CN109727525A - 异形显示屏及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种异形显示屏及显示装置，所述异形显示屏具有轮廓线以界定有效显示区的范围；所述有效显示区包括邻近所述轮廓线的边缘显示区和远离轮廓线的主显示区；所述异形显示屏包括：像素限定层，设有开口以便设置子像素；子像素，设置于所述像素限定层的开口；其中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口；分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口的亚子像素。所述异形显示屏和显示装置可以减小边缘显示区的发光亮度，减轻边缘显示区的锯齿感或颗粒感。

Description

异形显示屏及显示装置

技术领域

本发明涉及显示领域，特别涉及异形显示屏及显示装置。

背景技术

传统技术中，显示屏包括至少由绿色子像素、蓝色子像素、红色子像素构成的像素单元。若干个像素单元构成像素阵列用以展现画面。随着显示屏多元化应用的发展，显示屏的外形需要根据具体应用场合适应性调整。也就是说，需要设计出不同于常规的方形板状的“异形屏”，例如球形屏、多面体屏等。

在实现传统技术的过程中，发明人发现存在以下技术问题：

像素单元具有一定的空间尺寸。或者说，像素单元在微观结构上可以看作是具有一定径向尺寸的点或颗粒。而异形显示屏的轮廓线为平面光滑曲线或空间光滑曲线。沿异形显示屏的轮廓线分布的像素单元，在微观尺度观察时，呈现明显的锯齿感或颗粒感。

发明内容

基于此，有必要针对上述异形显示屏的轮廓线分布的像素单元在微观尺度观察时，呈现明显的锯齿感的技术问题，提供一种解决方案。

一种异形显示屏，所述异形显示屏具有轮廓线以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线的边缘显示区和远离轮廓线的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口；

分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口的亚子像素。

在其中一个实施例中，所述轮廓线限定的所述有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线的法向距离小于预设第一距离阈值。

在其中一个实施例中，所述轮廓线限定的所述有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线相交。

在其中一个实施例中，所述边缘显示区的亚子像素分布于所述轮廓线限定的有效显示区范围之内。

在其中一个实施例中，分布于所述主显示区的像素限定层的开口包括若干子开口；

分布于所述主显示区的子像素包括对应所述子开口的亚子像素。

在其中一个实施例中，一种异形显示屏，所述异形显示屏具有轮廓线以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线的边缘显示区和远离轮廓线的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素开口率低于分布于所述主显示区的像素开口率。

在其中一个实施例中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口尺寸。

在其中一个实施例中，所述像素限定层覆盖子像素电极；

分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸，小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸。

在其中一个实施例中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的尺寸，随着与轮廓线的法向距离的增大而逐渐增大。

在其中一个实施例中，一种集成异形显示屏的显示装置，其特征在于，包括：

前述任一项所述的异形显示屏；

电源模块，用于为所述异形显示屏供电；

存储模块，用于存储媒体信息；

处理模块，与所述异形显示屏、电源模块和存储模块电性连接，用以控制所述电源模块的电能供给，并且将媒体信息显示于所述异形显示屏。

本申请至少具有以下有益效果：

将分布于轮廓线附近的大尺寸的开口，分割为若干子开口，使得轮廓线限定的有效显示区范围之外的子像素不发光或部分发光，从而，可以减小边缘显示区的发光亮度，并能使子像素最大程度的拟合轮廓线，减轻边缘显示区的锯齿感或颗粒感。

另外，将分布于轮廓线附近的像素限定层的开口设置为小于其他有效显示区的像素限定层的开口，从而，可以减小边缘显示区的发光亮度，减轻边缘显示区的锯齿感或颗粒感。

附图说明

图1为本申请实施例提供的异形显示屏的层状结构示意图。

图2为本申请实施例提供的一种异形显示屏局部微观结构示意图。

图3为本申请实施例提供的另一种异形显示屏局部微观结构示意图。

图4为本申请实施例提供的再一种异形显示屏局部微观结构示意图。

其中：

基板 11

缓冲层 12

半导体层 21

栅电极 22

源电极 23

漏电极 24

栅极绝缘层 25

层间绝缘层 26

保护层 27

平坦化层 28

第一子像素电极 31

第二子像素电极 32

第三子像素电极 33

像素限定层 41

发光层 51

对电极 61

轮廓线 101

子开口 102

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请具体实施例及相应的附图对本申请技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

