CN109860433B - 显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置。该方法包括：选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色；利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，以在基板上形成目标颜色对应的蒸镀膜层；利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，以在基板上形成目标颜色对应的图案化发光层；重复选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色的步骤，直至在基板上形成各颜色对应的图案化发光层。本发明实施例的显示面板、其制作方法及显示装置，能够降低蒸镀的成本和蒸镀工艺的难度，能够提升PPI和显示效果。

Description

显示面板、其制作方法及显示装置

技术领域

本发明涉及有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示技术领域，尤其涉及一种显示面板、其制作方法及显示装置。

背景技术

OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)之后的显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。

目前，在制作OLED显示器时，通常利用精密金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)对发光材料进行蒸镀。但是受FMM制作工艺、蒸镀工艺、FMM开口尺寸、FMM开口对位精度的影响，造成所制作出的显示器的像素密度(Pixels Per Inch，PPI)较低，显示效果较差。

发明内容

本发明实施例提供一种显示面板、其制作方法及显示装置，能够提高显示面板的显示效果。

一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，方法包括：

选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色；

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，以在基板上形成目标颜色对应的蒸镀膜层；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，以在基板上形成目标颜色对应的图案化发光层；

重复选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色的步骤，直至在基板上形成各颜色对应的图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的目标颜色子像素区域；

对基板上目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行去除处理。

在本发明的一个实施例中，对基板上目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行去除处理，包括：

对基板上目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行激光照射处理。

在本发明的一个实施例中，目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层被气化处理成气态原子和/或分子沉积到玻璃精密掩膜版上。

在本发明的一个实施例中，目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层被气化处理成气态目标颜色发光材料；

本发明实施例提供的显示面板的制作方法还包括：

利用抽气方法吸掉气态目标颜色发光材料。

在本发明的一个实施例中，基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为另外两种颜色中的任意一种；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的所选取的颜色子像素区域；

对基板上的所选取的颜色对应的子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理，以在基板上形成所选取的颜色对应的图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的另外一种颜色子像素区域；

对基板上的另外一种颜色子像素区域以外的区域上的另外一种颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

在本发明的一个实施例中，基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为另外两种颜色中的任意一种；

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，包括：

采用开放式掩膜版，遮住基板上的一种颜色子像素区域；

在基板上的一种颜色子像素区域以外的区域蒸镀所选取的颜色对应的发光材料；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域；

对基板上一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

在本发明的一个实施例中，基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层；

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，包括：

采用开放式掩膜版，遮住基板上的两种颜色子像素区域；

在基板上的两种颜色子像素区域以外的区域蒸镀另外一种颜色子像素对应的另外一种颜色发光材料；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的所有颜色子像素区域；

对基板上所有颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，显示面板采用本发明实施例提供的显示面板的制作方法制得。

再一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的显示面板。

本发明实施例提供一种显示面板、其制作方法及显示装置，通过开放式掩膜版对发光材料进行蒸镀，没有使用FMM对发光材料进行蒸镀，能够降低蒸镀的成本和蒸镀工艺的难度；利用可透光掩膜版进行图案化处理，可精确控制发光材料的面积和位置，能够降低蒸镀过程中因FMM厚度与蒸发角的原因而产生的阴影。另外，PPI不受FMM开口尺寸的影响，能够提升PPI和显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图；

