CN109540971A - 导电膜均匀性检测装置、系统以及方法 - Google Patents

导电膜均匀性检测装置、系统以及方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及导电膜领域,具体而言,涉及一种导电膜均匀性检测装置、系统以及方法。该装置包括多个测试头、测试装置以及数据收集分析装置。多个测试头间隔设置,每一个测试头均被配置为用于接触在导电膜上。每一个测试头均电连接于测试装置,测试装置被配置为用于检测位于每相邻的两个测试头之间的导电膜的电性能参数。分析装置电连接于测试装置,用于根据测试装置测得的电性能参数判断导电膜的电阻均匀性。将多个测试头间隔设置,能够测量每相邻的两个测试头之间的导电膜的电性能,从而获得导电膜多个小区域的电性能参数,进而对整个导电膜的均匀性作出评价。该装置,操作简单,测试的准确性高。

Description

导电膜均匀性检测装置、系统以及方法
技术领域
本发明涉及导电膜领域,具体而言,涉及一种导电膜均匀性检测装置、系统以及方法。
背景技术
导电膜的稳定性对于其品质的影响很大。
目前导电膜的检测方法基本上是通过显微镜观察缺陷,或是取样通电检测,或是对产品进行高电压长时间测试,或是通电升温后通过红外成像仪进行观察。
另有的检测方法采有欧姆电阻测量仪对整个电热膜片电阻进行测量和比对,将阻值超过设定误差范围以外的电热膜片归类为不合格品。另有的一些检测方法采用石墨烯远红外电热膜片检测流水线上整个膜片的电阻。另有的一些检测方法采用自动测电阻机对电热膜片整片进行检测。
然而这些检测方法都是测试膜片整体的电阻值,并没有对膜片各个小区域电阻均匀性进行检测。这种检测方法存在的一些问题,例如很有可能存在部分电阻过高和部分电阻过低并存,但是整体电阻值与其他膜片差别不大;或者是局部有一个对整体电阻影响不大的小缺陷,但是整体电阻值合格,在这种情况下虽然可以通过检测,但是在该产品使用中有严重的安全隐患,极易产生局部过热烧毁,局部打火燃烧等事故。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例的目的在于提供一种导电膜均匀性检测装置、系统以及方法,能够检测导电膜电性能的均匀性,操作简单,便捷。
第一方面,本发明实施例提供了一种导电膜均匀性检测装置,包括:多个测试头,多个测试头间隔设置,每一个测试头均被配置为用于接触在导电膜上;测试装置,每一个测试头均电连接于测试装置,测试装置被配置为用于检测位于每相邻的两个测试头之间的导电膜的电性能参数;以及数据收集分析装置,电连接于测试装置,用于根据测试装置测得的电性能参数判断导电膜的电阻均匀性。
通过将多个测试头接触于导电膜,多个测试头均电连接于测试装置,能够对导电膜的电性能进行测试。将多个测试头间隔设置,能够测量每相邻的两个测试头之间的导电膜的电性能,从而获得导电膜多个小区域的电性能参数,进而对整个导电膜的均匀性作出评价。该装置,操作简单,测试的准确性高。
在本发明的一些具体实施例中,多个测试头排列成至少一排,每一排相邻的两个测试头之间等距离设置;当多个测试头排列成多排时,每相邻的两排测试头插空设置。
通过将多个测试头排列设置为至少一排,并且保证每一排中相邻的两个测试头之间的等距离设置,从而使得根据各个小区域的导电膜的电性能,判断整个导电膜的电性能的均匀性的更加容易,更加方便。
在本发明的一些具体实施例中,每一个测试头均连接有导杆,每一个导杆均电连接于测试装置。
通过设置导杆,使得每一个测试头能够更加方便地连接于测试装置,进而方便对每一个测试头分别控制。
在本发明的一些具体实施例中,导电膜均匀性检测装置还包括固定支架,每一个测试头均连接于固定支架上。
通过采用固定支架将多个测试头连接在一起,能够更加稳定地将相邻的两个测试头之间的距离调整一致。并且能够防止多个测试头之间产生位移。从而使得整个导电膜均匀性检测装置结构稳定,进而提高检测的准确性。
在本发明的一些具体实施例中,测试头由导电材料制成。
进一步可选地,测试头为导电线、导电片、导电块或者导电滚轮中的至少一个。
导电线、导电片、导电块或者导电滚轮均由导电材料制成,从而可以通过施加电压或电流来测试各个区域的导电膜的电压和电流大小。进而对整个导电膜的电性能均匀性作出评价。
第二方面,本发明实施例提供了一种导电膜均匀性测试系统,导电膜均匀性测试系统包括如上述的导电膜均匀性检测装置;以及输送装置,导电膜设置在输送装置上,用于输送导电膜;导电膜均匀性检测装置用于在导电膜输送的过程中对导电膜进行检测。