一种制造有机发光显示装置的方法，可以包括以下步骤：

请参照图1，首先，准备基板11。基板11具有第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域。一组第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域可以构成一个像素区域。基板11可以具有多个像素区域。在一个实施例中，第一子像素区域可以是发射红光的子像素区域。第二子像素区域可以是发射绿光的子像素区域。第三子像素区域可以是发射蓝光的子像素区域。

基板11可以由诸如玻璃材料、金属材料或包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚酰亚胺等的塑胶材料中合适的材料形成。薄膜晶体管(Thin-film transistor，TFT)可以设置在基板11上。在一个实施例中，在形成TFT之前，可以在基板11上形成诸如缓冲层12的另外的层。缓冲层12可以形成在基板11的整个表面上，也可以通过被图案化来形成。

缓冲层12可以具有包括PET、PEN、聚丙烯酸酯和/或聚酰亚胺等材料中合适的材料，以单层或多层堆叠的形式形成层状结构。缓冲层12还可以由氧化硅或氮化硅形成，或者可以包括有机材料和/或无机材料的复合层。

TFT可以控制每个子像素的发射，或者可以控制每个子像素发射光时发射的量。TFT可以包括半导体层21、栅电极22、源电极23和漏电极24。

半导体层21可以由非晶硅层、金属氧化物或多晶硅层形成，或者可以由有机半导体材料形成。在一个实施例中，半导体层21包括沟道区和掺杂有掺杂剂的源区与漏区。

可以利用栅极绝缘层25覆盖半导体层21。栅电极22可以设置在栅极绝缘层25上。大体上，栅极绝缘层25可以覆盖基板11的整个表面。在一个实施例中，可以通过图案化来形成栅极绝缘层25。考虑到与相邻层的粘合、堆叠目标层的可成形性和表面平整性，栅极绝缘层25可以由氧化硅、氮化硅或其他绝缘有机或无机材料形成。栅电极22可以被由氧化硅、氮化硅和/或其他合适的绝缘有机或无机材料形成的层间绝缘层26覆盖。可以去除栅极绝缘层25和层间绝缘层26的一部分，在去除之后形成接触孔以暴露半导体层21的预定区域。源电极23和漏电极24可以经由接触孔接触半导体层21。考虑到导电性，源电极23和漏电极24可以由包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和铜(Cu)或其他合适的合金中的至少一种材料的单一材料层或复合材料层形成。

由氧化硅、氮化硅和/或其他合适的绝缘有机或无机材料形成的保护层27可以覆盖TFT。保护层27覆盖基板11的全部或局部部分。由于具有复杂的层结构的TFT设置在保护层27下方。因此保护层27的顶表面可能不是足够平坦。因此有必要在保护层27上形成平坦化层28，以便形成足够平坦的顶表面。

在形成平坦化层28后，可以在保护层27和平坦化层28中形成通孔，以暴露TFT的源电极23和漏电极24。

然后，在平坦化层28上形成第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33。第一子像素电极31形成在第一像素区域。第二子像素电极32形成在第二子像素区域。第三子像素电极33形成在第三子像素区域。这里，第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33可以同时地或同步地形成。第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33中的每一个可以经过通孔电连接到TFT。这里的第一子像素电极31、第二子像素电极32、第三子像素电极33通常被称为阳极。

第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33中的每个可以形成透明电极(透反射式)或反射电极。当第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33形成透明电极(透反射式)电极时，可以由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)、氧化铟镓(IGO)或氧化铝锌(AZO)形成。

