀5上。在所示的示例中，阀腔室10呈环形柱体的形式，但是可选地，它可以具有一些其他形式，例如完全柱体的形式。在对应的实施例中，在每种情况下设置有多个阀入口开口11和阀通道开口9，所述开口例如在每种情况下在周向方向上等距地布置。

在对应的实施例中，至少一个阀入口开口11和至少一个阀通道开口9两者均完全轴向延伸，即平行于轴向方向A_R延伸，其中当阀体6处于正常位置N_S时至少一个阀通道开口9与至少一个阀入口开口11对齐地轴向延伸。在替代实施例中，至少一个阀入口开口和/或至少一个阀通道开口至少部分地倾斜或垂直于轴向方向A_R延伸。从相应的阀入口开口11到相应的阀通道开口9的齐平过渡使得流体能够在阀体6的正常位置N_S中通过至少一个阀通道开口9经由至少一个阀入口开口11无阻碍地通入阀腔室10。

在所示的示例中，阀体6的相应阀通道开口9以没有间隙或者至多有小间隙的方式定位成与处于正常位置N_S的阀腔室10的相关前端区域中的相应阀入口开口11相对。在过压状态U_S中，阀体6的环形轴环8位于阀腔室10的另一前端区域中并且因此与一个或多个阀入口开口11相距很远，并且因此一个或多个阀入口开口11即使在过压的情况下也不会被阀体6关闭。

在对应的实施例中，过压阀5包括中空柱形阀座体13，阀体6在该中空柱形阀座体13上被保持引导并且阀腔室10位于该中空柱形阀座体13中。在这种情况下，该至少一个阀出口开口12以径向方向分量向外延伸通过阀座体13的柱形表面区段13a。

在所示的示例中，阀座体13由多个组装部件制成，而在替代实施例中，其被制造成单一件。在所示的示例中，在一个前端区域中设置有外螺纹14，通过该外螺纹可以将其拧入淋浴头1的接头套管15的内螺纹中，如图所示的。在所示的示例中，阀座体13在轴向中央区域中还具有外螺纹16，淋浴头壳体1的淋浴器出口部分1a被拧到该外螺纹16上。在替代实施例中，阀座体13可以以一些其他常规方式连接到淋浴头壳体。

在所示的示例中，淋浴器出口部分1a制造有平坦的淋浴结构，从而使得图1和图2中的淋浴头特别适合作为已知用于卫生淋浴室或淋浴装置的那种平坦的头顶淋浴器。淋浴器出口部分1a通过球形接头16以铰接方式联接到淋浴头连接部分1b，淋浴头可以通过该淋浴头连接部分1b连接到流体供应部并且该淋浴头连接部分1b形成流体入口2。在替代实施例中，淋浴头不构造成这种平坦结构，而是具有一些其他的常规设计，例如钟形设计。如图所示的，筛网元件17可选地布置为在流体入口2与至少一个阀入口开口11之间的淋浴头连接部分1b的流体管道区段中的灰尘/颗粒筛网。

除了过压阀5之外，淋浴器出口部分1a具有本身已知的结构，其在流体出口侧终止于射流盘18，射流盘18形成淋浴射流出口3并且设置有一个或通常多个射流出口开口19，其以可预定的构造布置在射流盘18的出口表面上，例如圆形或矩形表面上。

在对应的实施例中，如在所示的示例中那样，流体管道4包括在射流出口开口19上游的歧管腔室20，射流出口开口19从该歧管腔室离开并且至少一个阀出口开口12通向该歧管腔室。在该淋浴头中，阀体6因此作用在流体管道4的流体入口2和歧管腔室20之间的通道横截面D_Q上，在这种情况下具体地在阀腔室10与歧管腔室20之间。

在对应的实施例中，阀体6位于淋浴头壳体1的与形成淋浴射流出口3的射流盘18相同的一侧上。在所示的示例性实施例中，阀体6特别地位于射流盘18的中心区域中。在替代实施例中，阀体6相对于射流盘18偏心地布置。

