CN109725765B - 具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法。公开了一种显示设备及其制造方法，其可避免第一触摸电极与第二触摸电极之间的短路。显示设备包括：发光器件层，其包括布置在第一基板上的第一电极、布置在第一电极上的发光层和布置在发光层上的第二电极；以及布置在发光器件层上的触摸感测层，其中，触摸感测层包括第一触摸电极层和第二触摸电极层以及布置在第一触摸电极层和第二触摸电极层之间的触摸绝缘膜，第一触摸电极层包括第一桥电极和第二图案化触摸电极，第二触摸电极层包括第一图案化触摸电极和第二桥电极，第一图案化触摸电极和第一桥电极的一个图案彼此连接以形成一个Tx电极，第二桥电极和第二图案化触摸电极彼此连接以形成一个Rx电极。

Description

具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法。
背景技术
随着信息时代的进步，对用于显示图像的显示设备的需求以各种形式增加。因此，已使用了诸如液晶显示器(LCD)设备、等离子体显示面板(PDP)设备和有机发光显示器(OLED)设备的各种显示设备。在显示设备当中，OLED设备具有低电压驱动、薄外形、优异视角和快速响应速度的优点。
OLED设备可包括：显示面板，其具有数据线、扫描线以及设置在数据线和扫描线的每一个交叉点处的多个像素；扫描驱动器，其用于将扫描信号供应给扫描线；以及数据驱动器，其用于将数据电压供应给数据线。各个像素可包括：有机发光器件；驱动晶体管，其用于根据栅极的电压来控制供应给有机发光器件的电流量；以及扫描晶体管，其用于响应于扫描线的扫描信号将数据线的数据电压供应给驱动晶体管的栅极。
最近，显示设备形成为具有集成的触摸屏的显示设备，其包括用于感测用户的触摸的触摸屏面板。在这种情况下，显示设备用作触摸屏设备。最近，触摸屏设备被广泛应用于诸如冰箱、微波炉和洗衣机的家用电器，以及用于导航的监视器、工业终端、笔记本计算机、银行自动化设备和游戏机以及诸如智能电话、平板、移动电话、MP3、PDA、PMP、PSP、移动游戏机、DMB接收器和平板PC的移动终端。另外，触摸屏设备由于其易于操作而被广泛使用。
在具有集成的触摸屏的显示设备中，第一触摸电极、第二触摸电极以及用于将第一触摸电极或第二触摸电极彼此连接的桥电极形成在显示面板中。第一触摸电极可以是Tx电极，并且第二触摸电极可以是Rx电极。
具有集成的触摸屏的显示设备的第一电极和第二电极形成在同一层上。如果第一触摸电极和第二触摸电极之间的间隔不足，则由于在形成触摸电极的工艺期间产生的颗粒或者在单元工艺之后的基板划片工艺期间产生的划痕，出现第一电极和第二电极之间发生短路的问题。
发明内容
因此，本发明涉及一种具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法，其基本上消除了由于现有技术的限制和缺点而导致的一个或更多个问题。
本发明的优点在于提供一种具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法，其中可防止第一触摸电极和第二触摸电极之间发生短路。
本发明的附加优点和特征将部分地在以下描述中阐述，并且部分地对于研究了以下内容的本领域普通技术人员而言将变得显而易见，或者可从本发明的实践学习。本发明的目的和其它优点可通过在所撰写的说明书及其权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和达到。
根据本发明的一个实施方式的显示设备包括发光器件层。
在本发明的另一方面中，一种制造显示设备的方法包括形成薄膜晶体管层的步骤。
将理解，本发明的以上总体描述和以下具体描述二者均是示例性和说明性的，旨在提供对要求保护的本发明的进一步说明。
附图说明
附图被包括以提供对本发明的进一步理解，并且被并入本申请中并构成本申请的一部分，附图示出了本发明的实施方式，并且与说明书一起用来说明本发明的原理。附图中：
图1是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的立体图；
图2是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的框图；
图3是示出图2的显示面板的一个侧面的横截面图；
图4是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的第一触摸电极和第二触摸电极、桥电极以及第一触摸线和第二触摸线的平面图；
图5是示出图4的区域A的放大图；
图6是示出图4的I-I’的示例的横截面图；
图7是示出图5的II-II’的示例的横截面图；
图8是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的制造方法的流程图；以及
图9至图12是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示装置的制造方法的横截面图。
具体实施方式
本发明的优点和特征及其实现方法将通过参照附图描述的以下实施方式而变得清楚。然而，本发明可按照不同的形式具体实现，不应被解释为限于本文所阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式是为了本公开将彻底且完整，并且将向本领域技术人员充分传达本发明的范围。此外，本发明仅由权利要求的范围限定。
附图中所公开的用于描述本发明的实施方式的形状、尺寸、比例、角度和数量仅是示例，因此，本发明不限于所示的细节。贯穿说明书，相似的标号表示相似的元件。在以下描述中，当相关已知功能或配置的详细描述被确定为使本发明的重点不必要地模糊时，将省略详细描述。
在使用本说明书中所描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，除非使用“仅～”，否则可添加另一部件。除非相反地指出，否则单数形式的术语可包括复数形式。
在解释元件时，尽管没有明确描述，该元件被解释为包括误差范围。
在描述位置关系时，例如，当位置关系被描述为“在～上”、“在～上方”、“在～下方”以及“在～旁边”时，除非使用“紧挨”或“直接”，否则可在两个部分之间布置一个或更多个其它部分。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在～之后”、“随～之后”、“接着～”以及“在～之前”时，除非使用“立即”或“直接”，否则可包括不连续的情况。
将理解，尽管本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，这些元件不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件相区分。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，类似地，第二元件可被称为第一元件。
“第一水平轴方向”、“第二水平轴方向”和“垂直轴方向”不应仅由相互垂直关系的几何关系解释，在本发明的元件可在功能上起作用的范围内可具有更宽的方向性。
术语“至少一个”应该被理解为包括一个或更多个相关所列项的任何和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少一个”的含义表示从第一项、第二项和第三项中的两个或更多个提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。