图2a示出了本发明实施例提供的蒸镀红色发光材料的一种示意图；

图2b示出了本发明实施例提供的红色发光材料蒸镀完成的一种结果示意图；

图2c示出了本发明实施例提供的去除红色对应的蒸镀膜层的一种示意图；

图2d示出了本发明实施例提供的去除红色对应的蒸镀膜层的一种结果示意图；

图2e示出了本发明实施例提供的蒸镀蓝色发光材料的一种示意图；

图2f示出了本发明实施例提供的蓝色发光材料蒸镀完成的一种结果示意图；

图2g示出了本发明实施例提供的去除蓝色对应的蒸镀膜层的一种示意图；

图2h示出了本发明实施例提供的去除蓝色对应的蒸镀膜层的一种结果示意图；

图2i示出了本发明实施例提供的蒸镀绿色发光材料的一种示意图；

图2j示出了本发明实施例提供的绿色发光材料蒸镀完成的一种结果示意图；

图2k示出了本发明实施例提供的去除绿色对应的蒸镀膜层的一种示意图；

图2l示出了本发明实施例提供的去除绿色对应的蒸镀膜层的一种结果示意图；

图3a示出了本发明实施例提供的蒸镀红色发光材料的另一种示意图；

图3b示出了本发明实施例提供的红色发光材料蒸镀完成的另一种结果示意图；

图3c示出了本发明实施例提供的去除红色对应的蒸镀膜层的另一种示意图；

图3d示出了本发明实施例提供的去除红色对应的蒸镀膜层的另一种结果示意图；

图3e示出了本发明实施例提供的蒸镀蓝色发光材料的另一种示意图；

图3f示出了本发明实施例提供的蓝色发光材料蒸镀完成的另一种结果示意图；

图3g示出了本发明实施例提供的去除蓝色对应的蒸镀膜层的另一种示意图；

图3h示出了本发明实施例提供的去除蓝色对应的蒸镀膜层的另一种结果示意图；

图3i示出了本发明实施例提供的蒸镀绿色发光材料的另一种示意图；

图3j示出了本发明实施例提供的绿色发光材料蒸镀完成的另一种结果示意图；

图3k示出了本发明实施例提供的去除绿色对应的蒸镀膜层的另一种示意图；

图3l示出了本发明实施例提供的去除绿色对应的蒸镀膜层的另一种结果示意图。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

图1示出了本发明实施例提供的显示面板的制作方法的流程示意图。显示面板的制作方法可以包括：

S101：选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色。

可以理解的是，图案化发光层所对应的颜色包括红色(Red，R)、蓝色(Blue，B)和绿色(Green，G)。

若当前未形成上述三种颜色各自对应的图案化发光层，则当前未形成图案化发光层所对应的颜色包括：红色、蓝色和绿色，则从红色、蓝色和绿色中选取一个颜色作为目标颜色。

若当前已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层，则从另外两种颜色中选取一种颜色作为目标颜色。

示例性的，当前已形成红色对应的图案化发光层(以下简称为红色图案化发光层)，未形成蓝色对应的图案化发光层(以下简称为蓝色图案化发光层)和绿色对应的图案化发光层(以下简称为绿色图案化发光层)，则未形成图案化发光层所对应的颜色包括：蓝色和绿色，则从蓝色和绿色中选取一个颜色作为目标颜色。

若当前已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层，则将另外一种颜色作为目标颜色。

示例性的，当前已形成红色图案化发光层和蓝色图案化发光层，未形成绿色图案化发光层，则未形成图案化发光层所对应的颜色为绿色，则将绿色作为目标颜色。

S102：利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色子像素对应的目标颜色发光材料，以在基板上形成目标颜色对应的蒸镀膜层。

可以理解的是红色与红色发光材料对应，蓝色与蓝色发光材料对应，绿色与绿色发光材料对应。

在本发明的一个实施例中，发光材料可以是无机发光材料，也可以是有机发光材料。其中，有机发光材料可以是有机小分子发光材料，还可以是有机高分子发光材料，还可以是有机配合物发光材料。

基板上的子像素区域包括R(红色)子像素区域、B(蓝色)子像素区域和G(绿色)子像素区域。通常情况下，子像素区域和子像素区域之间的区域共同构成显示区。

应当理解的是，开放式掩膜版的开口包括以下几种情况：在基板上未形成各颜色对应的图案化发光层时，开放式掩膜版的开口对应基板上的显示区；在基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层且未形成另外两种颜色对应的图案化发光层时，开放式掩膜版的开口至少对应基板上的另外两种颜色对应的图案化发光层及他们之间的区域；在基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层且未形成另外一种颜色对应的图案化发光层时，开放式掩膜版的开口至少对应基板上的另外一种颜色对应的图案化发光层及他们之间的区域。以上以形成三种颜色对应的图案化发光层为例进行说明，本发明不限于此。

