CN109597511A - 触控面板及显示屏及电子产品 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种显示屏，所述显示屏的触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构。上述显示屏，由于触控面板在走线之间的区域内形成有表面等离子激元共振结构，进而可以对进入的光线进行增透，从而减低触控面板对光线的吸收，使穿过触控面板的光线的光强增大。这样可以使更多的光进入显示屏背面的摄像机构中，使成像效果提高。本发明还公开了一种触控面板及电子产品。

Description

触控面板及显示屏及电子产品

技术领域

本发明涉及电子产品技术领域，特别是涉及一种触控面板及显示屏及电子产品。

背景技术

现在的电子产品(例如手机、平板电脑等)，在其正面上一般都安装有前置的摄像头，摄像头安装于正面的非触控显示区域，不能全屏触控显示。

目前，有将显示屏划分为第一显示区以及第二显示区，将前置摄像头隐藏于显示屏的第二显示区的下方；在需要拍照摄像时，控制显示屏的第二显示区的像素点不发光而呈现透明状态，从而可以拍照摄像。在不拍照摄像时，第二显示区正常显示，实现全屏显示。

但是，在上述方案中，虽然显示屏中的触控面板呈透明的，但是触控面板还是会对欲进入摄像头中的光线进行吸收，也就是说，穿过触控面板的光线的光强减弱，从而使成像效果不佳。

发明内容

基于此，有必要对现有技术中成像效果不佳的问题，提供一种成像效果好的显示屏。

一种显示屏，所述显示屏的触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构。

上述显示屏，由于触控面板在走线之间的区域内形成有表面等离子激元共振结构，进而可以对进入的光线进行增透，从而减低触控面板对光线的吸收，使穿过触控面板的光线的光强增大。这样可以使更多的光进入显示屏背面的摄像机构中，使成像效果提高。

在其中一个实施例中，所述图形化金属的材质为Au、Ag、或Al中的一种或几种。

在其中一个实施例中，所述图形化的金属为彼此靠拢排布的金属块。

在其中一个实施例中，所述金属块的横截面呈椭圆形，优选地，所述多个椭圆形呈中心对称分布。

在其中一个实施例中，所述图形化的金属的数量为四个。

在其中一个实施例中，相邻所述椭圆形之间的间隙为10nm～50nm，优选地，所述图形化的金属的厚度为20nm～150nm。

在其中一个实施例中，所述椭圆形的长轴为200nm～400nm，所述椭圆形的短轴为100nm～200nm。

本发明还提供了一种触控面板。

一种触控面板，所述触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构。

上述触控面板，由于在走线之间的区域内形成有表面等离子激元共振结构，进而可以对进入的光线进行增透，从而减低触控面板对光线的吸收，使穿过触控面板的光线的光强增大。这样可以使更多的光进入显示屏背面的摄像机构中，使成像效果提高。

本发明还提供了一种电子产品。

一种电子产品，包括：

显示屏；

所述显示屏的触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构；

屏下光敏模块，能感应穿过所述显示屏而照射进来的光。

上述电子产品，由于显示屏的触控面板在走线之间的区域内形成有表面等离子激元共振结构，进而可以对进入的光线进行增透，从而减低触控面板对光线的吸收，使穿过触控面板的光线的光强增大。这样可以使更多的光进入显示屏背面的摄像机构中，使成像效果提高。

附图说明

图1为本发明一实施方式的触控面板的局部截面结构示意图。

图2为本发明一实施方式的触控面板的间隔区处的结构示意图。

图3为本发明一实施方式的触控面板的表面等离子激元共振结构的结构示意图。

图4为本发明一实施方式的显示屏的俯视结构示意图。

图5为图4中的显示屏的第二显示区的OLED器件的局部剖面结构示意图。

图6为图4中的显示屏的第二显示区的OLED器件隔离柱缺失的示意图。

图7为本发明一实施方式的电子产品的俯视示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参见图1-2，本发明一实施方式的触控面板600，包括走线层610。当然，可以理解的是，触控面板600除了走线层610，还包括其它结构层，例如位于走线层610下方的基底层、以及位于走线层610上方的保护层650。其它结构层，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的结构，在此不再赘述。为了方便说明，以下重点对走线层610进行说明。

可以理解的是，触控面板600在人视觉上为透明的，允许触控面板600中存在人视觉无法感受的非透明区域。

本发明的触控面板600可以是单层架桥结构，也可以是复合层结构(即驱动线路在一层，感测线路位于另一层)。若触控面板600为单层架桥结构，该层即为走线层610。若触控面板600为复合层结构，驱动线路层与感测线路层均是走线层610。

具体地，走线层610包括若干间隔设置的走线611以及位于相邻走线611之间的间隔区602。也就是说，走线层610为图案层，走线611为图案层中的图案，而间隔区602为图案之间空白的区域。