如本领域技术人员可充分理解的，本发明的各种实施方式的特征可部分地或全部地彼此耦合或组合，并且可不同地彼此互操作并且在技术上驱动。本发明的实施方式可彼此独立地实现，或者可按照互相依赖的关系一起实现。
以下，将参照附图详细描述本发明的优选实施方式。只要可能，贯穿附图将使用相同的标号来表示相同或相似的部件。
图1是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的立体图。图2是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的框图。
参照图1和图2，根据本发明的实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备包括显示面板110、扫描驱动器120、数据驱动器130、定时控制器160、主机系统170、触摸驱动器180和触摸坐标计算器190。
根据本发明的具有集成的触摸屏的显示设备可被实现为诸如液晶显示器(LCD)、场发射显示器(FED)、等离子体显示面板(PDP)、有机发光显示器(OLED)和电泳显示器(EPD)的平板显示设备。以下，根据本发明的具有集成的触摸屏的显示设备被实现为(但不限于)有机发光显示设备。
显示面板110包括第一基板111和第二基板112。第二基板112可以是封装基板。第一基板可以是塑料膜或玻璃基板。第二基板112可以是塑料膜、玻璃基板或封装膜(保护膜)。
显示面板110包括显示区域，其上布置有子像素SP以显示图像。在显示区域110上，形成有数据线D1至Dm(m是2或更大的正整数)和扫描线S1至Sn(n是2或更大的正整数)。数据线D1至Dm可形成为与扫描线S1至Sn交叉。子像素SP可形成在选通线和数据线的交叉结构所限定的区域上。
显示面板110的各个子像素SP可连接到数据线D1至Dm中的任一条以及扫描线S1至Sn中的任一条。显示面板110的各个子像素SP可包括：驱动晶体管，其用于根据施加到栅极的数据电压来控制漏源电流；扫描晶体管，其通过扫描线的扫描信号而导通，将数据线的数据电压供应给驱动晶体管的栅极；有机发光二极管，其用于根据驱动晶体管的漏源电流来发射光；以及电容器，其用于存储驱动晶体管的栅极的电压。因此，各个子像素SP可根据供应给有机发光二极管的电流来发射光。
扫描驱动器120从定时控制器160接收扫描控制信号GCS。扫描驱动器120根据扫描控制信号GCS将扫描信号供应给扫描线S1～Sn。
扫描驱动器120可按照GIP(面板中栅极驱动器)模式形成在显示面板110的显示区域的一侧或两侧之外的非显示区域中。另选地，扫描驱动器120由驱动芯片制成，被封装在柔性膜中，并且可按照TAB(载带自动键合)模式附接到显示面板110的显示区域的一侧或两侧之外的非显示区域。
数据驱动器130从定时控制器160接收数字视频数据DATA和数据控制信号DCS。数据驱动器130根据数据控制信号DCS将数字视频数据DATA转换为模拟正极性/负极性数据电压并将它们供应给数据线。即，通过扫描驱动器120的扫描信号来选择将被供应有数据电压的像素，并且数据电压被供应给所选像素。
如图1所示，数据驱动器130可包括多个源极驱动IC 131。多个源极驱动IC 131中的每一个可按照COF(膜上芯片)或COP(塑料上芯片)模式被封装到柔性膜140中。柔性膜140使用各向异性导电膜附接到设置在显示面板110的非显示区域上的焊盘上，由此源极驱动IC 131可连接到焊盘。
电路板150可附接到柔性膜140。实现为驱动芯片的多个电路可被封装到电路板150上。例如，定时控制器160可被封装到电路板150上。电路板150可以是印刷电路板或柔性印刷电路板。
定时控制器160从主机系统170接收数字视频数据DATA和定时信号。定时信号可包括垂直同步信号、水平同步信号、数据使能信号和点时钟。垂直同步信号是限定一帧周期的信号。水平同步信号是限定将数据电压供应给显示面板DIS的一个水平行的像素所需的一个水平周期的信号。数据使能信号是限定输入可用数据的周期的信号。点时钟是以预定的短周期重复的信号。
为了控制扫描驱动器120和数据驱动器130的操作定时，定时控制器160基于定时信号来生成用于控制数据驱动器130的操作定时的数据控制信号DCS以及用于控制数据驱动器130的操作定时的扫描控制信号GCS。定时控制器160将扫描控制信号GCS输出到扫描驱动器120并将数字视频数据DATA和数据控制信号DCS输出到数据驱动器130。
主机系统170可被实现为导航系统、机顶盒、DVD播放器、蓝光播放器、个人计算机(PC)、家庭影院系统、广播接收机和电话系统。主机系统170包括配备有缩放器的SoC(芯片上系统)并且将输入图像的数字视频数据转换为适合于显示显示面板110的格式。主机系统170将数字视频数据DATA和定时信号发送到定时控制器160。
在显示面板110上，不仅可形成数据线D1至Dm和扫描线S1至Sn，而且可形成第一触摸电极和第二触摸电极。第一触摸电极可形成为与第二触摸电极交叉。第一触摸电极可通过第一触摸线T1至Tj连接到第一触摸驱动器181，其中j是等于或大于2的整数。第二触摸电极可通过第二触摸线R1至Ri连接到第二触摸驱动器182，其中i是等于或大于2的整数。在第一触摸电极与第二触摸电极之间的各个交叉点上，可形成触摸传感器。根据本发明的实施方式的触摸传感器被实现为(但不限于)互电容。第一触摸电极和第二触摸电极将稍后参照图4和图5更详细地描述。
触摸驱动器180通过第一触摸线T1至Tj将驱动脉冲供应给第一触摸电极，并且通过第二触摸线R1至Ri感测各个触摸传感器中的电荷变化量。即，在图2中，将基于第一触摸线T1至Tj是用于供应驱动脉冲的Tx线，第二触摸线R1至Ri是用于感测各个触摸传感器中的电荷变化量的Rx线给出描述。
触摸驱动器180包括第一触摸驱动器181、第二触摸驱动器182和触摸控制器183。第一触摸驱动器181、第二触摸驱动器182和触摸控制器183可被集成到一个ROIC(读出IC)中。
第一触摸驱动器181在触摸控制器183的控制下选择输出驱动脉冲的第一触摸线并将驱动脉冲供应给所选第一触摸线。例如，第一触摸驱动器181可将驱动脉冲依次供应给第一触摸线T1至Tj。
第二触摸驱动器182在触摸控制器183的控制下选择接收触摸传感器中的电荷变化量的第二触摸线，并且通过所选第二触摸线来接收触摸传感器中的电荷变化量。第二触摸驱动器182通过对通过第二触摸线R1至Ri接收的触摸传感器中的电荷变化量进行采样来将触摸传感器中的电荷变化量转换为作为数字数据的触摸原始数据TRD。
触摸控制器183可生成在第一触摸驱动器181中设置驱动脉冲要输出至的第一触摸线的Tx设置信号以及在第二触摸驱动器182中设置要接收触摸传感器电压的第二触摸线的Rx设置信号。另外，触摸控制器183生成定时控制信号以控制第一触摸驱动器181和第二触摸驱动器182的操作定时。
触摸坐标计算器190从触摸驱动器180接收触摸原始数据TRD。触摸坐标计算器190根据触摸坐标计算方法来计算触摸坐标并将包括触摸坐标信息的触摸坐标数据HIDxy输出到主机系统170。
触摸坐标计算器190可被实现为微控制器单元(MCU)。主机系统170分析从触摸坐标计算器190输入的触摸坐标数据HIDxy并执行与用户生成触摸的坐标关联的应用程序。主机系统170根据所执行的应用程序来将数字视频数据DATA和定时信号发送到定时控制器160。
触摸驱动器180可被包括在源极驱动IC 131中或者可由单独的驱动芯片制成并被封装到电路板150上。另外，触摸坐标计算器190可由驱动芯片制成并被封装到电路板150上。
图3是示出图2中的显示面板的一个侧面的横截面图。
参照图3，显示面板110可包括第一基板111、第二基板112、布置在第一基板111和第二基板112之间的薄膜晶体管层10、有机发光器件层20、封装层30、触摸感测层40和粘合层50。
