CN109521508B - 一种带有防窥膜材的虚像成像系统 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及虚像成像系统技术领域，且公开了一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组、成像系统中的镜片、观察者位置、光线轨迹、出射光线和防窥膜，所述像源模组发出的成像光线由成像系统中的镜片进行反射，所述光线轨迹即为成像光线，所述光线轨迹通过成像系统中的镜片反射至观察者位置，所述像源模组包含出射光线。本发明通过防窥膜的设置，利用有防窥属性的膜材，对像源光线进行部分过滤，以控制出射光线方向，即可阻挡像源模组所散发出的杂散光，从而对像源出射光线的方向进行限制，从而达到对出射光线进行过滤的效果，进而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求，提升全系统的光学成像质量。
Description
技术领域
本发明涉及虚像成像系统技术领域，具体为一种带有防窥膜材的虚像成像系统。
背景技术
虚像，是指由物体发出的光线，经过反射或折射，其反向延长线的交点的集合。首先，虚像是由实际光线的反向延长线汇聚而成；其次，虚像不能在该位置的光屏上呈现，只能通过光学元件观察。有以上特性的成像系统，叫做虚像成像系统。典型的虚像成像系统有：显微镜，望远镜，抬头显示器、增强现实显示器、头盔显示器等。通过这些系统直接观察，或者通过目镜观察到的图像，均为虚像。
在特定的虚像系统中，由于对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求，需要对像源发出的光线进行过滤光，当前成像系统中的光线走向分布如图1所示，包括像源模组10、成像系统中的镜片20和观察者位置30，当像源模组10产生光线由成像镜片20进行折射，所成的像传递至观察者位置30，从而达到观察成像的目的，但是发出的像源光线，会向各个方向射出，而不只是像图1中的成像光线进行单一射出。因此，会对系统的可用性和目视图像的质量造成影响，因此，需要应用防窥膜，对像源的出射光线方向进行限制，从而达到对出射光线进行过滤的效果，进而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求。
发明内容
本发明的目的在于提供了一种带有防窥膜材的虚像成像系统，达到了对像源发出的光线进行过滤光，从而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线特殊要求的目的。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组、成像系统中的镜片、观察者位置、光线轨迹、出射光线和防窥膜，所述像源模组发出的成像光线由成像系统中的镜片进行反射，所述光线轨迹即为成像光线，所述光线轨迹通过成像系统中的镜片反射至观察者位置，所述像源模组包含出射光线，且出射光线的轨迹方向与光线轨迹的轨迹方向相反，所述防窥膜粘贴在像源模组正前方的外表面上。
所述防窥膜包括基膜、晶格光栅、内凹陷区、晶格凸起区、胶粘层、AG硬化层、保护膜、压敏粘胶层和PET层，所述晶格光栅位于基膜的内部，所述晶格光栅的数量为多个，且多个晶格光栅之间等距离均匀分布在基膜的内部，所述内凹陷区位于晶格光栅的左侧，所述晶格凸起区位于晶格光栅的右侧，所述基膜的顶部与胶粘层的底部通过粘胶连接，所述胶粘层的顶部与AG硬化层的底部通过粘胶连接，所述AG硬化层的顶部与保护膜的底部平铺覆盖，所述基膜的底部与压敏胶粘层的顶部粘接，所述压敏胶粘层的底部通过粘胶与PET层的顶部粘接。
优选的，所述出射光线即为成像系统中所产生的杂散光。
优选的，所述晶格光栅的顶部为弧面设置，且晶格光栅顶部弧面的曲率半径为1～30μm。
优选的，所述晶格光栅的竖向截面形状为等腰梯形，且两个晶格光栅之间的距离为0.001cm。
优选的，所述内凹陷区的数量为三个，且三个内凹陷区等距离均匀分布。
优选的，所述内凹陷区的谷底与晶格光栅左侧的最小垂直距离为6μm。