在对应的实施例中，处于过压位置N_S的阀体6突出超过射流盘18的外侧。淋浴头在图1和图2中以这种状态示出。在正常位置N_S中，阀体6不突出超过射流盘18的外侧，即，其在淋浴头壳体1内相对于射流盘18定位成向后设置，或者基本上与射流盘18的外侧齐平地结束。后一种情况在所示的示例中实现，即在正常位置N_S中，阀体6的外侧6a与阀座体13的外侧13b齐平，该外侧13b就其本身而言基本上与射流盘18的外侧齐平地结束。

如特别是从图5中可以看出的，在所示的示例性实施例中，中心销13c形成在阀座体13上，所述销径向地在内侧上界定环形阀腔室10并且能够用作用于引导阀体6的附加辅助件，为此目的，阀体6在轴向上位于其在脚部侧上的环形轴环8与以外侧6a结束的头部区段6b之间的相关的区段6c中具有对应的中空柱形设计。压力管道21形成在阀体6的该中空柱形区段6c与阀座体13的中心销13c之间，所述管道与阀腔室10流体连通并且轴向向前引导至阀体头部区段6b的端面22。

在对应的实施例中，压力管道21包括一个或多个轴向延伸或具有轴向方向分量的径向间隙，例如，每个所述间隙在中心销13c的外侧上和/或中空柱形阀体区段6c的内侧上可以由轴向延伸或具有轴向方向分量的沟槽形成。作为替代方案，在周向方向上连续的环形间隙可以设置为压力管道21，或者可以在这两个相对的表面中的至少一个上设置轴向延伸或具有轴向方向分量的间隔腹板，因此在该腹板之间存在形成压力管道21的空隙。

在所示的说明性实施例中，中心销13c同时用于保持第二磁体7a，而第一磁体7b布置在阀体6的头部区段6b中。磁体7a、7b可以在那里装备到对应的孔中，作为示例，该孔可以通过中心销13c的一部分上的密封螺钉23和通过阀体6的一部分上的限定阀体6的外侧6a的盖帽24封闭。作为替代方案，这些磁体插入孔可以保持未封闭或者可以以某种其他方式封闭。

在所示的说明性实施例中，例如，如图所示的，相应的阀出口开口12在阀腔室10的位于图中底部的区域中离开阀腔室10，并且径向向外且轴向向前或向外延伸（即在图中向下延伸）通过阀座体13的相关的柱形表面区段13a，其可以是该区域中的锥形渐缩构型。在所示的示例中，多个阀出口开口12以在周向方向上等距分布的方式设置。阀出口开口12的数量可以对应于阀通道开口9的数量或与阀通道开口9的数量不同。

在正常状态N_S中，阀体6的环形轴环8位于阀腔室10的内端区域或后端区域中，即在图中的顶部处，其中相应的阀通道开口9与相关的阀入口开口11相对地对齐并且通向压力管道21的该区域。阀出口开口12完全暴露，而阀体6不限制流体管道4的通道横截面D_Q，这由淋浴头的整体构造确定。因此，经由流体入口2供应的流体在淋浴头的这种正常模式中经由流体管道4到达淋浴射流出口3，并且从那里作为对应的淋浴射流器出现。更确切地说，在该过程期间，流体经由阀入口开口11和阀通道开口9流入阀腔室10，并且从阀腔室10经由阀出口开口12流入歧管腔室20，从歧管腔室20流体在射流出口19之间被分布。

只要流体可以基本上没有阻碍地并且以无故障的方式流动，流体管道4中就不会出现过压。由于压力管道21不位于流体管道4的主流中，因此在淋浴头的正常操作期间其不会受到任何显着的流体压力，并且在所有情况下，因此在阀体6的头部区段6b的端面22上沿图中向外或向下的方向可能施加在阀体6上的任何流体压力保持低于两个磁体7a、7b的相对吸引磁力F_M。特别是在淋浴头的相对长时间的操作之后，相对小的颗粒和/或水垢沉积物会导致流体管道4中并且特别是在淋浴射流出口3的区域中的收缩或堵塞。这尤其适用于射流出口开口19仅具有相对小的通道横截面的淋浴头，例如，卫生淋浴器释放所谓的细射流或针射流作为淋浴射流的情况。因此，在流体管道4中可能发生过压，即升高的流体压力，其过高、高于正常淋浴模式中的流体压力（包括正常压力波动，例如在上游的流体供应中由波动的压力条件所引起的那些正常压力波动）。这种过压是不希望的并且可能导致淋浴头壳体1的损坏。这通过过压阀5来防止。

