CN109817552A - 湿法刻蚀槽 - Google Patents
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Abstract
一种湿法刻蚀槽，包括具有多个侧壁的腔体，倾斜设置于所述腔体顶部的盖板、以及间隔设置于所述盖板靠近所述腔体的一侧的多个导流板，所述导流板包括上端部和下端部，所述盖板靠近所述腔体的一侧表面设置有纳米疏水涂层，所述导流板相对于所述盖板倾斜设置，所述上端部高于所述下端部，且所述下端部靠近所述腔体的一侧壁。通过在盖板的内表面涂布疏水涂层，以及在盖板上设置导流板，能够使得盖板上的药液轻易滑动至导流板上，从而将药液引流至侧壁流下，进而避免盖板上的药液滴落在基板上，提高基板生产的良率。
Description
技术领域
本发明涉及湿法刻蚀设备领域，尤其涉及一种湿法刻蚀槽。
背景技术
在对基板进行刻蚀的过程中，由于湿刻机台的药液腔内部的温度较高和喷淋量较大，药液蒸汽会在盖板上聚集成液滴，当液滴聚集到一定量后，由于自身的重力，会滴落在正常刻蚀的基板表面，导致基板刻蚀不均，进而导致基板良率下降。
发明内容
本发明提供一种湿法刻蚀槽，以解决现有的湿法刻蚀槽，由于药液蒸汽易在盖板上凝结并滴下，造成基板刻蚀不均，导致基板良率下降的问题。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种湿法刻蚀槽，包括具有多个侧壁的腔体、倾斜设置于所述腔体上方的盖板、以及间隔设置于所述盖板靠近所述腔体一侧的多个导流板；所述导流板包括上端部和下端部，所述导流板相对于所述盖板倾斜设置，所述上端部高于所述下端部，且所述下端部靠近所述腔体的一侧壁。
在本发明的一实施例中，所述盖板靠近所述腔体的一侧表面设置有纳米疏水涂层。
在本发明的一实施例中，所述导流板与所述盖板之间的夹角为30～60度。
在本发明的一实施例中，多个所述导流板在所述盖板上的正投影的形状为斜纹状。
在本发明的一实施例中，所述盖板为矩形，所述导流板的上端部和下端部分别靠近所述腔体的相邻的两个侧壁或相对的两个侧壁。
在本发明的一实施例中，所述盖板为拱形，所述导流板的上端部靠近所述盖板的中部，下端部靠近所述腔体的一侧壁。
在本发明的一实施例中，所述导流板还包括相对设置的第一边侧和第二边侧。
在本发明的一实施例中，所述上端部和所述下端部均位于所述第一边侧和所述第二边侧之间。
在本发明的一实施例中，所述第一边侧连接所述盖板靠近所述腔体的一侧表面。
在本发明的一实施例中，相邻的两所述导流板的第一边侧之间的垂直距离为20～40厘米。
在本发明的一实施例中，所述第二边侧向上弯折。
在本发明的一实施例中，所述盖板与水平面之间的平面角为10～30度。
本发明的有益效果为：通过在盖板的内表面涂布疏水涂层，以及在盖板上设置导流板，能够使得盖板上的药液轻易滑动至导流板上，从而将药液引流至侧壁流下，进而避免盖板上的药液滴落在基板上，提高基板生产的良率。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例一的湿法刻蚀槽的结构示意图；
图2为本发明实施例一的盖板的俯视图；
图3为本发明实施例一的导流板的结构示意图；
图4为本发明实施例一的湿法刻蚀槽的正视图；
图5为本发明实施例二的湿法刻蚀槽的结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有的湿法刻蚀槽，由于药液蒸汽易在盖板上凝结并滴下，造成基板刻蚀不均，进而导致基板良率下降，本实施例能够解决该缺陷。
实施例一
如图1所示，本实施例提供一种湿法刻蚀槽100，包括腔体10、盖板20、以及多个导流板30。
所述盖板20倾斜设置于所述腔体10的上方，用于盖合所述腔体10，所述盖板20与水平面所成的夹角为10～30度。
所述腔体10包括多个侧壁11，多个所述侧壁11与所述盖板20形成闭合结构。
所述盖板20为矩形，对应地，所述腔体10包括四个侧壁11，在其他实施例中，所述盖板20可为边数大于四的多边形。
多个所述导流板30间隔设置于所述盖板20靠近所述腔体10的一侧(盖板20的内侧)，所述导流板30相对于所述盖板20倾斜设置，所述导流板30与所述盖板20形成的夹角为30～60度，本实施例中该夹角为30度。
所述导流板30包括上端部31和下端部32，所述上端部31高于所述下端部32，所述上端部31和所述下端部32分别为所述导流板在长度方向上的两个延伸端。
所述上端部31和所述下端部32分别靠近所述腔体的两个侧壁11,如图1中的虚线箭头所示，所述盖板20上凝聚的刻蚀药液由于自身重力作用，沿着倾斜的盖板20滑动，聚集在所述导流板30上，再沿着倾斜的导流板30滑动至所述导流板30的下端部32，最后沿着所述腔体10的侧壁11流下，从而避免盖板20上凝聚的药液直接滴落在下方的基板上，导致基板刻蚀不均，进而提升基板的生产良率。
为了使得所述盖板20上的药液易于滑动，所述盖板20靠近所述腔体的一侧表面设置有纳米疏水涂层。
所述纳米疏水涂层在微观上由多个纳米颗粒组成，相邻的纳米颗粒之间形成极细小的气孔，该气孔远小于药液分子，气孔表面产生气垫效应，从而承托药液分子，达到斥药液的效果。同时，由于纳米颗粒之间的不平整，导致药液在所述纳米疏水膜层表面的接触角变大，进而使得药液轻易的滑动。
所述纳米疏水涂层选用氟烯烃-乙烯醚共聚物等氟碳涂料制备，所述纳米疏水涂层具有优良的抗酸碱腐蚀性能和防水汽性能，在促进药液轻易滑动的同时，也能保护所述盖板20免受刻蚀药液的腐蚀。