当第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33形成反射电极时，可由银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)由或这些材料中的任何材料混合形成的反射层和由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)形成的层。这里，第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33的结构和材料不限于此，并且可以变化。

在形成第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33之后，如图1所示，可以形成像素限定层41(PDL)。形成的PDL同时覆盖第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33。PDL可以通过具有对应每个子像素的开口(即暴露每个子像素的中心部分开口)来用于限定子像素。PDL可以由诸如聚丙烯酸酯和聚酰亚胺等材料中合适的有机材料或包括合适的无机材料的单一材料层或复合材料层形成。

PDL可以以下面的方式形成，即在基板11的整个表面上通过利用适于PDL的材料，形成用于PDL的层，以覆盖第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33。然后，将PDL层图案化，以暴露第一子像素电极31、第二子像素电极32和第三子像素电极33的中心部分。

可以蒸镀发光材料形成发光层51。蒸镀材料覆盖第一子像素电极31没有被PDL层覆盖的一部分，覆盖第二子像素电极32没有被PDL层覆盖的一部分，覆盖第三子像素电极33没有被PDL层覆盖的一部分，以及PDL层的顶表面。

可以使用精密金属掩模板蒸镀发射红光、绿光和蓝光的发光材料。

然后，蒸镀形成覆盖第一子像素区域、第二子像素区域和第三子像素区域的对电极61。对电极61可以相对多个子像素一体形成，从而覆盖整个显示区域。对电极61通常被称为阴极。

对电极61接触显示区域外侧的电极供电线，从而电极供电线可以接收电信号。对电极61可以形成透明电极或反射电极。当对电极61形成透明电极时，对电极61可以包括通过沿朝着发光层方向沉积Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Mg或这些材料中的任何材料的混合材料而形成的层以及由包括ITO、IZO、ZnO或In₂O₃的透明(透反射式)材料形成的辅助电极或汇流电极线。当对电极61形成为反射电极时，对电极61可以具有包括从Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag和Mg中选择一种或多种材料的层。然而，对电极61的构造和材料不限于此，因此亦可以改变。

请参照图2本申请提供一种的异形显示屏的局部结构。异形显示屏具有轮廓线101以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线101的边缘显示区和远离轮廓线101的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口102；

分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口102的亚子像素；

所述轮廓线101限定的有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线101的法向距离小于预设第一距离阈值。

异形显示屏具有轮廓线101以界定有效显示区的范围。有效显示区可以用于呈现一幅图片或动态显示画面。当有效显示区设置触控传感器的时候，还可以感应操作者的动作，并做出响应。在具体应用中，异形显示屏可以是电视的曲面屏，或者手机的曲面屏。

可以根据统计数据设定预设距离阈值，以确定一个像素单元是否位于边缘显示区。例如，根据统计数据发现，对于特定尺寸的像素单元，从轮廓线101向有效显示区范围内偏移3mm时，均会到达主显示区，则可以设定该3mm为预设距离阈值。当然，这里的预设距离阈值取3mm仅是一种举例，具体的预设距离阈值的取值范围与轮廓线101的曲率和像素单元的尺寸有关。