优选的，所述晶格凸起区的数量为三个，且晶格凸起区与内凹陷区之间相对分布。
优选的，所述晶格凸起区的峰值与晶格光栅右侧的最小垂直距离为6μm，且晶格凸起区与内凹陷区之间的差值最大范围为±0.3μm。
本发明提供了一种带有防窥膜材的虚像成像系统。具备以下有益效果：
（1）、本发明由于对像源模组进行改进，通过防窥膜的设置，利用有防窥属性的膜材，对像源光线进行部分过滤，以控制出射光线方向，即可阻挡像源模组所散发出的杂散光，从而对像源出射光线的方向进行限制，从而达到对出射光线进行过滤的效果，进而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求，提升全系统的光学成像质量。
（2）、本发明由于对防窥膜进行改进，晶格光栅的竖向截面形状为等腰梯形的设定，利用等腰梯形的物理性质，能够使超细微百叶窗在受到温度时，提高超细微百叶窗的稳定性，避免了设备内部所产生的热量使晶格光栅出现形变现象的发生，而且由于内凹陷区和晶格凸起区的设置，能够使光线在进入整个防窥膜时，反复对光线首先进行集中收集折射，然后通过晶格凸起区的曲面率进行分散折射，从而使像源模组所产生的光线进行反复调整过滤，进而达到了对出射光线的轨迹方向进行限制。
附图说明
图1为当前成像系统中的光线走向分布示意图；
图2为本发明结构在成像系统中的光线走向分布示意图；
图3为本发明结构防窥膜的分解示意图；
图4为本发明结构晶格光栅的竖向截面图。
图中：1像源模组、2成像系统中的镜片、3观察者位置、4光线轨迹、5出射光线、6防窥膜、61基膜、62晶格光栅、621内凹陷区、622晶格凸起区区、63胶粘层、64 AG硬化层、65保护膜、66压敏胶粘层、67 PET层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
如图1-4所示，本发明提供一种技术方案：一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组1、成像系统中的镜片2、观察者位置3、光线轨迹4、出射光线5和防窥膜6，像源模组1发出的成像光线由成像系统中的镜片2进行反射，光线轨迹4即为成像光线，光线轨迹4通过成像系统中的镜片2反射至观察者位置3，像源模组1包含出射光线5，且出射光线5的轨迹方向与光线轨迹4的轨迹方向相反，防窥膜6粘贴在像源模组1正前方的外表面上，出射光线5即为成像系统中所产生的杂散光。
防窥膜6包括基膜61、晶格光栅62、内凹陷区621、晶格凸起区622、胶粘层63、AG硬化层64、保护膜65、压敏粘胶层66和PET层67，晶格光栅62位于基膜61的内部，晶格光栅62的数量为多个，且多个晶格光栅62之间等距离均匀分布在基膜61的内部，内凹陷区621位于晶格光栅62的左侧，晶格凸起区622位于晶格光栅62的右侧，基膜61的顶部与胶粘层63的底部通过粘胶连接，胶粘层63的顶部与AG硬化层64的底部通过粘胶连接，AG硬化层64的顶部与保护膜65的底部平铺覆盖，基膜61的底部与压敏胶粘层66的顶部粘接，压敏胶粘层66的底部通过粘胶与PET层的顶部粘接，晶格光栅62的顶部为弧面设置，且晶格光栅62顶部弧面的曲率半径为1～30μm，晶格光栅62的竖向截面形状为等腰梯形，且两个晶格光栅62之间的距离为0.001cm，内凹陷区621的数量为三个，且三个内凹陷区621等距离均匀分布，内凹陷区621的谷底与晶格光栅62左侧的最小垂直距离为6μm，晶格凸起区622的数量为三个，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间相对分布，晶格凸起区622的峰值与晶格光栅62右侧的最小垂直距离为6μm，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间的差值最大范围为±0.3μm。
