CN110010455A - 长寿命lcd靶材组件及其形成方法 - Google Patents

长寿命lcd靶材组件及其形成方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110010455A
CN110010455A CN201810007949.2A CN201810007949A CN110010455A CN 110010455 A CN110010455 A CN 110010455A CN 201810007949 A CN201810007949 A CN 201810007949A CN 110010455 A CN110010455 A CN 110010455A
Authority
CN
China
Prior art keywords
target material
millimeters
sputtering zone
material structure
sputtering
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810007949.2A
Other languages
English (en)
Inventor
姚力军
潘杰
王学泽
赵子毅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hefei Jiang Feng Electronic Materials Co Ltd
Original Assignee
Hefei Jiang Feng Electronic Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hefei Jiang Feng Electronic Materials Co Ltd filed Critical Hefei Jiang Feng Electronic Materials Co Ltd
Priority to CN201810007949.2A priority Critical patent/CN110010455A/zh
Publication of CN110010455A publication Critical patent/CN110010455A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • H01L21/203

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

一种长寿命LCD靶材组件及其形成方法,其中LCD靶材组件包括:背板;固定于所述背板表面的靶材结构,所述靶材结构包括第一面,所述靶材结构的第一面平坦并与背板表面贴合,所述靶材结构包括第一溅射区和分别位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度。所述靶材组件的使用寿命较长。

Description

长寿命LCD靶材组件及其形成方法
技术领域
本发明涉及半导体技术,特别涉及一种长寿命LCD靶材组件及其形成方法。
背景技术
在大规模集成电路制作中,一般通过轰击靶材,从而使靶材上粒子溅射沉积至基板上形成一层薄膜。溅射靶材组件一般由背板和固定在其上的靶材组成。靶材材质可为金属,例如:铜,铝,钽或铊。
然而,在溅射过程中,靶材使用一段时间后,发现某些区域比其他区域具有更高的溅射速率,消耗更快,靶材溅射速率最快区域围成的区域为第一区域。当靶材使用到第一区域被溅射完后,背板就暴露出来,这样就必须更换一块新的靶材组件,而其他区域的靶材同时也被浪费,使用寿命较低。例如:铜溅射靶材组件在溅射过程中,一般使用寿命为1000kwh左右,使用一段时间后就要更换靶材。
然而,现有技术制备的LCD靶材使用寿命仍较短。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种溅射靶材组件及其形成方法,以提高LCD靶材的使用寿命。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供一种长寿命LCD靶材组件,包括:背板;位于所述背板表面的靶材结构,所述靶材结构包括第一面,所述靶材结构第一面平坦并与背板表面贴合,所述靶材结构包括第一溅射区和分别位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度。
可选的,所述第二溅射区靶材结构厚度与第一溅射区靶材结构的厚度差为:2毫米~3毫米。
可选的,所述第二溅射区靶材结构的厚度为:18.2毫米~25.2毫米;所述第一溅射区靶材结构的厚度为:16.2毫米~23.2毫米。
可选的,所述靶材结构还包括与第一面相对的第二面;所述第二溅射区的第二面凸出于第一溅射区的第二面。
可选的,所述靶材结构在背板第一面的投影为第一长条形,所述第一长条形长边尺寸为:2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形短边尺寸为:209.8毫米~210.2毫米。