通过在导电膜连续生产的过程中,对导电膜的均匀性进行检测,能够有效地提高生产效率,及时地检测出生产的导电膜的品质。
在本发明的一些具体实施例中,导电膜均匀性测试系统还包括标记装置,标记装置电连接于数据收集分析装置;标记装置用于对导电膜均匀性检测装置检测到的导电膜的不合格区域进行标示。
通过设置标记装置,及时地将不合格区域的标示出来,从而能够方便后期进行筛选。
第三方面,本发明实施例提供了一种导电膜均匀性检测方法,包括将多个测试头间隔接触在导电膜上,测试装置检测位于每相邻的两个测试头之间的区域的导电膜的电性能参数并输送至数据收集分析装置,数据收集分析装置接收电性能参数并判断导电膜的电阻均匀性。
该方法能够有效地检测导电膜的均匀性,方便快捷,且检测效果好。
在本发明的一些具体实施例中,判断导电膜的电阻均匀性是将多个区域的电性能参数的差值最大值与平均值二者的比值与预设比值进行对比。
采用多个区域的电性能参数的差值最大值与平均值二者的比值与预设比值进行对比,可靠性高,对导电膜的均匀性的判断更加方便快捷。
在本发明的一些具体实施例中,多个测试头在导电膜传输的过程中进行检测;或者多个测试头连续通过导电膜的各个区域进行检测;或者多个测试头与导电膜以不同的速度同时运动,连续检测。均能够实现对导电膜均匀性的连续检测,检测效率高,检测效果好。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例提供的导电膜均匀性检测装置的测试头的一种排列方式的第一视角的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的导电膜均匀性检测装置的测试头的一种排列方式的第二视角的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的导电膜均匀性检测系统的第一视角的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的导电膜均匀性检测系统的第二视角的结构示意图。
图标:100-导电膜均匀性检测装置;01-固定支架;02-导杆;03-测试头;11-测试装置;12-输送装置;13-数据收集分析装置;14-标记装置;200-导电膜均匀性检测系统。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。同时,在本发明的描述中,术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明实施例的描述中,需要说明的是,术语“上”、“内”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
请参照图1-图4,本发明实施例提供了一种导电膜均匀性检测装置及系统。
进一步地,导电膜均匀性检测装置100其包括多个测试头03、测试装置11以及数据收集分析装置13。
进一步地,多个测试头03间隔设置,每一个测试头03均被配置为用于接触在导电膜上。
通过采用将多个测试头03接触在导电膜上对导电膜的电性能进行测试,能够有效地检测导电膜的电性能。
进一步地,参照图1,多个测试头03排列成至少一排,每一排相邻的两个测试头03之间等距离设置。
通过将多个测试头03等距离地设置在导电膜上,能够对导电膜的各个区域的电性能进行测试。
应理解,上述的每一个区域都是小于整个导电膜的总面积。可选地,每相邻的两个测试头03之间的区域的面积小于等于整个导电膜的总面积的1/10。进一步可选地,每相邻的两个测试头03之间的区域的面积小于等于整个导电膜的总面积的1/100。进一步可选地,每相邻的两个测试头03之间的区域的面积小于等于整个导电膜的总面积的1/10000。当所选择的每相邻的两个测试头03之间的区域的面积相对于整个导电膜的总面积越小使,测量的准确度越高,越能够检测到导电膜的微小缺陷。在实际使用时,可以根据实际的需要选择设置。
需要说明的是,在本发明其他可选的实施例中,前述的多个测试头03之间也可以采用不相等的距离进行设置。
进一步可选地,上述的测试头03的数量是不限定的。可选地,上述的测试头03的数量选择不少于11个,从而使得每相邻的两个测试头03之间形成的检测区域的数量不少于10个。进一步可选地,上述的检测区域的数量不少于100个。进一步地可选地,上述的检测区域的数量不少于10000个。应理解,上述的检测区域的设置根据实际的需要选择设置。
进一步地,在本发明其他可选的实施例中,上述的测试头03选择排列成多排时,每相邻的两排测试头03插空设置。
