CN109837508A - 掩膜基板及具有它的掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜基板及具有它的掩膜板，其中，该掩膜基板包括基板本体，基板本体具有蒸镀面、与蒸镀面相背的玻璃面及自蒸镀面贯穿至玻璃面的多个蒸镀孔；蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面。根据本发明提供的掩膜基板及具有它的掩膜板，蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面，如此，一方面，有机材料能够挂在该粗糙面上，不易掉落至下方的蒸发源中，可以确保蒸发源的洁净度，减少有机材料的浪费，降低成材料成本。另一方面，可以提高掩膜板单次使用时间，进而提高生产效率。再一方面，掩膜板单次使用时间越长，则可以减少掩膜板清洗的频率，进而延长掩膜板的使用寿命，进一步降低生产成本。

Description

掩膜基板及具有它的掩膜板

技术领域

本发明涉及有机发光显示制造技术领域，尤其涉及一种掩膜基板及具有它的掩膜板。

背景技术

OLED(organic light emitting diode，有机发光二极体)在生产制程中最影响良率的制程为蒸镀制程，蒸镀制程的基本过程即通过加热蒸发源，使得蒸发源中的有机材料蒸发，并通过高精度掩膜板蚀刻完成的蒸镀孔蒸镀到玻璃基板上，形成发光单元。

相关技术中的掩膜板在蒸镀制程中，存在生产成本高、生产效率低及使用寿命短等问题。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种掩膜基板。

本发明的另一个目的在于提出一种掩膜板。

为实现上述目的，一方面，根据本发明实施例的掩膜基板，包括：

基板本体，所述基板本体具有蒸镀面、与所述蒸镀面相背的玻璃面及自所述蒸镀面贯穿至所述玻璃面的多个蒸镀孔；

所述蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面。

根据本发明实施例提供的掩膜基板，蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面，如此，一方面，有机材料能够挂在该粗糙面上，不易掉落至下方的蒸发源中，可以确保蒸发源的洁净度，减少有机材料的浪费，降低成材料成本。另一方面，可以提高掩膜板单次使用时间，进而提高生产效率。再一方面，掩膜板单次使用时间越长，则可以减少掩膜板清洗的频率，进而延长掩膜板的使用寿命，进一步降低生产成本。

另外，根据本发明上述实施例的掩膜基板还可以具有如下附加的技术特征：

根据本发明的一个实施例，所述粗糙面为经喷砂工艺处理形成的喷砂表面。

根据本发明的一个实施例，所述粗糙面为经蚀刻工艺处理形成的蚀刻表面。

根据本发明的一个实施例，所述玻璃面为光滑面。

根据本发明的一个实施例，所述粗糙面上形成阵列布置的颗粒结构。

根据本发明的一个实施例，所述粗糙面上形成沿预定方向延伸的锯齿结构。

根据本发明的一个实施例，所述蒸镀面包括有效蒸镀区及位于所述有效蒸镀区外侧且用于连接掩膜板框的空置区，所述有效蒸镀区形成为所述粗糙面，所述空置区形成为光滑面。

另一方面，根据本发明实施例的掩膜板，包括：

掩膜板框；

如上所述的掩膜基板，所述掩膜基板设在所述掩膜板框上。

根据本发明实施例提供的掩膜板，具有上述掩膜基板，蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面，如此，一方面，有机材料能够挂在该粗糙面上，不易掉落至下方的蒸发源中，可以确保蒸发源的洁净度，减少有机材料的浪费，降低成材料成本。另一方面，可以提高掩膜板单次使用时间，进而提高生产效率。再一方面，掩膜板单次使用时间越长，则可以减少掩膜板清洗的频率，进而延长掩膜板的使用寿命，进一步降低生产成本。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1是本发明实施例掩膜基板一个视角的结构示意图；

图2是本发明实施例掩膜基板另一个视角的结构示意图；

图3是本发明实施例掩膜基板的仰视图；

图4是本发明实施例掩膜板的结构示意图；

图5是本发明实施例掩膜板在蒸镀制程中的示意图。

附图标记：

掩膜基板10；

基板本体101；

蒸镀孔1011；

玻璃面S10；

蒸镀面S11；

有效蒸镀区S111；

空置区S112；

掩膜板框20；

蒸发源30。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制，基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”“轴向”、“周向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