在本实施方式中，走线611为氧化铟锡走线(ITO走线)，即走形611由氧化铟锡制成。这样可以进一步提高触控面板600的光透过性。当然，可以理解的是，走线611并不局限于此，还可以是其它走线。

具体地，至少部分间隔区602内设有若干图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构620。

在本实施方式中，部分间隔区602内设图形化的金属620。当然，可以理解的是，也可以是全部的间隔区602内都设有图形化的金属620。

优选地，图形化的金属620的材质为Au、Ag、或Al中的一种或几种。这样形成的表面等离子激元共振结构的增透效果更加显著。当然，可以理解的是，图像化金属620的材质并不局限于此，还可以是其它金属。

优选地，图形化的金属的厚度为20nm～150nm。这样一方面有利于表面等离子激元的激发，另一方面利于光场能量的透过。

重点参见图3，在本实施方式中，图形化的金属620为彼此靠拢排布的金属块621。

优选地，金属块621的横截面呈椭圆形。更优选地，多个椭圆形呈中心对称分布。这样更有利于表面等离子激元的激发。

优选地，金属块621的数量为四个。更具体地，图形化的金属620由四个呈椭圆形的金属块621构成。四个椭圆形组成类似四叶草形状。这样可以组成类似于蝴蝶结形状，更有利于表面等离子激元的激发。

优选地，相邻椭圆形之间的间隙为10nm～50nm。这样更有利于表面等离子激元的激发。

优选地，椭圆形的长轴为200nm～400nm，椭圆形的短轴为100nm～200nm。这样更有利于表面等离子激元的激发。

当然，可以理解的是，本发明的表面等离子激元共振结构620的金属块的横截面并不局限于椭圆形，还可以是梯形、圆形。金属块的个数也并不局限于四个，还可以是两个，三个，亦或五个等。本发明的表面等离子激元共振结构620还可以同心排布的若干金属圆环、亦可以金属螺旋线。

以下对本发明的光线增透过程进行说明。

当光线从图1中的上侧向下照射时，当光线照射到间隔区602中的金属块621上时，在金属块621的表面，在垂直于光线传播的方向上产生消逝波，消逝波可以引发金属表面的自由电子产生表面等离子激元，由于为表面等离子激元共振结构，故表面等离子激元与消逝波频率和波数相等，二者发生共振，使光线透射增强。

上述触控面板，由于在走线之间的区域内形成有表面等离子激元共振结构，进而可以对进入的光线进行增透，从而减低触控面板对光线的吸收，使穿过触控面板的光线的光强增大。这样可以使更多的光进入屏下光敏模块中，使成像效果提高。

本发明还提供了一种显示屏。

一种显示屏，包括显示屏的触控面板为本发明所提供的触控面板。

在一优选实施方式中，参见图4，显示屏1000具有第一显示区1001以及第二显示区1002。该第二显示区1002具有显示模式以及摄像模式；在显示模式下，第二显示区1002显示图像；此时，第二显示区1002与第一显示区1001可以一起显示，从而实现全屏显示功能；在摄像模式下，第二显示区1002呈透明状态以使外界的光线穿过第二显示区1002；穿过第二显示区1002的光线可进入摄像机构中，从而可以实现摄像拍照功能。

可理解的是，第二显示区1002呈透明状态是指，人视觉感受为透明的，允许第二显示区1002中存在人视觉无法感受的非透明区域。

优选地，第二显示区1002为圆形，更优选地，第二显示区1002的半径为8.5mm～11mm。当然，可以理解的是，第二显示区1002还可以是其它形状，例如方形。

结合参见图5，显示屏1000包括驱动层组500、以及形成在驱动层组500上的OLED器件100。

其中，OLED器件100包括阳极层110、以及与阳极层110相对的阴极层120、位于阳极层110与阴极层120之间的子像素发光结构130、以及位于子像素发光结构130两侧的子像素隔离结构。子像素隔离结构同样位于阳极层110与阴极层120之间。子像素隔离结构包括形成在阳极层110上的像素限定层180以及位于像素限定层180上的隔离柱190。

其中，驱动层组500一般包括薄膜晶体管和电容器等器件。

在本实施方式中，具体地，驱动层组500包括位于最底下的基底层581、位于基底层581上的缓冲层582、形成在缓冲层582的半导体硅层530、覆盖在半导体硅层530上的栅绝缘层577(一般称为GI)、形成在栅绝缘层577的第一金属层520(一般称为M1层，可形成电容器的下电极以及薄膜晶体管的栅极)、覆盖第一金属层520的电介质层573(一般称为CI)、形成在电介质层573的第二金属层510(一般称为M2，可形成电容器的上电极)、覆盖在第二金属层510上的两层层间绝缘层571、572(一般称为ILD)、以及形成在层间绝缘层571、572上的第三金属层560(一般称为M3)。