可选的,所述第一溅射区投影于背板表面的图形为第二条形,所述第二条形的尺寸为2489.5毫米~2490.5毫米;所述第二溅射区投影于背板表面的图形为第三条形,所述第三条形的尺寸为:79.5毫米~80.5毫米。
可选的,所述第二溅射区内包括最深溅射区;沿所述第一长条形长边方向上,所述最深溅射区的尺寸为:9.9毫米~10.1毫米,沿第一长条形短边方向上,所述最深溅射区的尺寸为:59毫米~61毫米。
可选的,所述最深溅射区到第一长条形长边的最小距离为:74毫米~76毫米,所述最深溅射区到第一长条形短边的最小距离为59毫米~61毫米。
可选的,所述第二溅射区包括分别位于第一溅射区两侧的第一部和第二部;所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;所述第一部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为为第一圆角;所述第二部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第二圆角。
可选的,所述第一圆角的范围为:64.5度~65.5度,所述第二圆角的范围为:44.5度~45.5度。
本发明还提供一种长寿命LCD靶材组件的形成方法,包括:提供初始靶材;对所述初始靶材进行加工处理,形成靶材结构,所述靶材结构包括第一溅射区和位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度,所述靶材结构包括平坦的第一面;提供背板;将靶材结构第一面与背板表面焊接,形成靶材组件。
可选的,所述第二溅射区靶材结构厚度与第一溅射区靶材结构的厚度差为:2毫米~3毫米。
可选的,所述第二溅射区靶材结构的厚度为:18.2毫米~25.2毫米;所述第一溅射区靶材结构的厚度为:16.2毫米~23.2毫米。
可选的,所述初始靶材在背板表面的投影为第一长条形,所述第一长条形长边尺寸为:2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形短边尺寸为:209.8毫米~210.2毫米。
可选的,所述第一溅射区投影于背板表面的图形为第二条形,所述第二条形的尺寸为2489.5毫米~2490.5毫米;所述第二溅射区投影于背板表面的图形为第三条形,所述第三条形的尺寸为:79.5毫米~80.5毫米。
可选的,所述第二溅射区包括分别位于第一溅射区两侧的第一部和第二部;所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;所述第一部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第一圆角;所述第二部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第二圆角。
可选的,所述第一圆角的范围为:64.5度~65.5度,所述第二圆角的范围为:44.5度~45.5度。
可选的,所述初始靶材包括第一区和位于第一区两侧的第二区;所述加工处理的步骤包括:在初始靶材所述第一区与第二区的交界面处进行切断处理,所述第一区初始靶材用于后续形成第一溅射区靶材结构,所述第二区初始靶材用于后续形成第二溅射区靶材结构,所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;对第一区初始靶材结构进行减薄处理,形成第一溅射区靶材结构;对第二区初始靶材与交界面相对一侧且平行于背板表面的顶角进行第一圆化处理,形成第一部靶材结构,所述第一部靶材结构具有第一圆角;对第二区初始靶材与交界面相对一侧且平行于背板表面的顶角进行第二圆化处理,形成第二部靶材结构,所述第二部靶材结构具有第二圆角。
与现有技术相比,本发明实施例的技术方案具有以下有益效果:
本发明技术方案提供的长寿命LCD靶材组件中,通过溅射所述靶材结构在LCD表面形成薄膜。尽管用于溅射处理的设备分布在靶材结构的两端,使得在溅射处理过程中,所述第二溅射区靶材结构的消耗量大于所述第一溅射区靶材结构的消耗量,但是,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度,且所述第二溅射区靶材结构厚度大于第一溅射区靶材结构厚度的量适中,因此,能够缩小第一溅射区与第二溅射区背板被暴露出的时间差异,因此,有利于提高LCD靶材组件的使用寿命。
附图说明
图1是一种LCD靶材组件的结构示意图;
图2至图8是本发明一实施例LCD靶材组件形成方法各步骤的结构示意图。
具体实施方式
正如背景技术所述,所述LCD靶材的使用寿命较短。
图1是一种LCD靶材组件的结构示意图。
请参考图1,背板100,所述背板100包括第一面1;位于背板100第一面1的靶材101,所述靶材101包括第二面2,所述靶材101的第二面2与背板100第一面1贴合。