如果在流体管道4中（例如在歧管腔室20中）发生过压，则这导致压力联接到流体管道4的过压阀5的阀腔室10中的对应的过压。阀腔室10中的过压还迫使流体通入压力管道21中，因此流体以对应的过压按压抵靠阀体6的端面22。磁体布置结构7被构造成使得在阀体6的正常位置N_S中由磁体布置结构7提供的磁力F_M低于由阀体6上的过压下的流体施加在阀体6的端面22上的反作用的流体过压力。因此，阀体6对抗磁力F_M从其正常位置N_S释放，并且随着流体过压力轴向向前或向外移动，即在图中向下移动，直至其过压位置U_S，该过压位置U_S表示阀体6的与正常位置N_S相对的端部位置。在适当的系统设计的情况下，作用在阀体6的外侧6a上的、对抗磁力F_M并且对抗任何摩擦力并且对抗环境压力的阀体6的这种延伸移动能够额外地由阀腔室10中的流体的残余流的夹带效应支持。显而易见的是，当淋浴头连接到流体供应部、流体供应部的流体供应压力高于淋浴头所设计的流体供应压力时，过压阀5也响应。

在过压位置U_S中，阀体6的环形轴环8完全或者可选地部分地阻塞相应的阀出口开口12，例如可以在图2和图5中看到的。在该过压位置U_S中，阀体6由此在此时将流体管道4的通道横截面D_Q减小到零，或者至少减小到低于在正常操作期间流体管道4的有效通道横截面的值。这具有以下效果：淋浴器出口3处的流体的体积流量以相应的方式大大减小。对于用户而言，这可以从淋浴射流停止或者淋浴头仅在淋浴器出口3处滴落的事实中容易地察觉到。此外，用户可以察觉由于如下事实而发生的过压情况：阀体6已经移动到其延伸的超压位置U_S并因此向前或向外突出超过射流盘18的外侧。作为一种选择，阀体6可以以这样的方式生产：即其颜色至少在其突出超过射流盘18的区域中与周围的射流盘区域区分开。这可以使用户更容易察觉到过压阀5已经响应的事实。

由于一个或多个阀出口开口12的至少部分堵塞，在阀体6的过压位置U_S中，流体不再能够流入歧管腔室20中，或者不再能够大量流入歧管腔室20中，并且因此，最初在那里存在的过压可以通过淋浴器出口3处的剩余流体的逸出而消散。然后，用户可以采取所需的措施，例如整体上或至少在淋浴器出口3处清洁淋浴头的措施，即可以消除已经发生的超压情况的原因。在此过程期间，阀体6最初保持在其过压位置U_S，因为两个磁体7a、7b现在相隔很远，使得它们不再在阀体6上施加任何磁力或至少没有施加显著的磁力，即磁体布置结构7不能自动地将阀体6拉回到正常位置N_S中。一旦用户已经消除了流体过压的原因，用户可例如通过用一根手指按压抵靠阀体6的外侧6a将阀体6推回到其正常位置N_S。换句话说，在所示的示例中，阀体6的头部区段6b可以说是形成阀销，用户可以从延伸的过压位置U_S将该阀销推回到缩回的正常位置N_S。

然后，磁体布置结构7的磁力F_M再次将阀体6保持在其正常位置N_S。在正常位置N_S中，阀体6在所示的示例中通过完全暴露阀门出口开口12来再次完全暴露流体管道4的通道横截面D_Q。因此淋浴头再次准备好使用。

