CN109734328A - 一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于低辐射镀膜中空玻璃技术领域，具体涉及一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法；其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。本发明制备的低辐射镀膜中空玻璃，采用四层镀膜的方式进行镀膜，其能够横的较低辐射的同时，通过加入有机层，其能够有效的吸收光线中的紫外线，同时本发明通过使用纳米玻璃进行表面镀膜，其能够有效的促使制备的玻璃强度更高，耐磨性能更好，以及不生菌和耐脏等特点，此外该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落、不氧化等特点，可单片、夹层或合中空使用。
Description
技术领域
本发明属于低辐射镀膜中空玻璃技术领域，具体涉及一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法。
背景技术
目前市场售卖的低辐射玻璃产品，大多都是在其表面镀膜一层Ag来达到低辐射的效果，而加入Ag膜的产品是非常容易被氧化，难以直接暴露在户外使用，此外其影响了透光率，而在线Low-E辐射率相对较高。此外，现如今的镀膜玻璃相对其硬度相对较低，以及不耐脏等问题。
中国专利CN103753895A公开了一种低辐射镀膜中空玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层自内向外依次包括：第一层SiO2，第二层LaB6-AZO，第三层SiO2。第二层LaB6-AZO厚度是为400-500nm。还公开了这种镀膜玻璃的制备方法，但本方法制备的镀膜玻璃对防止紫外线以及强度和光滑度相对较低。
中国专利CN103420629A公开了一种中空低辐射率镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：a)首先在玻璃基片上进行镀膜；b)接着准备好棉布和清水，把棉布蘸上清水后抹涂玻璃上的除膜部位，湿润后用手动除膜机进行除膜操作；c)然后把除膜后的玻璃经过清洗、上框和合片工序，制成中空玻璃；d)最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。本发明提供的中空低辐射率镀膜玻璃的制备方法，减少了在手动除膜中产生的高温，避免膜层材料中的粘结物质焦化并粘结在除膜部位，能够改善中空玻璃密封胶与低透射率镀膜玻璃粘结的强度，提高粘结牢固度，并且能够有效隔离空气中硫化物，确保膜层不被氧化，但是本方法制备的镀膜玻璃对防止紫外线以及强度和光滑度相对较低。
发明内容
为了达到背景技术中的目的，本发明提出的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法；
本发明通过如下的技术方案实现的
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为包括以下步骤：
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
进一步，所述的复合型紫外光吸收剂为，将30-50份有机玻璃、2-5份的光稳定剂、1-2份的光催化剂、1-2份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
进一步，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是1～2wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
进一步，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
进一步，所述的光稳定剂为，UV-531、UV-234、UV-326、UV-328等物质中的一种或几种。
进一步，所述的光催化剂为，颗粒大小为10-200纳米的二氧化钛粉末。
进一步，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入1200-2000sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
有益效益
本发明制备的低辐射镀膜中空玻璃，采用四层镀膜的方式进行镀膜，其能够横的较低辐射的同时，通过加入有机层，其能够有效的吸收光线中的紫外线，同时本发明通过使用纳米玻璃进行表面镀膜，其能够有效的促使制备的玻璃强度更高，耐磨性能更好，以及不生菌和耐脏等特点，此外该玻璃具有良好的外观颜色，膜层不易脱落、不氧化等特点，可单片、夹层或合中空使用。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和有益效果更加清楚，下面将结合实验数据，对本发明的优选实施例进行详细的说明，以方便技术人员理解。
实施例1
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为包括以下步骤：
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
进一步，所述的复合型紫外光吸收剂为，将50份有机玻璃、4份的光稳定剂、1份的光催化剂、2份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
进一步，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是2wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
进一步，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
进一步，所述的光稳定剂为，UV-328。
进一步，所述的光催化剂为，颗粒大小为10纳米的二氧化钛粉末。
进一步，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入2000sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
实施例2
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为包括以下步骤：
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
进一步，所述的复合型紫外光吸收剂为，将40份有机玻璃、3份的光稳定剂、1份的光催化剂、2份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
进一步，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是1.5wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
进一步，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
进一步，所述的光稳定剂为，UV-326。
进一步，所述的光催化剂为，颗粒大小为60纳米的二氧化钛粉末。
进一步，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入1500sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
实施例3
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为包括以下步骤：
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
进一步，所述的复合型紫外光吸收剂为，将50份有机玻璃、5份的光稳定剂、2份的光催化剂、1份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
进一步，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是1wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
进一步，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
进一步，所述的光稳定剂为，UV-234。
进一步，所述的光催化剂为，颗粒大小为80纳米的二氧化钛粉末。
进一步，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入1300sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
实施例4
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为包括以下步骤：
一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
进一步，所述的复合型紫外光吸收剂为，将50份有机玻璃、2份的光稳定剂、2份的光催化剂、1份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