本发明是基于发明人长期对掩膜板蒸镀制程的研究和实验发现完成的：

掩膜板一般包括掩膜板框及设在掩膜板框上的掩膜基板，掩膜基板上具有多个上述的蒸镀孔。掩膜基板的平面度及尺寸精度要求极高，并且，一般采用光刻工艺加工，加工成型的掩膜基板其表面光滑平整。

发明人意外地发现：在蒸镀制程中，有机材料向上蒸发时，部分没有从蒸镀孔通过的有机材料被挂在掩膜基板的底面上，然而，由于掩膜基板表面非常光滑，所以有机材料容易从掩膜基板的底面掉落至下方的蒸发源中，导致蒸发源中的有机材料不能使用，由此，使得材料成本高。并且，在此种情况下，需要对掩膜基板进行清洗，然后再进行蒸镀，如此，缩短了掩膜基板单次蒸镀使用的时间，降低了生产效率。与此同时，增加了掩膜基板的清洗频率，每次清洗时的清洗液对掩膜板具有一定的损伤，并影响其精度，进而导致掩膜板使用寿命缩短，成本进一步提高。

下面参照附图详细描述本发明实施例的掩膜基板10及掩膜板。

参照图1至图3所示，根据本发明实施例提供的掩膜基板10，包括基板本体101，基板本体101具有蒸镀面S11、与所述蒸镀面S11相背的玻璃面S10及自所述蒸镀面S11贯穿至所述玻璃面S10的多个蒸镀孔1011。蒸镀面S11被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面。在图1示例中，基板本体101的上表面为玻璃面S10，基板本体101的下表面为蒸镀面S11，并且，基板的下表面被粗化处理处理成粗糙面。

参照图5所示，在蒸镀制程中，将待镀玻璃基板置于掩膜基板10的上方，并其紧贴在掩膜基板10的玻璃面S10上，同时，将蒸发源30置于掩膜基板10的下方的一定距离处。蒸发源30内的有机材料蒸发后向上扩散，其中，部分有机材料通过蒸镀孔1011后被镀在了待镀玻璃基板上，而另一部分有机材料聚集在了掩膜基板10的蒸镀面S11上，由于蒸镀面S11为粗糙面，所以，有机材料与粗糙面之间具有较强的结合力，不容易从粗糙面上掉落至下方的蒸发源30中。

根据本发明实施例提供的掩膜基板10，蒸镀面S11被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面，如此，一方面，有机材料能够挂在该粗糙面上，不易掉落至下方的蒸发源30中，可以确保蒸发源30的洁净度，减少有机材料的浪费，降低成材料成本。另一方面，可以提高掩膜板单次使用时间，进而提高生产效率。再一方面，掩膜板单次使用时间越长，则可以减少掩膜板清洗的频率，进而延长掩膜板的使用寿命，进一步降低生产成本。

值得注意的是，在掩膜板的加工制造领域，掩膜板的精度直接决定了产品(发光单元)良率，而且，对于显示设备而言，其分辨率的要求越来越高，对应的，对于掩膜板的精度提出了极其严苛的要求。在此背景下，在掩膜板的加工过程中，本领域技术人员通常认为掩膜板的表面需要是足够光滑和平整的，所以，加工成型的掩膜版的各个表面均是光滑、平整的，以此满足精度要求。

而在本申请中，将蒸镀面S11构造成粗糙面，一方面，由于蒸镀面S11既不与待镀玻璃基板接触，也不蒸镀孔1011的尺寸精度产生影响，所以，不会影响产品良率。另一方面，粗糙面有利提高其与有机材料之间的结合力，进而使得有机材料不容易从粗糙面上掉落至下方的蒸发源30中。

需要说明的是，掩膜基板10可以矩形、圆形、多边形或其他规则或不规则形状，在此不作为本申请的限制。

在本发明的一个实施例中，粗糙面为经喷砂工艺处理形成的喷砂表面。也即是，利用喷砂设备提供一定压力的压缩空气带动砂粒(例如金刚砂)，通过喷嘴高速喷射于掩膜基板10的蒸镀面S11，依靠砂粒的棱角的冲击和摩擦，使掩膜基板10的蒸镀面S11获得有预定粗糙度。