以下以上述的驱动层组500具体结构为例进行说明，但是可以理解的是，本发明的驱动层组500并不局限于上述结构，还可以是其它结构，其它结构可以参照上述结构理解，在此不再赘述。

在本发明中，第一显示区1001按照正常的显示屏的结构设计进行设计。第二显示区1002进行特殊设计，以下详细对第二显示区1002的显示屏的结构设计进行说明。

第二显示区1002的部分隔离柱190缺失；每个缺失的隔离柱190’下方的像素限定层180设有开孔183。

重点参见图6，在显示屏1000的第二显示区1002设计时，对其中的一部分隔离柱190不设计。在第二显示区1002中，可以是一个子像素单元对应的多个隔离柱中的一个隔离柱190缺失，亦或两个或以上的隔离柱190缺失。但是，可以理解的是，不能将一个子像素单元所对应的隔离柱190全部缺失。

优选地，第二显示区1002的若干隔离柱190间隔缺失，也就是说，相邻的缺失的隔离柱190’中间还有正常的隔离柱190存在。这样可以有利于尽量减少隔离柱缺190失所引起的不良影响。

更优选地，第二显示区的隔离柱190均匀缺失，也就是说，缺失的隔离柱190均匀分布在第二显示区1002中。这样可以更均匀地对光线进行增透，从而进一步提高成像效果。

重点参见回图5，开孔183的主要作用是，经缺失的隔离柱190’的光线，通过开孔183向下传播。

在本实施方式中，开孔183的横截面形状为方形。这样开孔183的横截面形状与像素限定层的形状保持一致，从而有利于形成开孔183。优选地，开孔183的尺寸为10～20um。

当然，可以理解的是，开孔183并不局限于方形，还可以是圆形、三角形等其它形状。

在另一优选实施方式中，平坦化层170中设有若干与像素限定层180的开孔183相对的通孔。这样可以进一步减小平坦化层170对光线的吸收，更有利于增透。更优选地，通孔与开孔183位置相对，大小形状相同。

当然，可以理解的是，本发明也可以不设置通孔。

在本实施方式中，缺失的隔离柱190’与开孔183、还有图形化的金属620对应设置，这样穿过触控面板600中表面等离子激元共振结构增透的光线，沿显示面板1000中缺失的隔离柱190’以及开孔183传播，最后穿过显示面板1000进入其背面的屏下光敏模块中；进一步减少显示面板1000对增透后的光线的吸收，进一步提高成像效果。

本发明的显示屏，由于采用本发明所提供的触控面板，故而可以使进入摄像机构的光线光强增加，从而提高成像效果。

本发明还提供了一种电子产品。

参见图7，一种电子产品3000，包括显示屏1000以及位于显示屏1000下方的屏下光敏模块2000；显示屏为本发明所提供的显示屏。屏下光敏模块2000，能感应穿过显示屏而照射进来的光。

优选地，屏下光敏模块2000为光电传感器、摄像头中至少其中之一。

优选地，电子产品为手机或平板电脑。当然，可以理解的是，本发明的电子产品并不局限于此，还可以是其它电子产品，例如带摄像头的电脑显示器。

当然，可以理解的是，电子产品除显示屏以及摄像机构之外，还包括其它部件，例如外壳、电源等。这些其它部件的具体结构以及连接关系，本领域技术人员可以根据实际情况设置，在此不再赘述。

本发明的电子产品，由于采用本发明所提供的触控面板，故而可以使进入摄像机构的光线光强增加，从而提高成像效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示屏，其特征在于，所述显示屏的触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构。

2.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述图形化金属的材质为Au、Ag、或Al中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的显示屏，其特征在于，所述图形化的金属为彼此靠拢排布的金属块。

4.根据权利要求3所述的显示屏，其特征在于，所述金属块的横截面呈椭圆形，优选地，所述多个椭圆形呈中心对称分布。

5.根据权利要求1到4中任一项所述的显示屏，其特征在于，所述图形化的金属的数量为四个。

6.根据权利要求5所述的显示屏，其特征在于，相邻所述椭圆形之间的间隙为10nm～50nm，优选地，所述图形化的金属的厚度为20nm～150nm。

7.根据权利要求6所述的显示屏，其特征在于，所述椭圆形的长轴为200nm～400nm，所述椭圆形的短轴为100nm～200nm。

8.一种触控面板，其特征在于，所述触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构。

9.一种电子产品，其特征在于，包括：

显示屏；

所述显示屏的触控面板包括走线层；所述走线层包括若干间隔设置的走线以及位于相邻所述走线之间的间隔区；至少部分所述间隔区内设有图形化的金属以形成表面等离子激元共振结构；

屏下光敏模块，能感应穿过所述显示屏而照射进来的光。

10.根据权利要求9所述的电子产品，其特征在于，所述屏下光敏模块为光电传感器、摄像头中至少其中之一。