第一基板111可以是塑料膜或玻璃基板。
薄膜晶体管层10形成在第一基板111上。薄膜晶体管层10可包括扫描线、数据线和薄膜晶体管。各个薄膜晶体管包括栅极、半导体层以及源极和漏极。在扫描驱动器使用GIP(面板中栅极驱动器)方法形成的情况下，扫描驱动器可与薄膜晶体管层10一起形成。薄膜晶体管10的详细描述将稍后参照图6和图7给出。
有机发光器件层20形成在薄膜晶体管10上。有机发光器件层20包括第一电极、有机发光层、第二电极和堤。各个有机发光层可包括空穴传输层、有机发光层和电子传输层。在这种情况下，当电压被施加到第一电极和第二电极时，空穴和电子分别通过空穴传输层和电子传输层向发光层移动并在有机发光层中复合，从而发射光。发光器件层20可以是形成有像素的像素阵列层，由此形成有有机发光器件层20的区域可被定义为显示区域。显示区域周边的区域可被定义为非显示区域。发光器件层20的详细描述将稍后参照图6和图7给出。
封装层30形成在有机发光器件层20上。封装层30用于防止氧气或水渗入到有机发光器件层20中。封装层30可包括至少一个无机膜和至少一个有机膜。封装层30的截面结构将稍后参照图6和图7详细描述。
触摸感测层40形成在封装层30上。触摸感测层40可包括用于感测用户的触摸的第一触摸电极层和第二触摸电极层。第一触摸电极层可包括连接到第一触摸线T1至Tj的第一图案化桥电极以及连接到第二触摸线R1至Ri的第二图案化触摸电极。第二触摸电极层可包括用于将第一桥电极相互连接的第一图案化触摸电极以及用于将第二图案化触摸电极相互连接的第二桥电极。在本发明的实施方式中，用于感测用户的触摸的触摸感测层形成在封装层30上，由此触摸屏设备不需要单独地附接在显示设备上。触摸感测层40的平面结构将稍后参照图4和图5描述。另外，触摸感测层40的截面结构将稍后参照图6和图7描述。
粘合层50形成在触摸感测层上。粘合层50将设置有薄膜晶体管10、发光器件层20、封装层30和触摸感测层40的第一基板111和第二基板112彼此粘附。粘合层50可以是光学透明树脂(OCR)或光学透明粘合膜(OCA)。
第二基板112用作覆盖第一基板110的盖基板或盖窗。第二基板112可以是塑料膜、玻璃基板或封装膜(保护膜)。
图4是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的第一触摸电极和第二触摸电极、桥电极以及第一触摸线和第二触摸线的平面图。
参照图4，第一触摸电极TE可布置在第一方向(x轴方向)上，第二触摸电极RE可布置在与第一方向(x轴方向)交叉的第二方向(y轴方向)上。第一方向(x轴方向)可与扫描线S1至Sn平行，第二方向(y轴方向)可与数据线D1至Dm平行。另选地，第一方向(x轴方向)可与数据线D1至Dm平行，第二方向(y轴方向)可与扫描线S1至Sn平行。尽管图4示出第一触摸电极TE和第二触摸电极RE具有菱形平面结构，将理解，本发明不限于图4的示例。在由第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成的菱形平面结构中，一侧具有30μm至40μm的长度。
在第一方向(x轴方向)上彼此相邻的第一触摸电极TE可通过桥电极BE彼此电连接以防止第一触摸电极TE和第二触摸电极RE在其交叉区域处短路。在第一触摸电极TE和第二触摸电极RE的交叉区域上可形成与触摸传感器对应的互电容。每布置4至6个由第一触摸电极TE和第二触摸电极RE形成的菱形平面结构，设置一个桥电极。
另外，由于在第一方向(x轴方向)上连接的各个第一触摸电极TE与在第二方向(y轴方向)上相邻的第一触摸电极TE间隔开，所以第一触摸电极彼此电绝缘。由于在第二方向(y轴方向)上连接的各个第二触摸电极RE与在第一方向(x轴方向)上相邻的第二触摸电极RE间隔开，所以第二触摸电极彼此电绝缘。
在第一方向(x轴方向)上彼此连接的第一触摸电极TE当中，布置在一端的第一触摸电极TE可与第一触摸线TL连接。第一触摸线TL可通过第一触摸焊盘TP连接到第一触摸驱动器181。因此，在第一方向(x轴方向)上彼此连接的第一触摸电极TE可通过第一触摸线TL从第一触摸驱动器181接收触摸驱动信号。
在第二方向(y轴方向)上彼此连接的第二触摸电极RE当中，布置在一端的第二触摸电极RE可连接到第二触摸线RL。第二触摸线RL可通过第二触摸焊盘RP连接到第二触摸驱动器182。因此，第二触摸驱动器182可接收在第二方向(y轴方向)上彼此连接的第二触摸电极RE的触摸传感器中的电荷变化量。
图5是示出图4的区域A的放大图。
参照图5，像素P可按照pentile结构形成。各个像素P包括多个子像素SP，例如，如图5所示，可包括一个红色像素R、两个绿色像素G和一个蓝色像素B。红色像素R、两个绿色像素G和蓝色像素B可按照八边形平面形状形成。另外，在红色像素R、两个绿色像素G和蓝色像素B当中，蓝色像素B可最大，绿色像素G可最小。尽管图5示出像素按照pentile结构形成，本发明的实施方式不限于图5的示例。
第一触摸电极TE和第二触摸电极RE可按照网格结构形成，以防止与各个像素P的红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B交叠。即，第一触摸电极TE和第二触摸电极RE可形成在设置在红色像素R、绿色像素G和蓝色像素G之间的堤上。第一触摸电极TE与第二触摸电极RE交叉的交叉点之间的距离为30μm至40μm。
在第一方向(x轴方向)上彼此相邻的第一触摸电极TE可通过多个桥电极BE彼此连接。各个桥电极BE可通过第一连接器CNT1连接到彼此相邻的第一触摸电极TE以用于暴露第一触摸电极TE1。桥电极BE可与第一触摸电极TE和第二触摸电极RE交叠。桥电极BE可形成在设置在红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B之间的堤上。这里，桥电极BE可按照网格结构形成。桥电极BE可形成在设置在红色像素R、绿色像素G和蓝色像素B之间的堤上。也可以说Tx电极和Rx电极(分别通过第一触摸电极和第二触摸电极与对应桥电极组合而形成)也可按照网格结构形成。也可以说“按照网格结构形成”是指具有网格的形状或形式的电极。
第一触摸电极TE和第二触摸电极RE可形成在同一层上，并且桥电极BE可形成在不同于第一触摸电极TE和第二触摸电极RE的层上。
图6是示出图4的I-I’的示例的横截面图。图7是示出图5的II-II’的示例的横截面图。
图6中示出第二触摸线RL和第二触摸焊盘RP的详细连接结构，并且图7中示出桥电极BE与第一触摸电极TE之间的详细连接结构。
参照图6和图7，薄膜晶体管层10形成在第一基板111上。薄膜晶体管10包括薄膜晶体管210、第一触摸焊盘TP(未示出)和第二触摸焊盘RP、栅极绝缘膜220、层间介电膜230、钝化膜240和平坦化膜250。
第一缓冲膜可形成在第一基板111的一个表面上。第一缓冲膜可形成在第一基板111的一个表面上以保护薄膜晶体管210和发光器件260免受通过易受透湿性影响的第一基板111渗入的水影响。第一基板111的一个表面可以是面向第二基板112的表面。第一缓冲膜可由交替沉积的多个无机膜制成。例如，第一缓冲膜可由交替沉积的氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜和SiON膜的一个或更多个无机膜的多层膜形成。第一缓冲膜可被省略。
薄膜晶体管210形成在第一缓冲膜上。薄膜晶体管210包括有源层211、栅极212、源极215和漏极214。尽管如图7所示薄膜晶体管210按照栅极212布置在有源层211上方的顶栅模式形成，将理解，本发明的薄膜晶体管不限于顶栅模式。即，薄膜晶体管210可按照栅极212布置在有源层211下方的底栅模式或者栅极212布置在有源层211上方和下方的双栅模式形成。