请参照图2,测试头03选择排列成两排为例。当第一排的测试头03依次间隔设置后,每相邻的两个测试头03之间形成一个检测区域。此时,再设置第二排测试头03,第二排的每一个测试头03相对于第一排的每一个测试头03插空设置。换句话说,第二排的每一个测试头03均对应设置在第一排的每相邻的两个测试头03之间的区域内。从而当该导电膜均匀性检测装置100对导电膜进行测试时,能够覆盖相邻测试头03所占区域,从而进一步地提高检测的精准度,检测到导电膜的微小缺陷。
应理解,当上述的测试头03设置更多的排数时,采用上述的排列规则进行排列。
在本发明其他可选的实施例中,上述的多个测试头03也可以选择矩阵式排列,也能够实现对导电膜的各个区域的电性能的测试。
进一步可选地,由于测试装置11和数据收集分析装置13的测试和记录是有时间间隔的,比如100毫秒。因此当连续检测的时候,如果膜运动速度过快,则会有部分横条区域无法被检测到。因此,在本发明其他可选的实施例中,可以根据实际需要选择重复设置上述的测试头组单元。例如,当测试头03设置为一排时,可以并排再设置一个相同的单元;当测试头03设置为两排时,可以并排再设置一个两排的单元。当设置其他排数的测试单元时,根据前述的排列规则设置。
进一步地,每一个测试头03均连接有导杆02,每一个导杆02均电连接于测试装置11。
通过采用导杆02将每一个测试头03电连接于测试装置11,使得测试头03与测试装置11的连接更加地方便。
进一步地,导电膜均匀性检测装置100还包括固定支架01,每一个测试头03均连接于固定支架01上。
请继续参照图1,通过采用固定支架01将多个测试头03连接在一起,能够更加稳定地将相邻的两个测试头03之间的距离调整一致。并且能够防止多个测试头03之间产生位移。从而使得整个导电膜均匀性检测装置100结构稳定,进而提高检测的准确性。
进一步可选地,上述的固定支架01选择细长状的杆体,沿多个测试头03依次排列的方向水平设置,且相交与每一个测试头03,从而方便地将每一个测试头03固定在该固定支架01上。不仅连接方便,而且能够有效地保证每一个测试头03之间的距离在预设的要求内。当对导电膜进行连续测试时,在导电膜的传输过程中,或者当该导电膜均匀性检测装置100运动时,或者导电膜和该导电膜均匀性检测装置100同时运动时,均能够保证每一个测试头03在预设要求的位置上,进而保证测试的准确性。
进一步地,上述的测试头03由具有导电性能的材料制成。可以通过施加电压或电流来测试各个区域的导电膜的电压和电流大小。每一个测试头03与电性能测试装置11和数据收集分析装置13电连接,因此可以分别控制每一个测试头03进行不同的工作。
进一步可选地,上述的测试头03可以选择导电线、导电片、导电块或者导电滚轮中的至少一个。
进一步可选的,上述的测试头03选择导电滚轮。当导电膜卷对卷连续生产时,导电膜均匀性检测装置100对导电膜进行连续测试,导电滚轮对导电膜的影响较小,从而能够进一步地提高该导电膜均匀性检测装置100检测的准确性。
进一步地,每一个测试头03均电连接于电性能测试装置11,电性能测试装置11被配置为用于检测位于每相邻的两个测试头03之间的导电膜的电性能参数。
进一步地,电性能参数包括电阻、电压、电势、电流中的一种或多种。可以根据实际的需要进行选择。
如果整个导电膜是均匀的,其各个点的面电阻应该相等。若在两端施加一个电势差,其单位距离的压降应该相等,单位截面积内的电流应该相等。因此通过连续测量多个相邻小区域内的电性能参数,即可推断出其各个小区域的导电性能是否一致,从而可以判断该导电膜的均匀性是否良好。
进一步地,判断导电膜的均匀性是以电性能参数的差值最大值与平均值的比值来评价的。例如,测量了一张膜中10000个小区域的面电阻率,平均为50Ω,最小的为49Ω,最大的为80Ω,则其比值为(80-50)/50=0.6或60%。通过将0.6或60%与预设值进行对比,判断电阻膜的均匀性。
在本发明可选的实施例中,可以通过测量电阻来测定导电膜的均匀性。具体而言,可以通过测试相邻测试头03间的电阻,与预设值进行比对。
在本发明其他可选的实施例中,可以通过测量电势差来测定导电膜的均匀性。具体而言,可以通过在测试区域两侧加上一个电压,每个测试头03记录所测位置的电势,并计算相邻测试头03间的电势差,与电势差设定值进行比对。例如,设定值为5%,导电膜宽度为40厘米,每隔4厘米设置一个测试头03,共11个测试头03。最外侧施加40伏电压,测量11个测试头03的相邻两个的电压差应该若都为4伏,则说明该区域均匀性良好;若误差超过5%,则认为该区域均匀性不好。
本发明的一些实施例还提供了一种导电膜均匀性测试系统。该导电膜均匀性测试系统包括前述的导电膜均匀性检测装置100以及输送装置12。
