CN109655943A - 一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，包括基底、复合薄膜层和保护层，所述基底上设置有复合薄膜层，复合薄膜层包括高折射率层和低折射率层，6层高折射率层和低折射率层相互交替堆叠形成复合薄膜层；所述复合薄膜层外侧设置有保护层。其制备方法，包括以下操作步骤：将加硬烘干完毕的基片清洁后，放入专用工具，送入真空室；利用真空镀膜技术，在使用离子源设备辅助成膜条件下，在基底上依次堆叠镀上低折射率层和高折射率层；其中低折射率层为二氧化硅，膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm；高折射率层为五氧化三钛，膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm；在复合薄膜层最后一层高折射率层上，镀上保护层。
Description
技术领域
本发明涉及光学镜片领域，具体为一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片及其制备方法。
背景技术
长期暴露在蓝光下，容易造成眼睛伤害，特别是引起黄斑部病变。蓝光能穿透晶状体到达视网膜，对其造成光学损害，加速黄斑区细胞的氧化，产生大量自由基，导致白内障，黄斑区退化。包括：蓝光可直达视网膜，造成近视；蓝光可激发褐色色素，是皮肤产生黄斑、雀斑的重要原因；蓝光可导致白内障手术后的眼底损伤；蓝光可已发视觉模糊，导致视觉疲劳，引起VDT综合征；蓝光可以引发眩光。
红外线是波长较长的热辐射线，容易透入透明的屈光介质的眼内、屈光介质无血管，散热性能又差。加上邻近的葡萄膜能吸收大量放射线，因而较易受到损害而发生晶体混浊。
紫外辐射对眼睛会产生伤害，诱发皮肤癌变，强烈的紫外辐射能够损伤眼组织，导致结膜炎，损害角膜、晶状体，是白内障的主要诱因。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，包括基底、复合薄膜层和保护层，所述基底上设置有复合薄膜层，复合薄膜层包括高折射率层和低折射率层，6层高折射率层和低折射率层相互交替堆叠形成复合薄膜层；所述复合薄膜层外侧设置有保护层。
优选的，所述高折射率层采用五氧化三钛制成，低折射率层采用二氧化硅制成，复合薄膜层厚度共为460±10nm。
优选的，所述基底为加硬完毕的折射率为1.56的亚克力基片、折射率为1.60M8的基片和折射率为1.67的M7基片的任意一种。
优选的，所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。
优选的，所述保护层为防水膜，厚度为15nm。
本发明还提供一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，包括以下操作步骤：
S1：将加硬烘干完毕的基底清洁后，放入专用工具，送入真空室；
S2：利用真空镀膜技术，在使用离子源设备辅助成膜条件下，在S1)中得到的基底上依次堆叠镀上低折射率层和高折射率层；其中低折射率层为二氧化硅，膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm；高折射率层为五氧化三钛，膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm；
S3：在S2)中所得的复合薄膜层最后一层高折射率层上，镀上保护层。
优选的，所述S1)中加硬烘干完毕为加硬完成后在110℃烘烤2h直至基底干透。
优选的，S1)中所用真空室的真空度为1.00E-2。
优选的，所述S2)中离子源设备辅助成膜过程中，工作气体为氩气或氧气，离子源设备使用电压为100-80V，电流为4-2A。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明所制备的防红外线防蓝光防紫外线镜片，可同时防护有害蓝光红外线紫外线，且防护指标优于GB10810.3-2006，QB/T2506-2017。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图。
图中：1、基底；2、复合薄膜层；21、高折射率层；22、低折射率层；3、保护层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参阅图1，本发明提供一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，包括基底1、复合薄膜层2和保护层3，所述基底1上设置有复合薄膜层2，复合薄膜层2包括高折射率层21和低折射率层22，6层高折射率层21和低折射率层22相互交替堆叠形成复合薄膜层2；所述复合薄膜层2外侧设置有保护层3。
进一步的，所述高折射率层21采用五氧化三钛制成，低折射率层22采用二氧化硅制成，复合薄膜层2厚度共为460±10nm。
进一步的，所述基底1为加硬完毕的折射率为1.56的亚克力基片、折射率为1.60M8的基片和折射率为1.67的M7基片的任意一种。
进一步的，所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。
进一步的，所述保护层3为防水膜，厚度为15nm。
本发明还提供一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，包括以下操作步骤：
S1：将加硬烘干完毕的基底1清洁后，放入专用工具，送入真空室；