由前述有机发光显示装置的制造过程可知，异形显示屏包括像素限定层和子像素。像素限定层的开口，可以用于沉积发光材料形成子像素。阵列化的子像素构成发光层。

可以根据经验设定预设第一距离阈值，例如，根据统计数据发现，对于特定尺寸的子开口102和亚子像素，从轮廓线101向有效显示区范围外偏移3mm时，均会布置一个完整的子开口102和对应的亚子像素，则可以设定该3mm为预设第一距离阈值。当然，这里的预设第一距离阈值取3mm仅是一种举例，具体的预设第一距离阈值的取值范围与轮廓线101的曲率和亚子像素的尺寸有关。在本申请提供的一种实施例中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口102。分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口102的亚子像素。轮廓线101限定的有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线101的法向距离小于预设第一距离阈值。或者说，在轮廓线101限定的有效显示区范围之外不会布置完整的子开口102或与子开口102对应的亚子像素。也就是说，允许存在与轮廓线101相交的完整的子开口102和与子开口102对应的亚子像素。应当指出的是，这里完整的子开口102是指，布置于轮廓线101上的子开口102的尺寸与邻近子开口102的尺寸相一致。可以理解的是，这里的相一致是指，同一类子像素的子开口102的尺寸相一致。而不同种类的子像素的子开口102允许不一致。例如，第一子像素的子开口102与第二子像素的子开口102的尺寸可以不一致。在本申请提供的实施例中，由于子开口102相较于开口的尺寸小，轮廓线101限定的有效显示区范围之外不再设置完整的子开口102及与子开口102对应的亚子像素，从而可以将产生锯齿感或颗粒感的直径尺寸，从开口的尺寸降低到子开口102的尺寸，降低锯齿感和颗粒感。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述轮廓线101限定的有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线101相交。

也就是说，在轮廓线101限定的有效显示区范围之外仅允许与轮廓线101搭界的亚子像素存在。从而，可以最大程度的拟合轮廓线101，降低锯齿感和颗粒感。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，分布于所述主显示区的像素限定层的开口包括若干子开口102；

分布于所述主显示区的子像素包括对应所述子开口102的亚子像素。

在具体实施时，一种实施方式为主显示区的开口和与开口对应的子像素不做改动，这样可以降低改动成本。另一种实施方式为主显示区的开口与边缘显示区的开口采用同样处理，将开口分割为若干子开口102。这样可以形成对应子开口102的亚子像素。这样，可以在新制造精密金属掩模板时，保持同样的加工尺寸，降低精密金属掩模板的制造难度。

请参照图3，为本申请提供的一种的异形显示屏的局部结构。进一步的，在本申请提供的一种实施例中，一种异形显示屏，所述异形显示屏具有轮廓线101以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线101的边缘显示区和远离轮廓线101的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口102；

分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口102的亚子像素；

所述亚子像素分布于所述轮廓线101限定的有效显示区范围之内。

与前述实施例不同之处在于，轮廓线101限定的有效显示区范围之外不再设置子开口102或者子开口102的局部。从而，亚子像素仅分布于轮廓线101限定的有效显示区范围内。这样，与轮廓线101搭界的亚子像素为异形，其一条边与轮廓线重合。这样，亚子像素拟合轮廓线101分布更加精确，对锯齿感和颗粒感降低更加明显。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，分布于所述主显示区的像素限定层的开口包括若干子开口102；

分布于所述主显示区的子像素包括对应所述子开口102的亚子像素。

同样，在具体实施时，一种实施方式为主显示区的开口和与开口对应的子像素不做改动，这样可以降低改动成本。另一种实施方式为主显示区的开口与边缘显示区的开口采用同样处理，将开口分割为若干子开口102。这样可以形成对应子开口102的亚子像素。这样，可以在新制造精密金属掩模板时，保持同样的加工尺寸，降低精密金属掩模板的制造难度。

请参照图4，为本申请提供的一种的异形显示屏的局部结构。进一步的，在本申请提供的一种实施例中，一种异形显示屏，所述异形显示屏具有轮廓线101以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线101的边缘显示区和远离轮廓线101的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素开口率低于分布于所述主显示区的像素开口率。

本领域技术人员所述的开口率是指子像素的有效发光面积与像素全部面积的比例，所述像素是指构成影像的最小单元。由前述有机发光显示装置的制造过程可知，像素开口率越低，像素限定层的开口越小，子像素的有效发光面积越小，亮度越低。从而，边缘显示区的亮度降低时，锯齿感或颗粒感随之减弱。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口尺寸。

由前述有机发光显示装置的制造过程可知，像素限定层的开口尺寸越小，蒸镀的发光材料面积越小，开口率越低，从而，边缘显示区的亮度降低时，锯齿感或颗粒感随之减弱。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述像素限定层覆盖子像素电极；

分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸，小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸。