上述方法中,采用溅射工艺对所述靶材101溅射处理形成液晶显示器(LiquidCrystal Display,LCD)薄膜。所述靶材101还包括与第二面2相对的第四面4,所述LCD包括第三面3,所述第三面3与第四面4相对。在溅射过程中,由于用于溅射的设备位于靶材101的两端,使得靶材101两端的消耗速率大于中间区域的消耗速率。由于靶材101中间区与和两端的厚度相同,则两端区域的靶材101较中间区域的靶材101先暴露出背板100。当两端区域的背板100被暴露出,就需更换靶材101,因此,靶材101的使用寿命较短。
为解决所述技术问题,本发明提供一种长寿命LCD靶材组件,包括:所述靶材结构包括第一溅射区和分别位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度。所述方法有利于提高靶材的使用寿命。
为使本发明的上述目的、特征和有益效果能够更为明显易懂,下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
图2至图8是本发明一实施例溅射靶材组件形成方法各步骤的结构示意图。
请参考图2,提供初始靶材200,所述初始靶材200包括第一区Ⅰ和位于第一Ⅰ两侧的第二区Ⅱ。
所述初始靶材200的材料包括:单质、合金或者化合物。其中,单质初始靶材200的材料包括:铝、钽、钛或者铜;合金初始靶材200的材料包括:钛铝、镍铜或者钛铬;化合物初始靶材200的材料包括:氧化硅或者氧化铝。
所述初始靶材200的形状包括:长方体或者正方体。在本实施例中,以所述初始靶材200为长方体进行示范性说明。
在本实施例中,所述初始靶材200在后续提供的背板上的投影为第一长条形,所述第一长条形的长边尺寸b为:2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形的短边尺寸a为:209.8毫米~210.2毫米。
初始靶材200的厚度为:18.2毫米~25.2毫米。所述初始靶材200用于后续形成靶材结构。
所述第一区Ⅰ初始靶材200用于后续形成第一溅射区靶材结构,所述第二区Ⅱ初始靶材200用于后续形成第二溅射区靶材结构。
后续对所述初始靶材200进行加工处理,形成靶材结构,具体请参考图3至图6。
请参考图3,沿第一区Ⅰ与第二区Ⅱ的交界处进行切断处理。
所述第一区Ⅰ初始靶材200用于后续形成第一溅射区靶材结构,所述第二区Ⅱ初始靶材200用于后续形成第二溅射区靶材结构。所述切断处理之后,所述第一溅射区和第二溅射区之间具有交界面250,后续对第二溅射区与交界面250相对一侧且平行于背板表面的初始靶材200的棱角进行处理。
所述切断处理的工具包括:锯床。
沿第一区Ⅰ与第二区Ⅱ的交界处进行切断处理,有利于后续分别对第一区Ⅰ和第二区Ⅱ的初始靶材200进行机械加工,以满足不同区域靶材结构的设计要求。所述第一区Ⅰ投影于后续背板表面的图形为第二条形,所述第二条形的长边尺寸b1为:2489.5毫米~2490.5毫米。所述第二条形的长边尺寸决定后续第一溅射区靶材结构的尺寸。
所述第二区Ⅱ投影于后续背板表面的图形为第三长条形,所述第三长条形的长边尺寸b2为:79.5毫米~80.5毫米。所述第三长条形长边的尺寸决定后续第二溅射区靶材结构的尺寸。
在本实施例中,所述第二长条形和第三长条形的短边尺寸为209.8毫米~210.2毫米。
在本实施例中,第一区Ⅰ和第二区Ⅱ初始靶材200的厚度均为:18.2毫米~25.2毫米。
请参考图4,对第一区Ⅰ初始靶材200(见图3)进行减薄处理,形成第一溅射区A靶材结构201。
所述减薄处理的工具包括:龙门铣。
所述第一溅射区A靶材结构201的厚度为16.2毫米~23.2毫米。
由于仅减薄所述第一区Ⅰ初始靶材200,因此,所形成的第一溅射区A靶材结构201在后续背板表面投影仍为第二长条形。
请参考图5和图6,图6是图5的主视图,对其中一个所述第二区Ⅱ初始靶材200(见图3)与交界面250相对一侧且平行于后续背板表面的顶角进行第一圆化处理,形成第一部B1靶材结构201,所述第一部B1靶材结构201在远离切割面250的一侧具有第一圆角α1;对另一个所述第二区B初始靶材200(见图3)与交界面250相对一侧且平行于后续背板表面的顶角进行第二圆化处理,形成第二部B2靶材结构201,所述第二部B2靶材结构201在远离切割面250的一侧具有第一圆角α2。
所述第一圆化处理和第二圆化处理的工具包括:龙门铣。
所述第一圆化处理,使得所形成的第一部B1靶材结构201的边缘形状与后续提供的背板形状一致,有利于后续将第一部B1靶材结构201与背板连接在一起;所述第二圆化处理,使得所形成的第二部B2靶材结构201的边缘形状与后续提供的背板形状一致,有利于后续将第二部B2靶材结构201与背板连接在一起。
根据背板形状,对所述第二区B初始靶材200远离切割面一侧的顶角进行相应处理。
所述第一圆角α1的范围为:64.5度~65.5度。
所述第二圆角α2的范围为:44.5度~45.5度。
在本实施例中,所述第一部B1靶材结构201和第二部B2靶材结构201的厚度相同,且所述第一部B1靶材结构201和第二部B2靶材结构201的厚度均为:18.2毫米~25.2毫米。在本实施例中,所述第一部靶材结构和第二部靶材结构的厚度不同。