在本发明的一个实施例中，可以将基板放置在蒸镀腔内，然后在蒸镀腔中放入发光材料，对发光材料进行加热，使发光材料汽化或者升华，气态发光材料通过开放式掩膜版的开口区，进而沉积在基板上的显示区。

本发明实施例并不对发光材料进行加热的方式进行限定，任何可用的加热方式均可应用于本发明实施例中，比如电阻加热、电子束加热、射频感应加热、电弧加热和激光加热等。

S103：利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，以在基板上形成目标颜色对应的图案化发光层；重复步骤S101直至在基板上形成各颜色对应的图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，可透光掩膜版可以为玻璃精密掩膜版。

在本发明的一个实施例中，可以采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的目标颜色子像素区域；对基板上目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行去除处理。

在本发明的一个实施例中，对基板上目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行去除处理，可以利用激光进行照射处理。

通过激光照射处理，可以使目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层被气化处理成气态原子和/或分子沉积到玻璃精密掩膜版上。进而可以回收沉积到玻璃精密掩膜版上的目标颜色发光材料。

在本发明的一个实施例中，通过激光照射处理，还可以目标颜色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层被气化处理成气态目标颜色发光材料，进而可以利用抽气方法吸掉气态目标颜色发光材料，以对目标颜色发光材料进行回收。

通过对目标颜色发光材料的回收，能够使目标颜色发光材料再利用，降低材料成本。

本发明实施例提供的显示面板的制作方法，通过开放式掩膜版对发光材料进行蒸镀，没有使用FMM对发光材料进行蒸镀，能够降低蒸镀的成本和蒸镀工艺的难度；利用可透光掩膜版进行图案化处理，可精确控制发光材料的面积和位置进而降低对位工艺的难度，能够降低蒸镀过程中因FMM厚度与蒸发角的原因而产生的阴影。另外，可透光掩膜版若采用高精度的玻璃精密掩膜版，其开口小于FMM的开口大小，所得到的像素尺寸小于采用FMM蒸镀所得到的像素尺寸。通过本发明实施例提供的显示面板的制作方法所制作的显示面板的PPI不受FMM开口尺寸的影响，能提升PPI和显示效果。

在本发明的一个实施例中，若基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为另外两种颜色中的任意一种；利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，可以包括：采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的所选取的颜色子像素区域；对基板上的所选取的颜色对应的子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理，以在基板上形成所选取的颜色对应的图案化发光层。

若基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层；利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，可以包括：采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的另外一种颜色子像素区域；对基板上的另外一种颜色子像素区域以外的区域上的另外一种颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

示例性的，下面以依次形成红色图案化发光层、蓝色图案化发光层和绿色图案化发光层为例进行说明。

首先，基板上未形成各颜色对应的图案化发光层，选取红色作为目标颜色。

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀红色发光材料，如图2a所示。

红色发光材料蒸镀完成后的结果如图2b所示。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的红色子像素区域，对基板上红色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上红色子像素区域以外的区域上红色对应的蒸镀膜层，如图2c所示。去除基板上红色子像素区域以外的区域上红色对应的蒸镀膜层的结果如图2d所示。此时，基板上形成红色图案化发光层。

再选取蓝色作为目标颜色。

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀蓝色发光材料，如图2e所示。

蓝色发光材料蒸镀完成后的结果如图2f所示。可以理解的是，此时红色图案化发光层上有蓝色对应的蒸镀膜层。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的蓝色子像素区域，对基板上蓝色子像素区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上蓝色子像素区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层，如图2g。去除基板上蓝色子像素区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层的结果如图2h所示。此时，基板上形成红色图案化发光层和蓝色图案化发光层。

可以理解的是，在基板上的各处的蒸镀膜层的厚度基本相同。对基板上蓝色子像素区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理时，可以通过控制激光照射的强度，使绿色子像素区域上蓝色对应的蒸镀膜层去除掉，此时停止激光照射，则红色子像素区域上恰好显露出红色图案化发光层，而没有蓝色对应的蒸镀膜层。