有源层211形成在第一缓冲膜上。有源层211可由基于硅的半导体材料或者基于氧化物的半导体材料形成。用于遮蔽进入有源层211的外部光的遮光层可形成在第一缓冲膜和有源层211之间。
栅极绝缘膜220可形成在有源层211上。栅极绝缘膜220可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
栅极212和选通线可形成在栅极绝缘膜220上。栅极212和选通线可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
层间介电膜230可形成在栅极212和选通线上。层间介电膜230可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
源极215、漏极214、数据线以及第一触摸焊盘TP(未示出)和第二触摸焊盘RP可形成在层间介电膜230上。源极215和漏极214中的每一个可通过穿过栅极绝缘膜220和层间介电膜230的接触孔连接到有源层211。源极215、漏极214、数据线以及第一触摸焊盘TP(未示出)和第二触摸焊盘RP可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
钝化层240可形成在源极215、漏极214、数据线以及第一触摸焊盘TP和第二触摸焊盘RP上以将薄膜晶体管210绝缘。钝化层240可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
用于将由于薄膜晶体管210引起的台阶差平坦化的平坦化膜250可形成在钝化层240上。平坦化膜250可由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
有机发光器件层20形成在薄膜晶体管层10上。有机发光器件层20包括有机发光器件和堤270。
发光器件和堤270形成在平坦化膜250上。各个发光器件包括第一电极261、有机发光层262和第二电极263。第一电极261可以是阳极，第二电极263可以是阴极。
第一电极261可形成在平坦化膜250上。第一电极261可通过穿过钝化膜240和平坦化膜250的接触孔连接到薄膜晶体管210的源极215。第一电极261可由具有高反射率的导电材料形成，例如Al和Ti的沉积结构(Ti/Al/Ti)、Al和ITO的沉积结构(ITO/Al/ITO)、APC合金或者APC合金和ITO的沉积结构(ITO/APC/ITO)。APC合金是Ag、Pd和Cu的合金。
堤270可形成在平坦化膜250上以分隔第一电极261，从而用作限定子像素SP的像素限定膜。堤270可形成为覆盖第一电极261的边缘。
各个子像素P表示与阳极对应的第一电极261、发光层262和与阴极对应的第二电极263依次沉积的区域，并且来自第一电极261的空穴和来自第二电极263的电子在发光层262中彼此复合以发射光。
有机发光层262形成在第一电极261和堤270上。有机发光层262可以是发射预定颜色的包括有机材料的有机发光层。如果有机发光层262是发射白光的白光发射层，则有机发光层262可以是为像素P共同形成的公共层。在这种情况下，有机发光层262可按照两个或更多个层叠物的叠层结构(tandem structure)形成。各个层叠物可包括空穴传输层、至少一个发光层和电子传输层。
另外，电荷生成层可形成在层叠物之间。电荷生成层可包括被布置为与下层叠物邻接的n型电荷生成层以及形成在n型电荷生成层上并被布置为与上层叠物邻接的p型电荷生成层。n型电荷生成层将电子注入下层叠物中，p型电荷生成层将空穴注入上层叠物中。n型电荷生成层可以是掺杂有诸如Li、Na、K或Cs的碱金属或者诸如Mg、Sr、Ba或Ra的碱土金属的有机基质材料的有机层，其中，有机基质材料具有电子传输能力。p型电荷生成层可以是掺杂有掺杂剂的有机基质材料的有机层，其中，有机基质材料具有空穴传输能力。
第二电极263布置在有机发光层262上。第二电极263可形成为覆盖有机发光层262。第二电极263可以是为像素P共同形成的公共层。
第二电极263可由可透射光的透明导电材料(TCO)(例如，ITO和IZO)或者半透射导电材料(例如，Mg、Ag以及Mg和Ag的合金)形成。如果第二电极263由半透射导电材料形成，则可通过微腔来增强发光效率。封顶层(capping layer)可形成在第二电极263上。
封装层30形成在发光器件层20上。封装层30包括封装膜280。
封装膜280布置在第二电极263上。封装膜280可包括至少一个无机膜和至少一个有机膜以防止氧气或水渗入到发光层262和第二电极263中。例如，如图6和图7所示，封装膜280可包括第一无机膜281和第二无机膜283以及插置在第一无机膜281和第二无机膜283之间的有机膜282。第一无机膜281和第二无机膜283中的每一个可由氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝或氧化钛形成。有机膜282可形成有足够的厚度(例如，7μm至8μm)，以防止颗粒穿过封装膜280渗入到发光层262和第二电极263中。
由于有机膜282的流动被坝300阻挡，所以有机膜282可形成在坝300内。相反，第一无机膜281和第二无机膜283可形成在坝300外。另外，第一无机膜281和第二无机膜283可形成为不覆盖第一触摸焊盘TP(未示出)和第二触摸焊盘RP。
第二缓冲膜31形成在封装层30上。第二缓冲膜31可形成为覆盖封装膜280以及第一触摸焊盘TP(未示出)和第二触摸焊盘RP。第二缓冲膜31可由无机膜或有机膜形成。如果第二缓冲膜31由无机膜形成，则第二缓冲膜31可由氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜形成。
触摸感测层40形成在第二缓冲膜31上。触摸感测层40包括第一触摸电极层41、第二触摸电极层42和触摸绝缘膜43。
第一触摸电极层41包括第一桥电极293和第二图案化触摸电极299。第二触摸电极层42包括第一图案化触摸电极291和第二桥电极292。第一图案化触摸电极291和第二桥电极292可布置在同一层上。第一图案化触摸电极291和第二桥电极292彼此间隔开，并且彼此电绝缘。触摸绝缘膜43包括触摸无机膜294和触摸有机膜295。这里，第一桥电极293、第一图案化触摸电极291、第二桥电极292和第二图案化触摸电极299中的每一个可按照网格结构形成。桥电极BE与第一桥电极293、第一图案化触摸电极291、第二桥电极292和第二图案化触摸电极299中的至少一个交叠。
更详细地讲，第一桥电极293和第二图案化触摸电极299可形成在第二缓冲膜31上。第一桥电极293和第二图案化触摸电极299在第二缓冲膜31上图案化。第一桥电极293将第一图案化触摸电极291彼此连接，并且第二图案化触摸电极299与第二桥电极292连接。可以说“图案化”的电极或元件是指所述电极或元件具有预定形状的任何配置。也可以说“按照多个图案”图案化的元件是指存在于多个分立的部分中的元件。另选地，也可以说图案化“为一个图案”的元件是指元件是单一的或者不具有分立的部分。
第一桥电极293和第二图案化触摸电极299可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
触摸无机膜294可形成在第一桥电极293和第二图案化触摸电极299上。触摸无机膜294可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