进一步，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是2wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
进一步，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
进一步，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
进一步，所述的光稳定剂为，UV-531。
进一步，所述的光催化剂为，颗粒大小为100纳米的二氧化钛粉末。
进一步，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入1200sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
实验分析：
1、硬度测试
将实施例1-4制备的低辐射镀膜中空玻璃进行和普通镀膜玻璃进行硬度测试，其测试结果如下：
由上表我们可以发现该发明制备的低辐射镀膜中空玻璃，其硬度较高，比普通玻璃高一个等级。
2.透光率测试
将实施例1-4制备的低辐射镀膜中空玻璃进行和普通镀膜玻璃进行透光率测试，其测试结果如下：
由上表我们可以发现该发明制备的低辐射镀膜中空玻璃，其透光率较高，比普通玻璃高2%左右，是非常优秀的好材料。最后说明的是，以上优选实施例仅用于说明本发明的技术方案而非限制，尽管通过上述优选实施例已经对本发明进行了详细的描述，但本领域技术人员应当理解，可以在形式上和细节上对其作出各种各样的改变，而不偏离本发明权利要求书所限定的。
Claims (9)
1.一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，其组成包括玻璃基片、有机层、镀膜层，有机层为复合型紫外吸收剂，镀膜层自内向外依次包括：第一层氮化硅，第二层氟参杂氧化锆，第三层纳米液体玻璃。
2.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的复合型紫外光吸收剂为，将30-50份有机玻璃、2-5份的光稳定剂、1-2份的光催化剂、1-2份的硬脂酸加入混料机中进行混合，混合均匀后，将物料加入双螺杆挤出机中进行造粒挤出，得到的物质就是紫外光吸收。
3.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的氮化硅层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氮化硅物质，其厚度控制在15-30纳米。
4.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射氟参杂氧化锆物质，其中氟的掺入量是1～2wt%，其溅射厚度控制在20-30纳米。
5.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的氟参杂氧化锆层为，采用真空磁控溅射法直接溅射纳米液体玻璃物质，其溅射厚度控制在120-200纳米。
6.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的有机层为，采用真空磁控溅射法直接溅射复合型紫外光吸收剂物质，其厚度控制在30-60纳米。
7.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的光稳定剂为，UV-531、UV-234、UV-326、UV-328等物质中的一种或几种。
8.根据权利要求1所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的光催化剂为，颗粒大小为10-200纳米的二氧化钛粉末。
9.根据权利要求5所述一种低辐射镀膜中空玻璃的制备方法，其特征在于，所述的低辐射镀膜中空玻璃的制备方法为：将玻璃基片进行清洁处理，除去灰尘和杂质后，将其放入真空腔室内，然后进行抽真空，当真空腔内达到真空度后，充入1200-2000sccm的高纯氖气到溅射硅靶中，进行靶表面的清洁，5-10min后，进行内层有机层的制备，达到所需厚度后关闭该靶，再用纯氖进行靶表清洁后依次进行氮化硅层、氟参杂氧化锆层、纳米液体玻璃层的制备，制备完成后，然后把除膜后的玻璃经过清洗干净后，进行上框和合片工序，制成中空玻璃，最后用玻璃密封胶对中空玻璃进行打胶。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112830684A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-05-25 | 南通大通装饰工程有限公司 | 一种节能建筑用高强度低辐射镀膜中空玻璃及其制备方法 |
| CN114909067A (zh) * | 2022-05-05 | 2022-08-16 | 苏州华建玻璃有限公司 | 一种高性能的中空玻璃及制备方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070254164A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Guardian Industries Corp. | Photocatalytic window and method of making same |
| CN103391904A (zh) * | 2011-02-15 | 2013-11-13 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 用于制造装饰玻璃片材的方法 |
| CN103499910A (zh) * | 2013-09-23 | 2014-01-08 | 天津华宁电子有限公司 | 一种矿用投影仪免清洗显示幕布及其安装方法 |
| CN104995148A (zh) * | 2013-02-25 | 2015-10-21 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有减弱红外线的涂层的玻璃装置 |
| CN106318159A (zh) * | 2016-08-22 | 2017-01-11 | 东莞莱姆森科技建材有限公司 | 一种耐刮擦镜及其制备方法 |
| CN106746731A (zh) * | 2017-01-19 | 2017-05-31 | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 | 一种可钢化高反射镀膜玻璃 |
| WO2018123705A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過フィルタ |
-
2018
- 2018-11-30 CN CN201811449683.3A patent/CN109734328A/zh active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070254164A1 (en) * | 2006-04-27 | 2007-11-01 | Guardian Industries Corp. | Photocatalytic window and method of making same |
| CN103391904A (zh) * | 2011-02-15 | 2013-11-13 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 用于制造装饰玻璃片材的方法 |
| CN104995148A (zh) * | 2013-02-25 | 2015-10-21 | 法国圣戈班玻璃厂 | 具有减弱红外线的涂层的玻璃装置 |
| CN103499910A (zh) * | 2013-09-23 | 2014-01-08 | 天津华宁电子有限公司 | 一种矿用投影仪免清洗显示幕布及其安装方法 |
| CN106318159A (zh) * | 2016-08-22 | 2017-01-11 | 东莞莱姆森科技建材有限公司 | 一种耐刮擦镜及其制备方法 |
| WO2018123705A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 旭硝子株式会社 | 紫外線透過フィルタ |
| CN106746731A (zh) * | 2017-01-19 | 2017-05-31 | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 | 一种可钢化高反射镀膜玻璃 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112830684A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-05-25 | 南通大通装饰工程有限公司 | 一种节能建筑用高强度低辐射镀膜中空玻璃及其制备方法 |
| CN114909067A (zh) * | 2022-05-05 | 2022-08-16 | 苏州华建玻璃有限公司 | 一种高性能的中空玻璃及制备方法 |
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