所述导流板30还包括相对设置的第一边侧33和第二边侧34，所述上端部31和所述下端部32均位于所述第一边侧33和所述第二边侧34之间。
所述第一边侧33设置于所述盖板20上，具体地所述第一边侧33连接所述盖板20靠近所述腔体10的一侧表面，所述第二边侧34悬空在所述腔体10内，多个所述导流板30将所述盖板20划分为多个筹，每个筹对应一个所述导流板30，每个筹上的刻蚀药液滑动到对应的所述导流板30上。
如图1所示，部分所述导流板30的上端部31和下端部32分别靠近所述腔体10相邻的两个侧壁11，其他部分的所述导流板30的上端部31和下端部32分别靠近所述腔体10相对的两个侧壁11。所述导流板30的两个端部也可与所述腔体10的两个侧壁11直接接触连接。
多个所述导流板30等间距平行分布，相邻的所述导流板30的第一边侧33之间的垂直距离为20～40厘米，在其他实施例中，所述导流板30可以不等间距分布。
所述导流板30与所述盖板20形成的开口方向为斜向上方向，便于所述导流板30承接所述盖板20上滑下的药液。
如图2所示，多个所述导流板30在所述盖板20上的正投影的形状为斜纹状，所述导流板30的长度贯穿整个盖板20的内表面，所述导流板30为长条状，在其他实施例中，所述导流板30也可为波浪状或锯齿状，这里不做限制。
如图3所示，进一步地，所述第二边侧34向上弯起一定的弧度，起到限位的作用，阻挡所述导流板30上的药液从第二边侧34滑落。
如图4所示，所述侧壁11的靠近所述盖板20的部分开设有排气口，所述排气口连接有排气管，所述排气管40用以将所述腔体10内的药液蒸汽排出，避免药液蒸汽在所述盖板20上形成液滴。
实施例二
如图5所示，所述盖板20为拱形结构，所述导流板30的上端部31靠近所述盖板20的中部，其下端部32靠近所述腔体10的侧壁11，所述上端部31高于所述下端部32。
所述盖板20为对称结构，所述盖板20的对称轴为图5中的虚线L，所述虚线L为所述盖板20上的最高点所在的位置，所述盖板20自所述虚线L沿两侧的高度逐渐下降，多个所述导流板30划分为两组导流板30,该两组导流板30分别位于所述虚线L的左右两侧，两组所述导流板30与所述盖板20所成的夹角的开口相对。
每组内的所述导流板30自靠近所述虚线L处向两侧斜向下延伸，所述导流板的上端部靠近所述虚线L。
所述导流板30的具体结构可参考实施例一，这里不再赘述。
在其他实施例中，所述盖板还可为人字形结构，具体可参考实施例二设计；所述盖板还可为四分之一圆弧结构，倾斜设置于所述腔体的上方，具体可参照实施例一设计，这里不再赘述。
有益效果：通过在盖板的内表面涂布疏水涂层，以及在盖板上设置导流板，能够使得盖板上的药液轻易滑动至导流板上，从而将药液引流至侧壁流下，进而避免盖板上的药液滴落在基板上，提高基板生产的良率。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种湿法刻蚀槽，其特征在于，包括：
腔体，所述腔体包括多个侧壁；
盖板，所述盖板倾斜设置于所述腔体顶部；以及
多个导流板，间隔设置于所述盖板靠近所述腔体的一侧，所述导流板包括上端部和下端部；其中，所述导流板相对于所述盖板倾斜设置，所述上端部高于所述下端部，且所述下端部靠近所述腔体的一侧壁。
2.根据权利要求1所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述盖板靠近所述腔体的一侧表面设置有纳米疏水涂层。
3.根据权利要求1所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述导流板与所述盖板之间的夹角为30～60度。
4.根据权利要求1所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，多个所述导流板在所述盖板上的正投影的形状为斜纹状。
5.根据权利要求4所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述盖板为矩形，所述导流板的上端部和下端部分别靠近所述腔体的相邻的两个侧壁或相对的两个侧壁。
6.根据权利要求4所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述盖板为拱形，所述导流板的上端部靠近所述盖板的中部，下端部靠近所述腔体的一侧壁。
7.根据权利要求1所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述导流板还包括相对设置的第一边侧和第二边侧，所述上端部和所述下端部分别位于所述第一边侧和所述第二边侧之间。
8.根据权利要求7所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述第一边侧连接所述盖板靠近所述腔体的一侧表面，相邻的两所述导流板的第一边侧之间的垂直距离为20～40厘米。
9.根据权利要求7所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述第二边侧向上弯折。
10.根据权利要求1所述的湿法刻蚀槽，其特征在于，所述盖板与水平面之间的夹角为10～30度。
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