CN109457225A - 电池材料镀膜设备 - Google Patents

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CN109457225A CN201811654489.9A CN201811654489A CN109457225A CN 109457225 A CN109457225 A CN 109457225A CN 201811654489 A CN201811654489 A CN 201811654489A CN 109457225 A CN109457225 A CN 109457225A
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Abstract

本发明公开一种电池材料镀膜设备,该电池材料镀膜设备包括外壳、靶材置放装置、样品台、挡板和驱动装置。靶材置放装置设置于所述外壳内,用以置放电池材料;样品台设置于所述外壳内;挡板位于所述样品台与靶材置放装置之间,所述挡板上设置有在上下向将所述挡板贯穿的通槽;驱动装置包括动力源和传动装置,所述动力源通过所述传动装置连接所述挡板,以驱动所述挡板平行于所述样品台移动。本发明的技术方案可以把两种电池材料有效的沉积在一起,得到两种材料从低到高不同成分配比的变化,电池材料中间体的制备效率大大提升。

Description

电池材料镀膜设备
技术领域
本发明涉及电池技术领域,特别涉及一种电池材料镀膜设备。
背景技术
目前常用的全固态薄膜锂电池,电池材料都是采用镀膜方法一层一层的沉积上去的。但是制备出来的薄膜就是材料均一的成分。通常,对于电极薄膜材料本身的研发,需要尝试不同的材料混合,材料的成分不一样,比例不一样的组合。这样的尝试按照现有的方法和设备非常耗时,效率低下。
对于现有全固态薄膜锂电池,薄膜的电池材料一般都是钴酸锂(LiCoO2),或现在比较流行的三元材料(Li(NiCoMn)O2)。但是如果我们要进一步的研发新的电池材料,比如尝试不同电池材料成分之间的组合,不同的比例以此来开发新的材料体系,就需要把不同的材料成分按照不同的比例来进行测试。
比如我们想要把锰酸锂(LiMnOx)和镍酸锂(LiNiOx)组合开发新的材料体系。按照现有的传统方法,就要沉积LiMnOx的薄膜,然后在沉积LiNiOx薄膜组合在一起(或者先沉积LiNiOx薄膜,再沉积LiMnOx的薄膜),沉积好这个混合薄膜(电池材料测试中间体)后,再来测试材料的性能。但是一旦这样两种薄膜沉积出来,他们的化学成分和比例是固定的,无法变化的。如果要尝试新的配比,那就需要再次沉积这样的两种薄膜混合体,再来测试其性能。只有这样重复多次,做多次的沉积及样品的准备,才可能找到最佳的成分比,如此效率极其低下。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种电池材料镀膜设备,旨在提高符合条件的电池材料中间体的制备效率。
为实现上述目的,本发明提出的电池材料镀膜设备包括:
外壳;
靶材置放装置,设置于所述外壳内,用以置放电池材料;
样品台,设置于所述外壳内;
挡板,位于所述样品台与所述靶材置放装置之间,所述挡板设置有在上下向将所述挡板贯穿的通槽;
驱动装置,包括动力源和传动装置,所述动力源通过所述传动装置连接所述挡板,以驱动所述挡板平行于所述样品台移动。
优选地,所述通槽呈长方形设置,所述驱动装置用以驱动所述挡板沿所述通槽的长度方向移动。
优选地,所述挡板具有旋转中心,所述通槽呈以所述旋转中心为圆心的弧形设置,所述驱动装置用以驱动所述挡板沿所述旋转中心旋转。
优选地,所述挡板背向所述靶材置放装置的表面安装有定位杆,所述定位杆的一端连接所述旋转中心,所述定位杆的另一端连接所述样品台,所述定位杆的与所述挡板转动配合或/及所述定位杆与所述样品台转动配合。
优选地,定位杆的与所述挡板的旋转中心固定连接,所述定位杆与所述样品台转动配合,所述传动装置连接所述定位杆,所述动力源通过所述传动装置驱动所述定位杆旋转。
优选地,所述挡板背向所述靶材置放装置的表面设置有以所述旋转中心为圆心的弧形齿条,所述传动装置包括主动轮,所述主动轮与所述弧形齿条啮合。
优选地,所述传动装置还包括至少一传动轮,所述传动轮与所述弧形齿条啮合,并且,所述传动轮与所述主动轮之间的圆心角大于90°。
优选地,所述弧形齿条位于所述通槽的外侧。
优选地,所述驱动装置包括电机和减速箱,所述电机通过所述减速箱连接所述挡板。
优选地,所述电池材料镀膜设备还包括靶材轰击装置,所述靶材轰击装置为脉冲激光源,所述脉冲激光源安装于所述外壳,用以轰击靶材;或者
所述靶材轰击装置为溅射气体源,所述溅射气体源安装于所述外壳,所述溅射气体源通过溅射氩气轰击靶材;或者
所述靶材轰击装置为电子束蒸发枪,所述电子束蒸发枪安装于所述外壳内,用以轰击靶材。