如上面示出和提到的说明性实施例所清楚描述的，本发明提供了一种具有有利的过压阀功能的淋浴头。通过集成的过压阀可以避免淋浴头损坏。在淋浴头的对应实施方式中，过压阀可以确保流体体积流量的减少，从而使得过压能够通过残余流体优选地经由淋浴射流出口从淋浴头的逸出而消散，而没有流体出现在过压阀本身处。在淋浴头的对应实施方式中，用户可以容易地察觉到过压情况，消除过压的原因，并且然后在用户自己的控制下将阀体从其过压位置移回其正常位置。

显而易见的是，根据本发明的淋浴头既可以用于任何类型的卫生淋浴器，并且如果且在某一程度上需要保护淋浴头免受流体管道中的任何流体超压的影响，还可以用于非卫生淋浴器。

Claims (8)

1.一种优选地用于卫生淋浴器的淋浴头，其包括

- 淋浴头壳体（1），

- 通入所述淋浴头壳体的流体入口（2），

- 离开所述淋浴头壳体的淋浴射流出口（3），

- 所述淋浴头壳体内的从所述流体入口到所述淋浴射流出口的流体管道（4），和

- 压力联接到所述流体管道的过压阀（5），所述过压阀（5）包括可移动的阀体（6），所述阀体（6）在所述流体管道内过压的情况下从正常位置（N_S）移动到过压位置（U_S），

其特征在于，

- 所述阀体（6）被构造成在所述过压位置（U_S）中自保持并且通过用户操作能返回到所述正常位置（N_S），和/或

- 所述阀体（6）以取决于位置的方式作用在所述流体管道(4）的通道横截面（D_Q）上，其中所述阀体相对于所述正常位置（N_S）在所述过压位置（U_S）中减小所述通道横截面。

2.根据权利要求1所述的淋浴头，其特征还在于，

- 所述淋浴射流出口包括多个射流出口开口（19），

- 所述流体管道包括在所述射流出口开口上游的歧管腔室（20），以及

- 所述阀体作用在所述流体入口与所述歧管腔室之间的所述流体管道的通道横截面上。

3.根据权利要求1或2所述的淋浴头，其特征还在于，

- 所述阀体是柱形的并且能在所述淋浴头壳体内沿轴向方向(A_R)移动，并且包括径向突出的环形轴环（8），所述环形轴环（8）包括至少一个阀通道开口(9)，以及

- 所述流体管道包括阀腔室（10）、通向所述阀腔室的至少一个阀入口开口（11）、以及离开所述阀腔室的至少一个阀出口开口（12），在所述阀腔室（10）中所述阀体及其环形轴环被引导用于轴向移动，

- 其中，相对于所述正常位置，所述阀体通过其环形轴环在所述过压位置中减小所述至少一个阀通道开口的通道横截面。

4.根据权利要求3所述的淋浴头，其特征还在于，所述至少一个阀入口开口轴向延伸，并且所述至少一个阀通道开口轴向延伸并且在所述阀体的所述正常位置中与所述至少一个阀入口开口对齐。

5.根据权利要求3或4所述的淋浴头，其特征在于，所述过压阀包括中空柱形阀座体（13），所述阀体在所述中空柱形阀座体（13）上被保持引导，并且所述阀腔室位于所述中空柱形阀座体（13）中，其中，所述至少一个阀出口开口以径向方向分量向外延伸通过所述阀座体的柱形表面区段（13a）。

6.根据权利要求1到5中的任一项所述的淋浴头，其特征还在于，所述喷淋头包括形成所述淋浴射流出口的射流盘（18），并且所述阀体位于所述淋浴头壳体的与所述射流盘相同的一侧上。

7.根据权利要求6所述的淋浴喷头，其特征还在于，所述阀体在所述过压位置中突出超过所述射流盘的外侧，并且在所述正常位置不突出超过所述射流盘的外侧。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的淋浴头，其特征还在于，所述过压阀具有磁体布置结构（7），所述磁体布置结构（7）通过被所述流体管道中的过压超越控制的磁力（F_M）将所述阀体保持在所述正常位置中，其中，随着所述阀体距所述正常位置的距离增加，所述磁力的强度减小到所述过压位置中的不相关值。