所述第一部B1和第二部B2靶材结构201的厚度大于第一溅射区A靶材结构201的厚度,且所述第一部B1和第二部B2靶材结构201的厚度与第一溅射区A靶材结构201的厚度差为:2毫米~3毫米。选择所述第一部B1和第二部B2靶材结构201与第一溅射区A靶材结构201的厚度差的意义在于:若所述第一部B1和第二部B2靶材结构201与第一溅射区A靶材结构201的厚度差小于2毫米,后续溅射处理过程中,所述第一部B1和第二部B2的背板仍易被暴露出,使得靶材组件的使用寿命较短;若所述第一部B1和第二部B2靶材结构201与第一溅射区A靶材结构201的厚度差大于3毫米时,后续在溅射处理过程中,第一靶材204被消耗掉时,第一部B1和第二部B2靶材结构201剩余量过多,造成第二靶材205的浪费。
所述第一部B1和第二部B2构成第二溅射区(图中未示出)。由于用于溅射的设备为由第一部B1和第二部B2,因此,在溅射过程中,所述第二溅射区的消耗速率大于第一溅射区A的消耗速率。尽管所述第二溅射区的消耗速率大于第一溅射区A的消耗速率,但是,所述第二溅射区靶材结构201的厚度大于第一溅射区A靶材结构201的厚度,因此,能够缩小第二溅射区与第一溅射区A背板被暴露出的时间,有利于延长LCD靶材组件的使用寿命。
所述靶材结构201包括相对的第一面1和第二面2,所述靶材结构201的第一面1用于后续与背板表面焊接,所述靶材结构201的第二面2用于与后续的基板第三面相对。所述第二溅射区的第二面2凸出于第一溅射区A的第二面2。
请参考图7,提供背板202,所述背板202表面与靶材结构201第一面1焊接在一起,形成靶材组件(图中未标出)。
所述背板202的形状是由溅射设备决定,所述背板202的材质包括:铝、铜、铝合金或者铜合金。
在本实施例中,将所述背板202与靶材结构201连接在一起的步骤包括:对靶材结构201第一面1和背板202的表面进行机械加工;所述机械加工之后,进行化学清洗;所述清洗之后,采用热压处理在真空环境下,将所述靶材结构201第一面1焊接在背板202表面,形成溅射靶材组件。
对靶材结构201第一面1和背板202表面进行所述机械加工使之光亮,尤其是两者的接触面达到必要的光洁度。
对靶材结构201第一面1的清洗步骤包括:采用酸溶液清洗靶材结构207;采用酸溶液清洗靶材结构201第一面1之后,采用有机溶剂清洗。其中,酸溶液包括:氢氟酸(HF)和硝酸(HNO3)的混合溶液,所述有机溶剂包括:异丙醇IBA,异丙醇IPA或混丙醇IPB中的任一种。
对背板202表面的清洗步骤包括:采用有机溶剂清洗。清洗背板202表面所采用的有机溶剂与清洗靶材结构201第一面1的有机溶剂相似,在此不做赘述。
所述背板202包括第三区(图中未示出)和位于第三区两侧的第四区(图中未示出)和第五区(图中未示出),所述背板202第三区用于焊接第一溅射区A的靶材结构201,所述背板202第四区用于焊接第一部B1靶材结构201,所述述背板202第五区用于焊接第二部B2靶材结构201。
所述靶材结构201在背板202表面的投影为第一长条形。
请参考图8,形成所述靶材组件之后,提供基板203,所述基板203包括第三面3,所述基板203第三面3与靶材结构201的第二面2相对;对所述靶材结构201的第二面2进行溅射处理,在所述基板203上形成薄膜(图中未示出)。
所述基板203为液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)。
尽管用于溅射的设备位于靶材结构201第一部B1和第二部B2,使得第一部B1和第二部B2靶材结构201的消耗速率较第一溅射区A的消耗速率大,但是,第一部B1和第二部B2的靶材结构201的厚度大于第一溅射区A的靶材结构201的厚度,因此,能够缩小第一部B1和第二部B2与第一溅射区A暴露出背板202的时间差异,因此,有利于延伸靶材组件的使用寿命。
在所述第一部B1和第二部B2内还具有最深溅射区11,位于最深溅射区11的靶材结构201在溅射过程中消耗的最快,因此,最深溅射区11靶材结构201的厚度决定溅射靶材组件209的使用寿命。
沿第一长条形短边方向上,所述最深溅射区11的尺寸a1为:59毫米~61毫米;沿第一长条形长边方向上,所述最深溅射区11的尺寸b4为9.9毫米~10.1毫米。
所述最深溅射区11到第一长条形短边的最小距离为:59毫米~61毫米,所述最深溅射区11到第一长条形长边的最小距离为74毫米~76毫米。
所述最深溅射区11的靶材结构201的厚度大于第一溅射区A靶材结构201的厚度,使得在溅射过程中,最深溅射区11的背板202不易被暴露出,使得溅射靶材组件的使用寿命较长。
在本实施例中,对第一部B1和第二部B2的靶材结构201厚度均大于第一溅射区A的靶材结构201的厚度,有利于降低加工的难度。
相应的,本实施例还提供一种采用上述方法所形成的LCD靶材组件,请继续参考图8,包括:
背板202;