具体而言,导电膜设置在输送装置12上,用于输送导电膜;导电膜均匀性检测装置100用于在导电膜输送的过程中对导电膜进行检测。
需要说明的是,上述的输送装置12可以选择本领域常见的导电膜连续生产用的输送装置。可选地,流水线传送带等。
通过在导电膜连续生产的过程中,对导电膜的均匀性进行检测,能够有效地提高生产效率,及时地检测出生产的导电膜的品质。
进一步地,导电膜均匀性测试系统还包括标记装置14,标记装置14电连接于数据收集分析装置13;标记装置14用于对导电膜均匀性检测装置100检测到的导电膜的不合格区域进行标示。
通过设置标记装置14,及时地将不合格区域的标示出来,从而能够方便后期进行筛选。
应理解,上述的标记装置14可以选择本领域常见的能够对电阻膜进行标识的装置。
本发明的一些实施例还提供了一种导电膜均匀性检测方法。
具体而言,包括以下步骤:将多个测试头间隔接触在导电膜上,测试装置检测位于每相邻的两个测试头之间的区域的导电膜的电性能参数并输送至数据收集分析装置,数据收集分析装置接收电性能参数并判断导电膜的电阻均匀性。
进一步地,判断导电膜的电阻均匀性是将多个区域的电性能参数的差值最大值与平均值二者的比值与预设比值进行对比。
进一步地,多个测试头在导电膜传输的过程中进行检测;或者多个测试头连续通过导电膜的各个区域进行检测;或者多个测试头与导电膜以不同的速度同时运动,连续检测。
该方法能够有效地检测导电膜的均匀性,方便快捷,且检测效果好。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

Claims (10)

1.一种导电膜均匀性检测装置,其特征在于,包括:
多个测试头,多个所述测试头间隔设置,每一个所述测试头均被配置为用于接触在导电膜上;
测试装置,每一个所述测试头均电连接于所述测试装置,所述测试装置被配置为用于检测位于每相邻的两个所述测试头之间的所述导电膜的电性能参数;以及
数据收集分析装置,电连接于所述测试装置,用于根据所述测试装置测得的所述电性能参数判断所述导电膜的电阻均匀性。
2.如权利要求1所述的导电膜均匀性检测装置,其特征在于,
多个所述测试头排列成至少一排,每一排相邻的两个所述测试头之间等距离设置;
当多个所述测试头排列成多排时,每相邻的两排所述测试头插空设置。
3.如权利要求2所述的导电膜均匀性检测装置,其特征在于,
每一个所述测试头均连接有导杆,每一个所述导杆均电连接于所述测试装置。
4.如权利要求2所述的导电膜均匀性检测装置,其特征在于,
所述导电膜均匀性检测装置还包括固定支架,每一个所述测试头均连接于所述固定支架。
5.如权利要求1-4任一项所述的导电膜均匀性检测装置,其特征在于,
所述测试头由导电材料制成。
6.一种导电膜均匀性测试系统,其特征在于,包括:
输送装置,用于输送导电膜;以及
如权利要求1-5任一项所述的导电膜均匀性检测装置;所述导电膜均匀性检测装置用于在所述导电膜输送的过程中对所述导电膜进行检测。
7.如权利要求6所述的导电膜均匀性测试系统,其特征在于,
所述导电膜均匀性测试系统还包括标记装置,所述标记装置电连接于所述数据收集分析装置;所述标记装置用于对所述导电膜均匀性检测装置检测到的所述导电膜的不合格区域进行标示。
8.一种导电膜均匀性检测方法,其特征在于,所述方法包括:
将多个测试头间隔接触在导电膜上,测试装置检测位于每相邻的两个所述测试头之间的所述导电膜的电性能参数并输送至数据收集分析装置,所述数据收集分析装置接收所述电性能参数并判断所述导电膜的电阻均匀性。
9.如权利要求8所述的导电膜均匀性检测方法,其特征在于,
判断所述导电膜的电阻均匀性是将检测到的多个所述电性能参数的差值的最大值与多个所述电性能参数的平均值二者的比值与预设比值进行对比;
当所述比值在所述预设比值范围以外时,所述导电膜的电阻均匀性为不合格。
10.如权利要求8所述的导电膜均匀性检测方法,其特征在于,
多个所述测试头在所述导电膜传输的过程中进行检测;或者
多个所述测试头连续通过所述导电膜的各个区域进行检测;或者
多个所述测试头与所述导电膜以不同的速度同时运动,连续检测。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110187288A (zh) * 2019-05-05 2019-08-30 超威电源有限公司 测试铅酸蓄电池中铅膏混合均匀性的装置和方法
CN111768920A (zh) * 2020-07-30 2020-10-13 西北有色金属研究院 一种表征Bi系高温超导线材或带材加工均匀性的方法