由前述有机发光显示装置的制造过程可知，像素限定层覆盖子像素电极。边缘显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸越小，子像素的发光面积越小，开口率越低，从而，边缘显示区的亮度降低时，锯齿感或颗粒感随之减弱。

进一步的，在本申请提供的一种实施例中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸，随着与轮廓线101的法向距离的增大而逐渐增大。

分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸，按照与轮廓线101的法向距离的增大而逐渐增大，换言之，距离主显示区中心越远，边缘显示区的开口率越小，边缘显示区的像素限定层的开口尺寸越小，从而，边缘显示区的亮度逐渐降低，而不是亮度突变，可以提高显示效果。

本申请的实施例提供一种显示装置，包括：前述异形显示屏；用于为显示屏供电的电源模块；用于存储媒体信息的存储模块；与显示屏、电源模块和存储模块电性连接，用以控制电源模块的电能供给，并且将媒体信息显示于异形显示屏的处理模块。

显示屏为输入输出设备，它可将电子信息通过传输设备以图像形式显示到屏幕上。显示屏可以为LCD、CRT、PDP、OLED等几种，显示的颜色越多则显示的图像越复杂，画面层次也更丰富。

电源模块是可直接贴装于印刷电路板上的电源供应站，为显示屏的驱动电路、信息存储模块、图像处理模块供电。

存储模块用于存储像素信息。像素信息包括像素的颜色、灰度、对比度等，编码器根据编码规则进行模数转换，将前述像素信息转换为二进制数码。存储模块存储二进制数码，有利于计算机进行分析处理。

处理模块与显示屏、电源模块和存储模块电连。处理模块控制电源模块对各其他模块的电能供给。电源模块供电后，处理模块接受存储于存储模块的图像数字信息，将图像数字信息进行数模转换，即将二进制数码转换为原始的图像信息，再送入显示屏显示。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种异形显示屏，其特征在于，所述异形显示屏具有轮廓线以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线的边缘显示区和远离轮廓线的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口包括若干子开口；

分布于所述边缘显示区的子像素包括对应所述子开口的亚子像素。

2.根据权利要求1所述的异形显示屏，其特征在于，所述轮廓线限定的所述有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线的法向距离小于预设第一距离阈值。

3.根据权利要求1所述的异形显示屏，其特征在于，所述轮廓线限定的所述有效显示区范围之外分布的亚子像素与轮廓线相交。

4.根据权利要求1所述的异形显示屏，其特征在于，所述边缘显示区的亚子像素分布于所述轮廓线限定的有效显示区范围之内。

5.根据权利要求1所述的异形显示屏，其特征在于，分布于所述主显示区的像素限定层的开口包括若干子开口；

分布于所述主显示区的子像素包括对应所述子开口的亚子像素。

6.一种异形显示屏，其特征在于，所述异形显示屏具有轮廓线以界定有效显示区的范围；

所述有效显示区包括邻近所述轮廓线的边缘显示区和远离轮廓线的主显示区；

所述异形显示屏包括：

像素限定层，设有开口以便设置子像素；

子像素，设置于所述像素限定层的开口；

其中，分布于所述边缘显示区的像素开口率低于分布于所述主显示区的像素开口率。

7.根据权利要求6所述的异形显示屏，其特征在于，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口尺寸。

8.根据权利要求6所述的异形显示屏，其特征在于，所述像素限定层覆盖子像素电极；

分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸，小于分布于所述主显示区的像素限定层的开口暴露的子像素电极的尺寸。

9.根据权利要求6所述的异形显示屏，其特征在于，分布于所述边缘显示区的像素限定层的开口尺寸，随着与轮廓线的法向距离的增大而逐渐增大。

10.一种集成异形显示屏的显示装置，其特征在于，包括：

权利要求1～9中任一项所述的异形显示屏；

电源模块，用于为所述异形显示屏供电；

存储模块，用于存储媒体信息；

处理模块，与所述异形显示屏、电源模块和存储模块电性连接，用以控制所述电源模块的电能供给，并且将媒体信息显示于所述异形显示屏。