位于所述背板202表面的靶材结构201,所述靶材结构201包括第一面2,所述靶材结构201的第1面1平坦并与背板202表面贴合,所述靶材结构201包括第一溅射区A和分别位于第一溅射区A两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构201的厚度大于第一溅射区A靶材结构201的厚度。
所述第二溅射区靶材结构201厚度与第一溅射区A靶材结构201的厚度差为:2毫米~3毫米。所述第二溅射区靶材结构201的厚度为:18.2毫米~25.2毫米;所述第一溅射区A靶材结构201的厚度为:16.2毫米~23.2毫米。
所述靶材结构201在背板202第一面1的投影为第一长条形,所述第一长条形长边尺寸为:2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形短边尺寸为:209.8毫米~210.2毫米。
所述第一溅射区A投影于背板表面的图形为第二条形,所述第二条形的长边尺寸为2489.5毫米~2490.5毫米;所述第二溅射区投影于背板表面的图形为第三条形,所述第三条形的长边的尺寸为:79.5毫米~80.5毫米。
所述第二溅射区B内包括最深溅射区11;沿所述第二长条形长边方向上,所述最深溅射区11的尺寸为:9.9毫米~10.1毫米,沿第二长条形短边方向上,所述最深溅射区11的尺寸为:59毫米~61毫米。
所述最深溅射区11到第一长条形长边的最小距离为:74毫米~76毫米,所述最深溅射区11到第一长条形短边的最小距离为59毫米~61毫米。
第二溅射区包括分别位于第一溅射区A两侧的第一部B1和第二部B2;所述第一部B1与交界面250相对一侧且平行于背板202表面的棱角为第一圆角;所述第二部B2与交界面250相对一侧且平行于背板202表面的棱角为第二圆角。
所述第一圆角的范围为:64.5度~65.5度,所述第二圆角的范围为:44.5度~45.5度。
虽然本发明披露如上,但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与修改,因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (18)

1.一种长寿命LCD靶材组件,其特征在于,包括:
背板;
固定于所述背板表面的靶材结构,所述靶材结构包括第一面,所述靶材结构第一面平坦并与背板表面贴合,所述靶材结构包括第一溅射区和分别位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度。
2.如权利要求1所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述第二溅射区靶材结构厚度与第一溅射区靶材结构的厚度差为:2毫米~3毫米。
3.如权利要求1所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述第二溅射区靶材结构的厚度为:18.2毫米~25.2毫米;所述第一溅射区靶材结构的厚度为:16.2毫米~23.2毫米。
4.如权利要求1所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述靶材结构还包括与第一面相对的第二面;所述第二溅射区的第二面凸出于第一溅射区的第二面。
5.如权利要求1所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述靶材结构在背板表面的投影为第一长条形,所述第一长条形长边尺寸为:2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形短边尺寸为:209.8毫米~210.2毫米。
6.如权利要求5所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述第一溅射区投影于背板表面的图形为第二条形,所述第二条形的尺寸为2489.5毫米~2490.5毫米;所述第二溅射区投影于背板表面的图形为第三条形,所述第三条形的长边的尺寸为:79.5毫米~80.5毫米。
7.如权利要求5所述的长寿命LCD靶材组件,其特征在于,所述第二溅射区内包括最深溅射区;沿所述第一长条形的长边方向上,所述最深溅射区的尺寸为:9.9毫米~10.1毫米,沿第一长条形的短边方向上,所述最深溅射区的尺寸为:59毫米~61毫米。
8.如权利要求7所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述最深溅射区到第一长条形长边的最小距离为:74毫米~76毫米,所述最深溅射区到第一长条形短边的最小距离为59毫米~61毫米。
9.如权利要求1所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第二溅射区包括分别位于第一溅射区两侧的第一部和第二部;所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;所述第一部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第一圆角;所述第二部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第二圆角。