再选取绿色作为目标颜色。

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀绿色发光材料，如图2i所示。

绿色发光材料蒸镀完成后的结果如图2j所示。可以理解的是，此时红色图案化发光层和蓝色图案化发光层上有绿色对应的蒸镀膜层。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的绿色子像素区域，对基板上绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层，如图2k。去除基板上绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层的结果如图2l所示。此时，基板上形成红色图案化发光层、蓝色图案化发光层和绿色发光层。

可以理解是的，在基板上的各处的蒸镀膜层的厚度基本相同。对基板上绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理时，可以通过控制激光照射的强度，使除子像素区域之外的区域上绿色对应的蒸镀膜层去除掉，此时停止激光照射，则红色子像素区域上恰好显露出红色图案化发光层，而没有绿色对应的蒸镀膜层；蓝色子像素区域上恰好显露出蓝色图案化发光层，而没有绿色对应的蒸镀膜层。

在本发明的一个实施例中，若基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为另外两种颜色中的任意一种。利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，可以包括：采用开放式掩膜版，遮住基板上的一种颜色子像素区域；在基板上的一种颜色子像素区域以外的区域蒸镀所选取的颜色对应的发光材料。利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，可以包括：采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域；对基板上一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

若基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层。利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，可以包括：采用开放式掩膜版，遮住基板上的两种颜色子像素区域；在基板上的两种颜色子像素区域以外的区域蒸镀另外一种颜色子像素对应的另外一种颜色发光材料。利用可透光掩膜版作为遮罩，对蒸镀膜层图案化处理，可以包括：采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的所有颜色子像素区域；对基板上所有颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

示例性的，下面以依次形成红色图案化发光层、蓝色图案化发光层和绿色图案化发光层为例进行说明。

首先，基板上未形成各颜色对应的图案化发光层，选取红色作为目标颜色。

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀红色发光材料，如图3a所示。

红色发光材料蒸镀完成后的结果如图3b所示。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的红色子像素区域，对基板上红色子像素区域以外的区域上的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上红色子像素区域以外的区域上红色对应的蒸镀膜层，如图3c所示。去除基板上红色子像素区域以外的区域上红色对应的蒸镀膜层的结果如图3d所示。此时，基板上形成红色图案化发光层。

再选取蓝色作为目标颜色。

采用开放式掩膜版，遮住基板上的红色子像素区域，在基板上的红色子像素区域以外的区域蒸镀蓝色发光材料，如图3e所示。

蓝色发光材料蒸镀完成后的结果如图3f所示。可以理解的是，此时红色图案化发光层上没有蓝色对应的蒸镀膜层。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的红色像素子区域和蓝色像素子区域；对基板上红色像素子区域和蓝色像素子区域以外的区域上的蓝色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上红色像素子区域和蓝色像素子区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层，如图3g所示。去除基板上红色像素子区域和蓝色像素子区域以外的区域上蓝色对应的蒸镀膜层的结果如图3h所示。此时，基板上形成红色图案化发光层和蓝色图案化发光层。

再选取绿色作为目标颜色。

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀绿色发光材料，如图3i所示。

绿色发光材料蒸镀完成后的结果如图3j所示。可以理解的是，此时红色图案化发光层和蓝色图案化发光层上没有绿色对应的蒸镀膜层。

采用玻璃精密掩膜版，遮住基板上的红色子像素区域、蓝色子像素区域和绿色子像素区域，对基板上红色子像素区域、蓝色子像素区域和绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层进行激光照射处理，以去除基板上红色子像素区域、蓝色子像素区域和绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层，如图3k。去除基板上红色子像素区域、蓝色子像素区域和绿色子像素区域以外的区域上绿色对应的蒸镀膜层的结果如图3l所示。此时，基板上形成红色图案化发光层、蓝色图案化发光层和绿色图案化发光层。