CN117368281A (zh) * 2023-10-26 2024-01-09 浙江大学 一种碳纤维复合材料原位增材制造缺陷实时监测方法及设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102564288A (zh) * 2011-12-16 2012-07-11 东莞中逸电子有限公司 测量触摸屏上导电膜的方法
JP2014044189A (ja) * 2012-08-03 2014-03-13 Kimoto Gunsei プローブ及びこれを用いたプローブカード
CN105223420A (zh) * 2015-09-28 2016-01-06 深圳市华星光电技术有限公司 用于测量接触电阻的tft及接触电阻的测量方法
CN105790712A (zh) * 2016-04-01 2016-07-20 中利腾晖光伏科技有限公司 一种用于电阻测试的金属电极板
WO2016158568A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社エンプラス 電気接触子及び電気部品用ソケット
CN108226219A (zh) * 2017-12-13 2018-06-29 衢州学院 一种薄膜电阻产热均匀性的检测方法
CN108802102A (zh) * 2018-07-18 2018-11-13 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 一种镀膜质量的检测方法及系统
CN108957275A (zh) * 2018-06-29 2018-12-07 韩华新能源(启东)有限公司 硅片导电类型判别方法及基于该判别方法的判别设备和测试仪

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102564288A (zh) * 2011-12-16 2012-07-11 东莞中逸电子有限公司 测量触摸屏上导电膜的方法
JP2014044189A (ja) * 2012-08-03 2014-03-13 Kimoto Gunsei プローブ及びこれを用いたプローブカード
WO2016158568A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社エンプラス 電気接触子及び電気部品用ソケット
CN105223420A (zh) * 2015-09-28 2016-01-06 深圳市华星光电技术有限公司 用于测量接触电阻的tft及接触电阻的测量方法
CN105790712A (zh) * 2016-04-01 2016-07-20 中利腾晖光伏科技有限公司 一种用于电阻测试的金属电极板
CN108226219A (zh) * 2017-12-13 2018-06-29 衢州学院 一种薄膜电阻产热均匀性的检测方法
CN108957275A (zh) * 2018-06-29 2018-12-07 韩华新能源(启东)有限公司 硅片导电类型判别方法及基于该判别方法的判别设备和测试仪
CN108802102A (zh) * 2018-07-18 2018-11-13 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 一种镀膜质量的检测方法及系统

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
关自强: "ITO薄膜方块电阻测试方法的探讨", 《真空》 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110187288A (zh) * 2019-05-05 2019-08-30 超威电源有限公司 测试铅酸蓄电池中铅膏混合均匀性的装置和方法
CN111768920A (zh) * 2020-07-30 2020-10-13 西北有色金属研究院 一种表征Bi系高温超导线材或带材加工均匀性的方法
CN117368281A (zh) * 2023-10-26 2024-01-09 浙江大学 一种碳纤维复合材料原位增材制造缺陷实时监测方法及设备
CN117368281B (zh) * 2023-10-26 2024-04-12 浙江大学 一种碳纤维复合材料原位增材制造缺陷实时监测方法及设备

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