10.如权利要求9所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第一圆角的范围为:64.5度~65.5度,所述第二圆角的范围为:44.5度~45.5度。
11.一种长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,包括:
提供初始靶材;
对所述初始靶材进行加工处理,形成靶材结构,所述靶材结构包括第一溅射区和位于第一溅射区两侧的第二溅射区,所述第二溅射区靶材结构的厚度大于第一溅射区靶材结构的厚度,所述靶材结构包括平坦的第一面;
提供背板;
将靶材结构第一面与背板表面焊接,形成靶材组件。
12.如权利要求11所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第二溅射区靶材结构厚度与第一溅射区靶材结构的厚度差为:2毫米~3毫米。
13.如权利要求11所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第二溅射区靶材结构的厚度为:18.2毫米~25.2毫米;所述第一溅射区靶材结构的厚度为:16.2毫米~23.2毫米。
14.如权利要求11所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述初始靶材在背板表面的投影为第一长条形,所述第一长条形长边尺寸为:
2649.8毫米~2650.2毫米,所述第一长条形短边尺寸为:209.8毫米~210.2毫米。
15.如权利要求14所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第一溅射区投影于背板表面的图形为第二长条形,所述第二长条形的长边尺寸为2489.5毫米~2490.5毫米;所述第二溅射区投影于背板表面的图形为第三条形,所述第三条形的长条尺寸为:79.5毫米~80.5毫米。
16.如权利要求15所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第二溅射区包括分别位于第一溅射区两侧的第一部和第二部;所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;所述第一部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第一圆角;所述第二部与交界面相对一侧且平行于背板表面的棱角为第二圆角。
17.如权利要求16所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述第一圆角的范围为:64.5度~65.5度,所述第二圆角的范围为:44.5度~45.5度。
18.如权利要求17所述的长寿命LCD靶材组件的形成方法,其特征在于,所述初始靶材包括第一区和位于第一区两侧的第二区;所述加工处理的步骤包括:在初始靶材所述第一区与第二区的交界面处进行切断处理,所述第一区初始靶材用于后续形成第一溅射区靶材结构,所述第二区初始靶材用于后续形成第二溅射区靶材结构,所述第二溅射区与第一溅射区之间具有交界面;对第一区初始靶材进行减薄处理,形成第一溅射区靶材结构;对第二区初始靶材与交界面相对一侧且平行于背板表面的顶角进行第一圆化处理,形成第一部靶材结构,所述第一部靶材结构具有第一圆角;对第二区初始靶材与交界面相对一侧且平行于背板表面的顶角进行第二圆化处理,形成第二部靶材结构,所述第二部靶材结构具有第二圆角。
CN201810007949.2A 2018-01-04 2018-01-04 长寿命lcd靶材组件及其形成方法 Pending CN110010455A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810007949.2A CN110010455A (zh) 2018-01-04 2018-01-04 长寿命lcd靶材组件及其形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810007949.2A CN110010455A (zh) 2018-01-04 2018-01-04 长寿命lcd靶材组件及其形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110010455A true CN110010455A (zh) 2019-07-12

Family

ID=67164240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810007949.2A Pending CN110010455A (zh) 2018-01-04 2018-01-04 长寿命lcd靶材组件及其形成方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110010455A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1266305C (zh) * 2001-06-05 2006-07-26 普莱克斯S.T.技术有限公司 环形溅射靶