触摸有机膜295可形成在触摸无机膜294上。封装膜280的有机膜282是用于防止颗粒穿过封装膜280渗入到发光层262和第二电极263中的颗粒覆盖层，而触摸有机膜295是用于将第一触摸电极层41和第二触摸电极层42彼此间隔开预定距离的层。因此，触摸有机膜295可按照比封装膜280的有机膜282薄的厚度形成。例如，触摸有机膜295可按照大约2μm的厚度形成。另外，由于在封装膜280的有机膜282中没有形成接触孔，所以封装膜280的有机膜282不需要包括光刻胶材料。相反，由于在触摸有机膜295中形成接触孔，所以触摸有机膜295可包括光刻胶材料。例如，触摸有机膜295可由包括光刻胶材料的光丙烯酸酯形成。
第一图案化触摸电极291和第二桥电极292形成在触摸有机膜295上。第一图案化触摸电极291可以是发送器(Tx)电极，第二桥电极292可以是接收器(Rx)电极。第一图案化触摸电极291和第二桥电极292可被图案化。
第一图案化触摸电极291可通过被设置为穿过触摸无机膜294和触摸有机膜295的第一接触孔CT1和第二接触孔CT2而与第一桥电极293连接。
第一接触孔CT1将左侧的第一图案化触摸电极291的图案与第一桥电极293的一侧连接。第二接触孔CT2将中心部分处的第一图案化触摸电极291的图案与第一桥电极293的另一侧连接。
在这种情况下，由于第一图案化触摸电极291在其交叉区域使用第一桥电极293连接，所以与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293形成一个Tx电极。
第二桥电极292可通过被设置为穿过触摸无机膜294和触摸有机膜295的第三接触孔CT3和第四接触孔CT4与第二图案化触摸电极299连接。由于第二桥电极292与第二图案化触摸电极299连接，所以与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299形成一个Rx电极。
第一触摸线TL可从第一图案化触摸电极291延伸，并且第二触摸线RL可从第二桥电极292延伸。第一触摸线TL可通过被设置为穿过钝化膜240和缓冲膜31的第二连接器CNT2与第一触摸焊盘TP连接。第二触摸线RL可通过被设置为穿过钝化膜240和缓冲膜31的第三连接器CNT3与第二触摸焊盘RP连接。需要注意的是，第一、第二、第三等标签旨在使各个元件(触摸线、连接器等)与附图保持一致，并且除了将这些特征彼此区分之外没有在功能上限制。
第一图案化触摸电极291、第二桥电极292、第一触摸线TL和第二触摸线RL可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
用于将第一图案化触摸电极291、第二桥电极292、第一桥电极293和第二图案化触摸电极299所导致的台阶差平坦化的外涂层296可形成在第一图案化触摸电极291和第二桥电极292上。
此外，尽管图7示出第一触摸电极层41形成在第二缓冲膜31上，触摸绝缘膜43形成在第一触摸电极层41上，并且第二触摸电极层42形成在触摸绝缘膜43上，本发明不限于图7的示例。即，第二触摸电极层42可形成在第二缓冲膜31上，触摸绝缘膜43可形成在第二触摸电极层42上，并且第一触摸电极层41可形成在触摸绝缘膜43上。
滤色器层可形成在触摸感测层40上。滤色器层可包括被布置为与子像素SP交叠的滤色器以及被布置为与堤270交叠的黑色基底。如果发光层262包括用于发射红光、绿光和蓝光的有机发光层，则滤色器层可被省略。
粘合层50形成在触摸感测层40上。粘合层50将设置有薄膜晶体管10、发光器件层20、封装层30和触摸感测层40的第一基板111和第二基板112彼此粘附。粘合层50可以是光学透明树脂(OCR)或光学透明粘合膜(OCA)。
第二基板112用作盖基板或盖窗以用于覆盖第一基板110。第二基板112可以是塑料膜、玻璃基板或封装膜(保护膜)。
在根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备中，第一桥电极293和第二图案化触摸电极299形成为图案化。用于将第一图案化触摸电极291彼此连接的第一桥电极293可形成为一个图案。用于将第二桥电极292彼此连接的第二图案化触摸电极299可形成为一个图案。与一个第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293可由多个图案形成。与一个第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299可由多个图案形成。图7示出第一图案化触摸电极291由两个图案形成并且用于将第一图案化触摸电极291彼此连接的第一桥电极293由一个图案形成。另外，图7示出与一个第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299由两个图案形成。
因此，第一图案化触摸电极291由两个图案形成，用于将第一图案化触摸电极291彼此连接的第一桥电极293由一个图案形成，由此形成一个Tx电极。另外，与一个第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299由两个图案形成，由此形成一个Rx电极。
由于Tx电极包括第一桥电极293和第一图案化触摸电极291，并且Rx电极包括第一图案化触摸电极299和第二桥电极292，所以Tx电极和Rx电极按照两个层的沉积结构布置。第一桥电极293和第一图案化触摸电极291或者第二图案化触摸电极299和第二桥电极292通过多个接触孔CT1至CT4彼此连接。
第一图案化触摸电极291和第二桥电极292被布置为彼此间隔开。构成Tx电极的第一图案化触摸电极291和构成Rx电极的第二桥电极292被布置在同一层上。如果布置在同一层上的第一图案化触摸电极291和第二桥电极292彼此相邻，则可能产生Tx电极与Rx电极之间的信号干扰，并且在Tx电极与Rx电极之间可能产生寄生电容。因此，如果第一图案化触摸电极291和第二桥电极292彼此间隔开，则可避免信号干扰和寄生电容。
与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299被布置为彼此间隔开。构成Tx电极的第一桥电极293和构成Rx电极的第二图案化触摸电极299被布置在同一层上。因此，与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299被布置在同一层上。如果布置在同一层上的与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299彼此相邻，则可能产生Tx电极与Rx电极之间的信号干扰，并且在Tx电极与Rx电极之间可能产生寄生电容。因此，构成Tx电极的第一桥电极293和构成Rx电极的第二图案化触摸电极299彼此间隔开，由此可避免信号干扰和寄生电容。
如上所述，图7示出第一图案化触摸电极291由两个图案形成并且用于将第一图案化触摸电极291彼此连接的第一桥电极293由一个图案形成。另外，图7示出与一个第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299由两个图案形成。
在这种情况下，构成Tx电极的第一图案化触摸电极291与构成Tx电极的第二图案化触摸电极299之间的距离比构成Tx电极的第一图案化触摸电极291与构成Tx电极的第二桥电极292之间的距离短。