需要说明的是，上述以依次形成红色图案化发光层、蓝色图案化发光层和绿色图案化发光层为例进行说明，仅为本发明的一具体实例，并不构成对本发明的限定。

在本发明的一个实施例中，还可以先形成红色图案化发光层，再形成绿色图案化发光层，再形成蓝色图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，还可以先形成绿色图案化发光层，再形成红色图案化发光层，再形成蓝色图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，还可以先形成绿色图案化发光层，再形成蓝色图案化发光层，再形成红色图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，还可以先形成蓝色图案化发光层，再形成绿色图案化发光层，再形成红色图案化发光层。

在本发明的一个实施例中，还可以先形成蓝色图案化发光层，再形成红色图案化发光层，再形成绿色图案化发光层。

本发明实施例还提供一种显示面板，本发明实施例提供的显示面板采用本发明实施例提供的显示面板的制作方法制得。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括本发明实施例提供的显示面板。

需要明确的是，本发明并不局限于上文所描述并在图中示出的特定配置和处理。为了简明起见，这里省略了对已知方法的详细描述。在上述实施例中，描述和示出了若干具体的步骤作为示例。但是，本发明的方法过程并不限于所描述和示出的具体步骤，本领域的技术人员可以在领会本发明的精神后，作出各种改变、修改和添加，或者改变步骤之间的顺序。

还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色；

利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，以在所述基板上形成目标颜色对应的蒸镀膜层；

利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，以在所述基板上形成所述目标颜色对应的图案化发光层；

重复所述选取未形成图案化发光层所对应的颜色中的一个颜色作为目标颜色的步骤，直至在所述基板上形成各颜色对应的图案化发光层；

其中，所述利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住所述基板上的目标颜色子像素区域；

对所述基板上所述目标颜色子像素区域以外的区域上的所述蒸镀膜层进行去除处理。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述基板上所述目标颜色子像素区域以外的区域上的所述蒸镀膜层进行去除处理，包括：

对所述基板上所述目标颜色子像素区域以外的区域上的所述蒸镀膜层进行激光照射处理。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标颜色子像素区域以外的区域上的所述蒸镀膜层被气化处理成气态原子和/或分子沉积到所述玻璃精密掩膜版上。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标颜色子像素区域以外的区域上的所述蒸镀膜层被气化处理成气态目标颜色发光材料；

所述方法还包括：

利用抽气方法吸掉所述气态目标颜色发光材料。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为所述另外两种颜色中的任意一种；

所述利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住所述基板上的所选取的颜色对应的子像素区域；

对所述基板上的所选取的颜色对应的子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理，以在所述基板上形成所选取的颜色对应的图案化发光层。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层；

所述利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住所述基板上的所述另外一种颜色子像素区域；

对所述基板上的所述另外一种颜色子像素区域以外的区域上的所述另外一种颜色对应的蒸镀膜层进行去除处理。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上已形成一种颜色对应的图案化发光层，未形成另外两种颜色对应的图案化发光层；所选取的颜色为所述另外两种颜色中的任意一种；

所述利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，包括：

采用所述开放式掩膜版，遮住所述基板上的所述一种颜色子像素区域；

在所述基板上的所述一种颜色子像素区域以外的区域蒸镀所选取的颜色对应的发光材料；

所述利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住所述基板上的所述一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域；

对所述基板上所述一种颜色子像素区域和所选取的颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的所述蒸镀膜层进行去除处理。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板上已形成两种颜色对应的图案化发光层，未形成另外一种颜色对应的图案化发光层；

所述利用开放式掩膜版作为遮罩，在基板上蒸镀目标颜色对应的发光材料，包括：

采用所述开放式掩膜版，遮住所述基板上的所述两种颜色子像素区域；

在所述基板上所述两种颜色子像素区域以外的区域蒸镀所述另外一种颜色对应的发光材料；

所述利用可透光掩膜版作为遮罩，对所述蒸镀膜层图案化处理，包括：

采用玻璃精密掩膜版，遮住所述基板上的所有颜色子像素区域；

对所述基板上所有颜色子像素区域以外的区域上的所选取的颜色对应的所述蒸镀膜层进行去除处理。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板采用如权利要求1-8任一项所述的方法制得。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。

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