CN201793723U (zh) * 2010-09-28 2011-04-13 宁波江丰电子材料有限公司 一种长寿命溅射靶材
CN204097558U (zh) * 2014-08-12 2015-01-14 有研亿金新材料有限公司 一种长寿命磁控溅射靶材
CN204138753U (zh) * 2014-09-28 2015-02-04 山东淄博汉能光伏有限公司 一种新型磁控溅射靶材
CN105734508A (zh) * 2016-04-08 2016-07-06 有研亿金新材料有限公司 一种氧化物靶材及其制备方法
CN105934533A (zh) * 2014-01-21 2016-09-07 住友化学株式会社 溅射靶
CN106544634A (zh) * 2015-09-17 2017-03-29 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种膜层的形成方法、靶材及靶材制作方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1266305C (zh) * 2001-06-05 2006-07-26 普莱克斯S.T.技术有限公司 环形溅射靶
CN201793723U (zh) * 2010-09-28 2011-04-13 宁波江丰电子材料有限公司 一种长寿命溅射靶材
CN105934533A (zh) * 2014-01-21 2016-09-07 住友化学株式会社 溅射靶
CN204097558U (zh) * 2014-08-12 2015-01-14 有研亿金新材料有限公司 一种长寿命磁控溅射靶材
CN204138753U (zh) * 2014-09-28 2015-02-04 山东淄博汉能光伏有限公司 一种新型磁控溅射靶材
CN106544634A (zh) * 2015-09-17 2017-03-29 宁波江丰电子材料股份有限公司 一种膜层的形成方法、靶材及靶材制作方法
CN105734508A (zh) * 2016-04-08 2016-07-06 有研亿金新材料有限公司 一种氧化物靶材及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101621026B (zh) 玻璃钝化硅晶圆的背面激光切割方法
CN101920435B (zh) 溅射钽环件的制备工艺
KR101920170B1 (ko) 스퍼터링용 타깃재와 그 제조 방법
TWI411698B (zh) 濺鍍靶材及由此製得之濺鍍靶
TW201339111A (zh) 強化玻璃的切割方法
CN103681277B (zh) 一种多层金属图形化工艺中的湿法腐蚀方法
TW200952055A (en) Semiconductor wafer and method for producing same
CN106270556A (zh) 钨钛靶材的车削方法
TW412800B (en) Mirror-polished semiconductor wafer and its manufacturing method
CN109570932A (zh) 一种渐开线式微沟槽复合织构减摩表面
CN108544045A (zh) 一种钨靶材焊接方法及钨靶材组件
CN101226904B (zh) 具有不对称边缘轮廓的硅片及其制造方法
KR101384278B1 (ko) 유기 발광다이오드 마스크 프레임 및 그 제조방법
CN110010455A (zh) 长寿命lcd靶材组件及其形成方法
CN203765443U (zh) 一种合成的镀铜研磨机台
CN108949374A (zh) 一种酸性玻璃清洗剂
CN106334686A (zh) 靶材组合的清洗方法
JP2007047265A (ja) ガラス基板及びガラス基板の製造方法
TW448237B (en) Oxide sintered compact sputtering target assembly
CN110029316A (zh) 长寿命lcd靶材组件及其形成方法
TW202120451A (zh) 附微結構之玻璃基板、附導電層之玻璃基板、及製造附微結構之玻璃基板之方法
JPH11106904A (ja) スパッタリングターゲットの製造方法
CN213635924U (zh) 一种新型游星轮载体
CN102861958B (zh) 真空钎焊方法
CN112323069B (zh) 一种碱性蚀刻药液及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190712

RJ01 Rejection of invention patent application after publication