第一图案化触摸电极291形成在与第二桥电极292相同的层上，而第一图案化触摸电极291形成在不同于第二图案化触摸电极299的层上。因此，如果第一图案化触摸电极291与第二桥电极292之间的距离短，则更受信号干扰和寄生电容影响。如果形成在其彼此不同的各个层上的第一图案化触摸电极291与第二图案化触摸电极299之间的距离变得相对短，则这种情况与第一图案化触摸电极291和第二桥电极292由单层形成的情况相比可减小信号干扰或寄生电容。在这种情况下，如图7所示第一图案化触摸电极291可与第二图案化触摸电极299交叠，或者如图5所示第一图案化触摸电极291和第二图案化触摸电极299具有间隙(A)。
图8是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的制造方法的流程图，图9至图12是示出根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的制造方法的横截面图。应该注意的是，图7所示的图5的II-II’的截面图示出于图9至图12中。
以下，将参照图8至图12详细描述根据本发明的一个实施方式的具有集成的触摸屏的显示设备的制造方法。
首先，如图9所示，在第一基板111上形成薄膜晶体管层10、发光器件层20和封装层30(S201)。
更详细地讲，可在形成薄膜晶体管之前在第一基板111上形成第一缓冲膜以免受通过基板100渗入的水影响。第一缓冲膜旨在保护薄膜晶体管210和有机发光器件260免受通过易受透湿性影响的第一基板111渗入的水影响，并且可由交替沉积的多个无机膜制成。例如，第一缓冲膜可由交替沉积的氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜和SiON膜的一个或更多个无机膜的多层膜形成。第一缓冲膜可使用CVD(化学气相沉积)方法来形成。
此后，在第一缓冲膜上形成薄膜晶体管的有源层211。具体地讲，使用溅射方法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)方法在第一缓冲膜的整个表面上形成活性金属层。然后，通过掩模工艺使用光刻胶图案将活性金属层图案化以形成有源层211。有源层211可由基于硅的半导体材料或基于氧化物的半导体材料形成。
然后，在有源层211上形成栅极绝缘膜220。栅极绝缘膜220可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
然后，在栅极绝缘膜220上形成薄膜晶体管210的栅极212。具体地讲，使用溅射方法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)方法在栅极绝缘膜220的整个表面上形成第一金属层。然后，通过掩模工艺使用光刻胶图案将第一金属层图案化以形成栅极212。栅极212可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
然后，在栅极212上形成层间介电膜230。层间介电膜230可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。
然后，形成用于穿过栅极绝缘膜220和层间介电膜230暴露有源层211的接触孔。
然后，在层间介电膜230上形成薄膜晶体管210的源极215和漏极214。具体地讲，使用溅射方法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)方法在层间介电膜230的整个表面上形成第二金属层。然后，通过掩模工艺使用光刻胶图案将第二金属层图案化以形成源极215和漏极214。源极215和漏极214中的每一个可通过穿过栅极绝缘膜220和层间介电膜230的接触孔连接到有源层211。源极215和漏极214可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
然后，在薄膜晶体管210的源极215和漏极214上形成钝化膜240。钝化膜240可由无机膜(例如，氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜)形成。钝化膜240可使用CVD方法形成。
然后，在钝化层240上形成用于将由于薄膜晶体管210引起的台阶差平坦化的平坦化膜250。平坦化膜250可由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
然后，在平坦化膜250上形成有机发光器件层260的第一电极261。更详细地讲，使用溅射方法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)方法在平坦化膜250的整个表面上形成第三金属层。然后，通过掩模工艺使用光刻胶图案将第三金属层图案化以形成第一电极261。第一电极261可通过穿过钝化膜240和平坦化膜250的接触孔连接到薄膜晶体管220的源极223。第一电极261可由具有高反射率的导电材料形成，例如Al和Ti的沉积结构(Ti/Al/Ti)、Al和ITO的沉积结构(ITO/Al/ITO)、APC合金或者APC合金和ITO的沉积结构(ITO/APC/ITO)。
然后，为了分隔子像素SP，在平坦化膜250上形成堤270以覆盖第一电极261的边缘。堤270可由诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂和聚酰亚胺树脂的有机膜形成。
然后，在第一电极261和堤270上形成发光层262。发光层262可以是有机发光层。在这种情况下，通过沉积工艺或溶液工艺在第一电极261和堤270上形成有机发光层262。有机发光层262可以是为像素P1、P2和P3共同形成的公共层。在这种情况下，有机发光层262可由发射白光的白光发射层形成。
如果有机发光层262是白光发射层，则有机发光层262可按照两个或更多个层叠物的叠层结构形成。各个层叠物可包括空穴传输层、至少一个发光层和电子传输层。
另外，可在层叠物之间形成电荷生成层。电荷生成层可包括被布置为与下层叠物邻接的n型电荷生成层以及形成在n型电荷生成层上并被布置为与上层叠物邻接的p型电荷生成层。n型电荷生成层将电子注入到下层叠物中，p型电荷生成层将空穴注入到上层叠物中。n型电荷生成层可以是掺杂有诸如Li、Na、K或Cs的碱金属或者诸如Mg、Sr、Ba或Ra的碱土金属的有机基质材料的有机层，其中，有机基质材料具有电子传输能力。p型电荷生成层可以是掺杂有掺杂剂的有机基质材料的有机层，其中，有机基质材料具有空穴传输能力。
此后，在发光层262上形成第二电极263。第二电极263可以是为子像素SP共同形成的公共层。第二电极263可由可透射光的透明导电材料(TCO)(例如，ITO和IZO)形成。第二电极263可通过诸如溅射方法的物理气相沉积形成。可在第二电极263上形成封顶层。
此后，在第二电极263上形成封装膜280。封装膜280用于防止氧气或水渗入到发光层262和第二电极263中。为此，封装膜280可包括至少一个无机膜281和283。至少一个无机膜281和283可由氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝或氧化钛形成。
另外，封装膜280还可包括至少一个有机膜282。有机膜282可形成有足够的厚度以防止颗粒穿过封装膜280渗入到有机发光层262和第二电极263中。
此外，形成封装膜的至少一个无机膜281和283和有机膜282的工艺可通过100℃或更低的低温工艺来执行，以防止已经形成的发光层262由于高温而损坏。
其次，如图10所示，在封装层30上形成第二缓冲膜31。包括第一桥电极293和第二图案化触摸电极299的第一触摸电极层41在第二缓冲膜31上图案化(图8的S102)。