在本发明的另一个实施例中，粗糙面为经蚀刻工艺处理形成的蚀刻表面，也即是，利用蚀刻液对掩模基板的蒸镀面S11进行蚀刻，使得蚀刻后的掩膜基板10的蒸镀面S11获得预定粗糙度。

需要说明的是，通过粗化处理后的粗糙面上可以形成为阵列布置的颗粒结构，例如微米级颗粒。或者，通过粗化处理后的粗糙面上可以形成为沿预定方向(掩膜基板10的长度方向或宽度方向等)延伸的锯齿结构，例如锯齿的宽度及高度尺寸为微米级，如此，形成粗糙面与有机材料之间具有更好的结合力。

在本发明的一个实施例中，玻璃面S10为光滑面，由于在蒸镀制程中玻璃面S10与待镀玻璃基板贴合，所以，玻璃面S10为光滑面，则可以确保待镀基板与玻璃面S10贴合更加紧密，确保有机材料通过蒸镀孔1011后在待镀玻璃基板上形成与蒸镀孔1011的形状一致的发光单元，防止玻璃面S10与待镀玻璃基板贴合不紧密时，有机材料进入至玻璃面S10与待镀玻璃基板之间的缝隙中，从使得待镀玻璃基板上形成的发光单元与蒸镀孔1011的形状不一致，进而造成产品不良等问题。

继续参照图1至图3所述，在本发明的一个实施例中，蒸镀面S11包括有效蒸镀区S111及位于所述有效蒸镀区S111外侧且用于连接掩膜板框20的空置区S112，所述有效蒸镀区S111形成为所述粗糙面，所述空置区S112形成为光滑面。

由于空置区S112是用于与掩膜板框20连接的，一般掩膜基板10与掩膜板框20之间通过激光焊接工艺焊接在一起，所以，将空置区S112形成为光滑面，则可以确保掩膜基板10与掩膜板框20贴合紧密，并且在两者通过焊接后，可以确保掩膜基板10的平面度满足更高的要求，进而提高掩膜板的精度要求。

参照图4至图5所示，根据本发明实施例的掩膜板，包括掩膜板框20及如上述实施例所述的掩膜基板10，所述掩膜基板10设在所述掩膜板框20上。

根据本发明实施例提供的掩膜板，具有上述掩膜基板10，蒸镀面S11被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面，如此，一方面，有机材料能够挂在该粗糙面上，不易掉落至下方的蒸发源30中，可以确保蒸发源30的洁净度，减少有机材料的浪费，降低成材料成本。另一方面，可以提高掩膜板单次使用时间，进而提高生产效率。再一方面，掩膜板单次使用时间越长，则可以减少掩膜板清洗的频率，进而延长掩膜板的使用寿命，进一步降低生产成本。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种掩膜基板，其特征在于，包括：

基板本体，所述基板本体具有蒸镀面、与所述蒸镀面相背的玻璃面及自所述蒸镀面贯穿至所述玻璃面的多个蒸镀孔；

所述蒸镀面被构造成经粗化处理后具有预定粗糙度的粗糙面。

2.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述粗糙面为经喷砂工艺处理形成的喷砂表面。

3.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述粗糙面为经蚀刻工艺处理形成的蚀刻表面。

4.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述玻璃面为光滑面。

5.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述粗糙面上形成阵列布置的颗粒结构。

6.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述粗糙面上形成沿预定方向延伸的锯齿结构。

7.根据权利要求1所述的掩膜基板，其特征在于，所述蒸镀面包括有效蒸镀区及位于所述有效蒸镀区外侧且用于连接掩膜板框的空置区，所述有效蒸镀区形成为所述粗糙面，所述空置区形成为光滑面。

8.一种掩膜板，其特征在于，包括：

掩膜板框；

如权利要求1至7中任一项所述的掩膜基板，所述掩膜基板设在所述掩膜板框上。