综上可得：本发明由于对像源模组1进行改进，通过防窥膜6的设置，利用有防窥属性的膜材，对像源光线进行部分过滤，以控制出射光线方向，即可阻挡像源模组1所散发出的杂散光，从而对像源出射光线5的方向进行限制，从而达到对出射光线进行过滤的效果，进而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求，提升全系统的光学成像质量，本发明由于对防窥膜6进行改进，晶格光栅62的竖向截面形状为等腰梯形的设定，利用等腰梯形的物理性质，能够使超细微百叶窗在受到温度时，提高超细微百叶窗的稳定性，避免了设备内部所产生的热量使晶格光栅62出现形变现象的发生，而且由于内凹陷区621和晶格凸起区622的设置，能够使光线在进入整个防窥膜6时，反复对光线首先进行集中收集折射，然后通过晶格凸起区622的曲面率进行分散折射，从而使像源模组1所产生的光线进行反复调整过滤，进而达到了对出射光线5的轨迹方向进行限制。
实施例2
虚像成像系统的像源模组1可以是有偏光性的像源，如液晶屏幕，也可以是没有偏光性的像源。
一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组1、成像系统中的镜片2、观察者位置3、光线轨迹4、出射光线5和防窥膜6，像源模组1发出的成像光线由成像系统中的镜片2进行反射，光线轨迹4即为成像光线，光线轨迹4通过成像系统中的镜片2反射至观察者位置3，像源模组1包含出射光线5，且出射光线5的轨迹方向与光线轨迹4的轨迹方向相反，防窥膜6粘贴在像源模组1正前方的外表面上，出射光线5即为成像系统中所产生的杂散光。
防窥膜6包括基膜61、晶格光栅62、内凹陷区621、晶格凸起区622、胶粘层63、AG硬化层64、保护膜65、压敏粘胶层66和PET层67，晶格光栅62位于基膜61的内部，晶格光栅62的数量为多个，且多个晶格光栅62之间等距离均匀分布在基膜61的内部，内凹陷区621位于晶格光栅62的左侧，晶格凸起区622位于晶格光栅62的右侧，基膜61的顶部与胶粘层63的底部通过粘胶连接，胶粘层63的顶部与AG硬化层64的底部通过粘胶连接，AG硬化层64的顶部与保护膜65的底部平铺覆盖，基膜61的底部与压敏胶粘层66的顶部粘接，压敏胶粘层66的底部通过粘胶与PET层的顶部粘接，晶格光栅62的顶部为弧面设置，且晶格光栅62顶部弧面的曲率半径为1～30μm，晶格光栅62的竖向截面形状为等腰梯形，且两个晶格光栅62之间的距离为0.001cm，内凹陷区621的数量为三个，且三个内凹陷区621等距离均匀分布，内凹陷区621的谷底与晶格光栅62左侧的最小垂直距离为6μm，晶格凸起区622的数量为三个，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间相对分布，晶格凸起区622的峰值与晶格光栅62右侧的最小垂直距离为6μm，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间的差值最大范围为±0.3μm。
实施例3
根据不同的虚像成像系统的设计和要求，可以使用不同过滤光线属性的防窥膜。
一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组1、成像系统中的镜片2、观察者位置3、光线轨迹4、出射光线5和防窥膜6，像源模组1发出的成像光线由成像系统中的镜片2进行反射，光线轨迹4即为成像光线，光线轨迹4通过成像系统中的镜片2反射至观察者位置3，像源模组1包含出射光线5，且出射光线5的轨迹方向与光线轨迹4的轨迹方向相反，防窥膜6粘贴在像源模组1正前方的外表面上，出射光线5即为成像系统中所产生的杂散光。
防窥膜6包括基膜61、晶格光栅62、内凹陷区621、晶格凸起区622、胶粘层63、AG硬化层64、保护膜65、压敏粘胶层66和PET层67，晶格光栅62位于基膜61的内部，晶格光栅62的数量为多个，且多个晶格光栅62之间等距离均匀分布在基膜61的内部，内凹陷区621位于晶格光栅62的左侧，晶格凸起区622位于晶格光栅62的右侧，基膜61的顶部与胶粘层63的底部通过粘胶连接，胶粘层63的顶部与AG硬化层64的底部通过粘胶连接，AG硬化层64的顶部与保护膜65的底部平铺覆盖，基膜61的底部与压敏胶粘层66的顶部粘接，压敏胶粘层66的底部通过粘胶与PET层的顶部粘接，晶格光栅62