更详细地讲，可形成第二缓冲膜31以覆盖封装膜280以及第一触摸焊盘TP和第二触摸焊盘RP。第二缓冲膜31可由无机膜或有机膜形成。如果第二缓冲膜31由无机膜形成，则第二缓冲膜31可由氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜形成。如果第二缓冲膜31由有机膜形成，则可对第二缓冲膜31进行等离子体处理以形成粗糙表面。在这种情况下，由于第二缓冲膜31的与第一触摸电极层41的第一桥电极293和第二触摸电极299接触的面积可增大，所以可增强第二缓冲膜31与第一触摸电极层41的第一桥电极293和第二触摸电极299之间的表面粘附力。此外，形成缓冲膜31的工艺可通过100℃或更低的低温工艺来执行，以防止已经形成的发光层262由于高温而损坏。
此后，使用溅射方法或MOVCD(金属有机化学气相沉积)方法在第二缓冲膜31的整个表面上形成第一触摸电极层41。然后，通过掩模工艺使用光刻胶图案将第一触摸电极层41图案化以形成第一桥电极293和第二图案化触摸电极299。第一桥电极293和第二触摸电极299可由包括多个电极的多层结构(例如，Ti/Al/Ti的三层结构)形成。
构成第一触摸电极层41的第一桥电极293和第二图案化触摸电极299的图案之一可形成Tx电极或Rx电极。另选地，构成第一触摸电极层41的多个第一桥电极293和第二触摸电极299的图案可彼此连接以形成一个Tx电极或一个Rx电极。
如果第一触摸电极层41被图案化以形成第一桥电极293和第二触摸电极299，则构成Tx电极的第一桥电极293和构成Rx电极的第二图案化触摸电极299可被图案化为彼此间隔开。
第三，如图11所示，在第一触摸电极层41上形成包括触摸无机膜294和触摸有机膜295的触摸绝缘膜43(图8的S103)。
更详细地讲，在第一触摸电极层41上形成触摸无机膜294。触摸无机膜294可由氧化硅(SiOx)膜、氮化硅(SiNx)膜或者氧化硅膜和氮化硅膜的多层膜形成。
然后，在触摸无机膜294上形成触摸有机膜295。
封装膜280的有机膜282是用于防止颗粒穿过封装膜280渗入到发光层262和第二电极263中的颗粒覆盖层，而触摸有机膜295是用于将第一触摸电极层41和第二触摸电极层42彼此间隔开预定距离的层。因此，触摸有机膜295可按照比封装膜280的有机膜282薄的厚度形成。例如，触摸有机膜295可按照大约2μm的厚度形成。
由于在封装膜280的有机膜282中没有形成接触孔，所以封装膜280的有机膜282不需要包括光刻胶材料。相反，由于在触摸有机膜295中形成接触孔，所以触摸有机膜295可包括光刻胶材料。例如，触摸有机膜295可由包括光刻胶材料的光丙烯酸酯形成。
此外，形成触摸无机膜294和触摸有机膜295的工艺可通过100℃或更低的低温工艺来执行，以防止已经形成的发光层262由于高温而损坏。
第四，如图12所示，形成穿过触摸绝缘膜43的多个接触孔CT1至CT4，并且在触摸绝缘膜43上形成包括第一图案化触摸电极291和第二桥电极292的第二触摸电极层42(图8的S104)。
当形成多个接触孔CT1至CT4时，形成第一连接器CNT1，其包括用于穿过构成触摸绝缘膜43的触摸无机膜294和触摸有机膜295暴露第一桥电极293和第二触摸电极299的第一接触孔CT1至第四接触孔CT4。同时，形成用于穿过钝化膜240和缓冲膜31暴露第一触摸焊盘TP的第二连接器CNT2，并且形成用于穿过钝化膜240和缓冲膜31暴露第二触摸焊盘RP的第三连接器CNT3。
当形成第二触摸电极层42时，使用溅射方法或MOCVD方法在触摸绝缘膜43的整个表面上形成第一图案化触摸电极291和第二桥电极292。各个第一图案化触摸电极291可通过穿过触摸无机膜294和触摸有机膜295的第一连接器CNT1与第一桥电极293连接。第一图案化触摸电极291和第二桥电极292可按照包括多个电极的多层结构(例如，Ti/Al/Ti的三层结构)形成。
第一触摸线TL可从第一图案化触摸电极291延伸，并且第二触摸线RL可从第二桥电极292延伸。第一触摸线TL可通过穿过钝化膜240和缓冲膜31的第二连接器CNT2与第一触摸焊盘TP连接。第二触摸线RL可通过穿过钝化膜240和缓冲膜31的第三连接器CNT3与第二触摸焊盘RP连接。
第一图案化触摸电极291、第二桥电极292、第一触摸线TL和第二触摸线RL可由包括Mo、Al、Cr、Au、Ti、Ni、Nd和Cu或其合金中的任一种的单层或多层形成。
第一图案化触摸电极291通过第一接触孔CT1和第二接触孔CT2与第一桥电极293连接。第一图案化触摸电极291与第一桥电极293连接以形成一个Tx电极。第二桥电极292通过第三接触孔CT3和第四接触孔CT4与第二图案化触摸电极299连接。第二桥电极292与第二图案化触摸电极299连接以形成一个Rx电极。
第一图案化触摸电极291和第二桥电极292被布置为彼此间隔开。构成Tx电极的第一图案化触摸电极291和构成Rx电极的第二桥电极292被布置在同一层上。如果布置在同一层上的第一图案化触摸电极291和第二桥电极292彼此相邻，则可能产生Tx电极与Rx电极之间的信号干扰，并且在Tx电极与Rx电极之间可能产生寄生电容。因此，如果第一图案化触摸电极291和第二桥电极292彼此间隔开，则可避免信号干扰和寄生电容。
与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299被布置为彼此间隔开。构成Tx电极的第一桥电极293和构成Rx电极的第二图案化触摸电极299被布置在同一层上。因此，与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299被布置在同一层上。如果布置在同一层上的与第一图案化触摸电极291连接的第一桥电极293和与第二桥电极292连接的第二触摸电极299彼此相邻，则可能产生Tx电极与Rx电极之间的信号干扰，并且在Tx电极与Rx电极之间可能产生寄生电容。因此，构成Tx电极的第一桥电极293和构成Rx电极的第二图案化触摸电极299彼此间隔开，由此可避免信号干扰和寄生电容。
图12示出第一图案化触摸电极291由两个图案形成并且用于将第一图案化触摸电极291彼此连接的第一桥电极293由一个图案形成。另外，图12示出与一个第二桥电极292连接的第二图案化触摸电极299由两个图案形成。
第一图案化触摸电极291形成在与第二桥电极292相同的层上，而第一图案化触摸电极291形成在不同于第二图案化触摸电极299的层上。因此，如果第一图案化触摸电极291与第二桥电极292之间的距离短，则更受信号干扰和寄生电容影响。如果形成在其彼此不同的各个层上的第一图案化触摸电极291与第二图案化触摸电极299之间的距离变得相对短，则这种情况与第一图案化触摸电极291和第二桥电极292由单层形成的情况相比可减小信号干扰或寄生电容。
用于将第一图案化触摸电极291、第二桥电极292、第一桥电极293和第二图案化触摸电极299所导致的台阶差平坦化的外涂层296可形成在第一图案化触摸电极291和第二桥电极292上。
如上所述，根据本发明的具有集成的触摸屏的显示设备及其制造方法具有如下优点。
可防止发生第一图案化触摸电极与第二桥电极之间的短路。
在本发明中，为了防止第一图案化触摸电极与第二桥电极之间发生短路，使用作为第一触摸电极层的第一桥电极和作为第二触摸电极层的第一图案化触摸电极来形成Tx电极，并且使用作为第一触摸电极层的第二图案化触摸电极和作为第二触摸电极层的第二桥电极来形成Rx电极。即，由于Tx电极和Rx电极使用双层结构形成，所以Tx电极与Rx电极之间的间隔基于同一层而增大，由此减少短路的发生。