S2：利用真空镀膜技术，在使用离子源设备辅助成膜条件下，在S1中得到的基底1上依次堆叠镀上低折射率层22和高折射率层21；其中低折射率层22为二氧化硅，膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm；高折射率层21为五氧化三钛，膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm；
S3：在S2中所得的复合薄膜层2最后一层高折射率层上，镀上保护层3。
进一步的，所述S1)中加硬烘干完毕为加硬完成后在110℃烘烤2h直至基底1干透。
进一步的，S1)中所用真空室的真空度为1.00E-2。
进一步的，所述S2)中离子源设备辅助成膜过程中，工作气体为氩气或氧气，离子源设备使用电压为100-80V，电流为4-2A。
具体的：下面结合实施例对本发明技术方案作进一步阐述
实施例中的真空镀膜材料：五氧化三钛，常用规格为1-3mm颗粒，灰色；二氧化硅，常用规格为1-3mm颗粒，白色。
实施例中的真空镀膜机为satisloh公司提供的1200MPX，离子源设备为1200MPX附带设备。
一种防红外线防蓝光防紫外线镜片，包括基底1、低折射率层22、高折射率层21、低折射率层22、高折射率层21、低折射率层22、高折射率层21和保护层3；各层厚度依次为6.5nm、25.5nm、104.5nm、163.5nm、93.5nm、68.5nm、15nm；低折射率层22、高折射率层21、低折射率层22、高折射率层21、低折射率层22、高折射率层21构成复合薄膜层。
其中，基底1为亚克力基片，低折射率层22为二氧化硅；高折射率层21为五氧化三钛。
其制备方法，包括以下操作步骤：
S1：将加硬烘干完毕的基底1清洁后，放入专用工具，送入真空室；
S2：利用真空镀膜技术，在使用离子源设备辅助成膜条件下，在S1中得到的基底1上依次堆叠镀上低折射率层22和高折射率层21；其中低折射率层22为二氧化硅，膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm；高折射率层21为五氧化三钛，膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm；
S3：在S2中所得的复合薄膜层2最后一层高折射率层上，镀上保护层3。
表1是本发明实施提供的防红外线防蓝光防紫外线镜片的国家机构检测结果，从表中可看出该镜片可将280nm-380nm紫外线近乎完全阻隔，并且可阻隔19.4％蓝光和阻隔57.02％红外线。
表1
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (9)
1.一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，其特征在于：包括基底(1)、复合薄膜层(2)和保护层(3)，所述基底(1)上设置有复合薄膜层(2)，复合薄膜层(2)包括高折射率层(21)和低折射率层(22)，6层高折射率层(21)和低折射率层(22)相互交替堆叠形成复合薄膜层(2)；所述复合薄膜层(2)外侧设置有保护层(3)。
2.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，其特征在于：所述高折射率层(21)采用五氧化三钛制成，低折射率层(22)采用二氧化硅制成，复合薄膜层(2)厚度共为460±10nm。
3.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，其特征在于：所述基底(1)为加硬完毕的折射率为1.56的亚克力基片、折射率为1.60M8的基片和折射率为1.67的M7基片的任意一种。
4.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，其特征在于：所述复合薄膜层成膜时使用离子源设备辅助成膜。
5.根据权利要求1所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片，其特征在于：所述保护层(3)为防水膜，厚度为15nm。
6.一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，其特征在于：包括以下操作步骤：
S1：将加硬烘干完毕的基底(1)清洁后，放入专用工具，送入真空室；
S2：利用真空镀膜技术，在使用离子源设备辅助成膜条件下，在S1)中得到的基底(1)上依次堆叠镀上低折射率层(22)和高折射率层(21)；其中低折射率层(22)为二氧化硅，膜厚依次为6.5nm、104.5nm、93.5nm；高折射率层(21)为五氧化三钛，膜厚依次为25.5nm、163.5nm、68.5nm；
S3：在S2)中所得的复合薄膜层(2)最后一层高折射率()层上，镀上保护层(3)。
7.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，其特征在于：所述S1)中加硬烘干完毕为加硬完成后在110℃烘烤2h直至基底(1)干透。
8.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，其特征在于：S1)中所用真空室的真空度为1.00E-2。
9.根据权利要求6所述的一种防红外线防蓝光防紫外线的镜片的制备方法，其特征在于：所述S2)中离子源设备辅助成膜过程中，工作气体为氩气或氧气，离子源设备使用电压为100-80V，电流为4-2A。
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