的顶部为弧面设置，且晶格光栅62顶部弧面的曲率半径为1～30μm，晶格光栅62的竖向截面形状为等腰梯形，且两个晶格光栅62之间的距离为0.001cm，内凹陷区621的数量为三个，且三个内凹陷区621等距离均匀分布，内凹陷区621的谷底与晶格光栅62左侧的最小垂直距离为6μm，晶格凸起区622的数量为三个，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间相对分布，晶格凸起区622的峰值与晶格光栅62右侧的最小垂直距离为6μm，且晶格凸起区622与内凹陷区621之间的差值最大范围为±0.3μm。
本发明由于对像源模组1进行改进，通过防窥膜6的设置，利用有防窥属性的膜材，对像源光线进行部分过滤，以控制出射光线方向，即可阻挡像源模组1所散发出的杂散光，从而对像源出射光线5的方向进行限制，从而达到对出射光线进行过滤的效果，进而满足一些对入射光线、出射光线、外界干扰光线的特殊要求，提升全系统的光学成像质量，本发明由于对防窥膜6进行改进，晶格光栅62的竖向截面形状为等腰梯形的设定，利用等腰梯形的物理性质，能够使超细微百叶窗在受到温度时，提高超细微百叶窗的稳定性，避免了设备内部所产生的热量使晶格光栅62出现形变现象的发生，而且由于内凹陷区621和晶格凸起区622的设置，能够使光线在进入整个防窥膜6时，反复对光线首先进行集中收集折射，然后通过晶格凸起区622的曲面率进行分散折射，从而使像源模组1所产生的光线进行反复调整过滤，进而达到了对出射光线5的轨迹方向进行限制。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (3)
1.一种带有防窥膜材的虚像成像系统，包括像源模组(1)、成像系统中的镜片(2)、观察者位置(3)、光线轨迹(4)、出射光线(5)和防窥膜(6)，其特征在于：所述像源模组(1)发出的成像光线由成像系统中的镜片(2)进行反射，所述光线轨迹(4)即为成像光线，所述光线轨迹(4)通过成像系统中的镜片(2)反射至观察者位置(3)，所述像源模组(1)包含出射光线(5)，且出射光线(5)的轨迹方向与光线轨迹(4)的轨迹方向相反，所述防窥膜(6)粘贴在像源模组(1)正前方的外表面上；
所述防窥膜(6)包括基膜(61)、晶格光栅(62)、内凹陷区(621)、晶格凸起区(622)、胶粘层(63)、AG硬化层(64)、保护膜(65)、压敏粘胶层(66)和PET层(67)，所述晶格光栅(62)位于基膜(61)的内部，所述晶格光栅(62)的数量为多个，且多个晶格光栅(62)之间等距离均匀分布在基膜(61)的内部，所述内凹陷区(621)位于晶格光栅(62)的左侧，所述晶格凸起区(622)位于晶格光栅(62)的右侧，所述基膜(61)的顶部与胶粘层(63)的底部通过粘胶连接，所述胶粘层(63)的顶部与AG硬化层(64)的底部通过粘胶连接，所述AG硬化层(64)的顶部与保护膜(65)的底部平铺覆盖，所述基膜(61)的底部与压敏胶粘层(66)的顶部粘接，所述压敏胶粘层(66)的底部通过粘胶与PET层的顶部粘接；所述晶格光栅(62)的顶部为弧面设置，且晶格光栅(62)顶部弧面的曲率半径为1～30μm；所述晶格光栅(62)的竖向截面形状为等腰梯形，且两个晶格光栅(62)之间的距离为0.001cm；所述内凹陷区(621)的数量为三个，且三个内凹陷区(621)等距离均匀分布；所述内凹陷区(621)的谷底与晶格光栅(62)左侧的最小垂直距离为6μm；所述晶格凸起区(622)的数量为三个，且晶格凸起区(622)与内凹陷区(621)之间相对分布。
2.根据权利要求1所述的一种带有防窥膜材的虚像成像系统，其特征在于：所述出射光线(5)即为成像系统中所产生的杂散光。
3.根据权利要求1所述的一种带有防窥膜材的虚像成像系统，其特征在于：所述晶格凸起区(622)的峰值与晶格光栅(62)右侧的最小垂直距离为6μm，且晶格凸起区(622)与内凹陷区(621)之间的差值最大范围为±0.3μm。
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