另外，由于使用第一桥电极和第二图案化触摸电极来形成与Tx电极和Rx电极对应的图案的下层，并且在触摸绝缘膜中另外设置接触孔，所以不需要添加单独的层或者在制造工艺期间添加工艺或掩模。
以下非穷尽性的实施方式列表形成本发明的一部分。本领域技术人员将理解，以下实施方式可按照任何合适的组合来组合，或者可与说明书中详述的任何其它特征组合。在下面的实施方式中，应该注意的是，第二触摸电极(下方)是第二桥电极(如上面所定义的)，桥电极(下方)的另一图案是第二图案化触摸电极(如上面所定义的)。
实施方式1.一种显示设备，该显示设备包括：
发光器件层，其包括布置在第一基板上的第一电极、布置在第一电极上的发光层以及布置在发光层上的第二电极；以及
布置在发光器件层上的触摸感测层，
其中，触摸感测层包括第一触摸电极层和第二触摸电极层以及布置在第一触摸电极层和第二触摸电极层之间的触摸绝缘膜，并且
第一触摸电极层构成图案化桥电极，第二触摸电极层构成第一触摸电极和第二触摸电极，第一触摸电极和桥电极的一个图案彼此连接以形成一个Tx电极，并且第二触摸电极和桥电极的另一图案彼此连接以形成一个Rx电极。
实施方式2.根据实施方式1所述的显示设备，其中，第一触摸电极和第二触摸电极彼此间隔开。
实施方式3.根据实施方式1所述的显示设备，其中，与第一触摸电极连接的桥电极的一个图案和与第二触摸电极连接的桥电极的另一图案彼此间隔开。
实施方式4.根据实施方式1所述的显示设备，其中，如果第一触摸电极或第二触摸电极按照多个图案图案化，则与第一触摸电极或第二触摸电极连接的桥电极是一个图案。
实施方式5.根据实施方式1所述的显示设备，其中，如果第一触摸电极或第二触摸电极是一个图案，则与第一触摸电极或第二触摸电极连接的桥电极按照多个图案图案化。
实施方式6.根据实施方式1所述的显示设备，其中，构成Tx电极的第一触摸电极与构成Rx电极的桥电极之间的距离比构成Tx电极的第一触摸电极与构成Rx电极的第二触摸电极之间的距离短。
实施方式7.根据实施方式1所述的显示设备，该显示设备还包括从第一触摸电极延伸的第一触摸线以及从第二触摸电极延伸的第二触摸线，其中，第一触摸线通过设置在第一基板上的第二连接器连接到第一触摸焊盘，并且第二触摸线通过设置在第一基板上的第三连接器连接到第二触摸焊盘。
实施方式8.一种制造显示设备的方法，该方法包括以下步骤：
在第一基板上形成薄膜晶体管层、发光器件层和封装层；
在封装层上将包括桥电极的第一触摸电极层图案化；
在第一触摸电极层上形成包括触摸无机膜和触摸有机膜的触摸绝缘膜；以及
在触摸绝缘膜中设置多个接触孔并形成包括第一触摸电极和第二触摸电极的第二触摸电极层。
实施方式9.根据实施方式8所述的方法，其中，第一触摸电极和第二触摸电极彼此间隔开。
实施方式10.根据实施方式8所述的方法，其中，与第一触摸电极连接的桥电极的一个图案和与第二触摸电极连接的桥电极的另一图案彼此间隔开。
实施方式11.根据实施方式8所述的方法，其中，如果第一触摸电极或第二触摸电极按照多个图案图案化，则与第一触摸电极或第二触摸电极连接的桥电极是一个图案。
实施方式12.根据实施方式8所述的方法，其中，如果第一触摸电极或第二触摸电极是一个图案，则与第一触摸电极或第二触摸电极连接的桥电极按照多个图案图案化。
实施方式13.根据实施方式1所述的方法，其中，构成Tx电极的第一触摸电极与构成Rx电极的桥电极之间的距离比构成Tx电极的第一触摸电极与构成Rx电极的第二触摸电极之间的距离短。
对于本领域技术人员而言将显而易见的是，在不脱离本发明的范围的情况下，可对本发明进行各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖对本发明的这些修改和变化，只要其落入所附权利要求的范围内即可。
相关申请的交叉引用
本申请要求2017年10月30日提交的韩国专利申请No.10-2017-0142388的权益，其出于所有目的通过引用并入本文，如同在本文中充分阐述一样。

Claims (13)

1.一种显示设备，该显示设备包括：
发光器件层，该发光器件层包括布置在第一基板上的第一电极、布置在所述第一电极上的发光层以及布置在所述发光层上的第二电极；
位于所述发光器件层上的封装层；以及
布置在所述封装层上的触摸感测层，
其中，所述触摸感测层包括第一触摸电极层、第二触摸电极层以及布置在所述第一触摸电极层和所述第二触摸电极层之间的触摸绝缘膜，
其中，所述第一触摸电极层包括第一桥电极和第二图案化触摸电极，并且所述第二触摸电极层包括第一图案化触摸电极和第二桥电极，
其中，所述第一图案化触摸电极和所述第一桥电极彼此连接以形成Tx电极，
其中，所述第二图案化触摸电极和所述第二桥电极彼此连接以形成Rx电极，并且
其中，构成所述Tx电极的所述第一图案化触摸电极与构成所述Rx电极的所述第二图案化触摸电极之间的最短距离比构成所述Tx电极的所述第一图案化触摸电极与构成所述Rx电极的所述第二桥电极之间的最短距离短。
2.根据权利要求1所述的显示设备，该显示设备还包括设置在所述封装层上的触摸缓冲膜。
3.根据权利要求2所述的显示设备，该显示设备还包括设置在所述触摸缓冲膜上的触摸绝缘膜。
4.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述触摸绝缘膜包括触摸有机层和触摸无机层。
5.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第一图案化触摸电极通过至少一个第一接触孔连接到所述第一桥电极，所述第一接触孔穿透所述触摸绝缘膜。
6.根据权利要求3所述的显示设备，其中，所述第二图案化触摸电极通过至少一个第二接触孔连接到所述第二桥电极，所述第二接触孔穿透所述触摸绝缘膜。
7.根据权利要求1所述的显示设备，其中，在所述第二触摸电极层中，所述第一图案化触摸电极和所述第二桥电极彼此间隔开。
8.根据权利要求1所述的显示设备，其中，在所述第一触摸电极层中，与所述第一图案化触摸电极连接的所述第一桥电极和与所述第二桥电极连接的所述第二图案化触摸电极彼此间隔开。
9.根据权利要求1所述的显示设备，该显示设备还包括从所述第一图案化触摸电极延伸的第一触摸线以及从所述第二图案化触摸电极延伸的第二触摸线，其中，所述第一触摸线通过设置在所述第一基板上的第一连接器电连接到第一触摸焊盘，并且所述第二触摸线通过设置在所述第一基板上的第二连接器电连接到第二触摸焊盘。
10.根据权利要求1所述的显示设备，其中，所述触摸感测层中的所述Rx电极和所述Tx电极按照网格形式布置。
11.一种制造显示设备的方法，该方法包括以下步骤：
在第一基板上形成薄膜晶体管层、发光器件层和封装层；
在所述封装层上将包括第一桥电极和第二图案化触摸电极的第一触摸电极层图案化；
在所述第一触摸电极层上形成包括触摸无机膜和触摸有机膜的触摸绝缘膜；以及
在所述触摸绝缘膜中设置多个接触孔并形成包括第一图案化触摸电极和第二桥电极的第二触摸电极层，
其中，构成Tx电极的第一图案化触摸电极与构成Rx电极的第二图案化触摸电极之间的最短距离比构成所述Tx电极的所述第一图案化触摸电极与构成所述Rx电极的第二桥电极之间的最短距离短。
12.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述第二触摸电极层中，各个所述第一图案化触摸电极和各个所述第二桥电极彼此间隔开。
13.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述第一触摸电极层中，各个所述第一桥电极和各个所述第二图案化触摸电极彼此间隔开。
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