优选地,所述电池材料镀膜设备还包括真空源,所述真空源安装于所述外壳。
优选地,所述电池材料镀膜设备还包括氧气源,所述氧气源安装于所述外壳。
优选地,所述电池材料镀膜设备还包括加热装置,所述加热装置安装于所述样品台,用以给置放于所述样品台的衬底加热。
优选地,所述挡板与所述样品台之间的间距在0.1mm~10mm之间。
优选地,所述靶材置放装置的数量为两个或两个以上。
本发明的技术方案可以把两种电池材料有效的沉积在一起,得到两种材料从低到高不同成分配比的变化,在进行电极测试时,可以快速找到两种电池材料的最佳配比,也就是只需要一次制备该电池材料中间体,即可从该电池材料中间体中找到两种材料的最佳配比,也即符合条件的电池材料中间体的制备效率大大提升。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明电池材料镀膜设备一实施例的结构示意图;
图2为本发明电池材料镀膜设备另一实施例的结构示意图;
图3为图2中电池材料镀膜设备工作状态示意图(开始镀膜);
图4为接续图3中电池材料镀膜设备另一工作状态示意图(镀完第一电极层);
图5为接续图4中电池材料镀膜设备又一工作状态图(挡板的左边沿与第一电极层的右边沿对齐);
图6为接续图5中镀于衬底上的电池材料测试中间体的结构示意图(镀完第二电极层);
图7为第一电极层镀膜前,挡板与衬底的工况图;
图8为镀完第一电极层时的工况图;
图9为准备镀第二电极层时的工况图;
图10为镀完第二电极层时的工况图;
图11为本发明电池材料镀膜设备又一实施例的结构示意图;
图12为图11中挡板开始镀膜前的工况图;
图13为图11中挡板镀完第一电极层时的工况图;
图14为第一电极层的结构示意图,其中前者为俯视图,后者为前者沿I-I线的剖视图;
图15为图11中挡板镀完第二电极层时的工况图;
图16为制备的电池材料测试中间体的结构示意图,其中前者为俯视图,后者为前者沿II-II线的剖视图;
图17为图10和图16中镀于衬底上的电池材料测试中间体的结构示意图(其中,边料已被去除);
图18为图17中两电极层中第二电极层所占百分配比与两电极点的位置对应图。
附图标号说明:
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
本发明实提出了一种电池材料镀膜设备。下述内容将结合附图进行详细介绍。所述电池材料可以是正极材料、负极材料、电解质材料、集流体材料或保护层材料。
参照图1和图2,本发明提出一种电池材料镀膜设备20。
该电池材料镀膜设备20包括外壳21、靶材置放装置23、样品台29、挡板24和驱动装置25。所述靶材置放装置23设置于所述外壳21内,用以置放电池材料。所述样品台29设置于所述外壳21内,以供衬底22置放。所述挡板24安装于所述外壳21内,且位于所述样品台29与所述靶材置放装置23之间(对于靶材置放装置23和样品台29的相对位置,可以是靶材置放装置23在上,样品台29在下,也可以是样品台29在上,靶材置放装置23在下,两种方式都可以沉积薄膜。为了便于表述,下述内容将以靶材置放装置23在上,样品台29在下为例进行介绍)。所述挡板24设置有在上下向将所述挡板24贯穿的通槽240,在此,挡板24遮挡电池材料的下料,向下溅射的电池材料可通过通槽240沉积于衬底22上。通槽240的形状不受限制,例如,通槽240可以是长方形、正方形、梯形、圆心、三角形等。所述驱动装置25安装于所述外壳21内,所述驱动装置25包括动力源和传动装置,所述动力源通过所述传动装置连接所述挡板24,以驱动所述挡板24平行于所述样品台29移动。
具体而言,在外壳21内,靶材置放装置23是用于置放电池材料的,通常需要放置两种或两种以上的电池材料。对于全固态薄膜锂电池系统而言,薄膜的电池材料可以是镍酸锂和锰酸锂的组合。对于固体氧化物燃料电池系统而言,其电解质材料可以为氧化锆和氧化铈。在此,靶材置放装置23也可以单独置放一种电池材料,待需要用到另一种电池材料镀膜时,可以手动更换另一种电池材料。当然,靶材置放装置23可以是具有两个靶材置放位,两个靶材置放位上同时置放两种电池材料;也可以是靶材置放装置23有两个或两个以上,两个靶材置放装置23上可以分别对应置放两种电池材料,需要用到哪种电池材料,即可对哪种材料进行溅射处理。
由于在进行镀膜时,电池材料是向衬底22溅射的,衬底22可以在靶材置放装置23的上方,也可以在靶材置放装置23的下方,其具体方位不受限制,在下述实施例中,将以衬底22位于靶材置放装置23的下方为例进行阐述说明。向下溅射的电池材料粉末容易受到气流干扰,在此,外壳21主要给内部薄膜的形成提供一个稳定的环境,例如避免外部气流的影响。
样品台29主要是用于置放衬底22的,样品台29与靶材置放装置23之间的间距在50mm~100mm之间。对于不同的薄膜而言,可以根据薄膜的类型而更换更匹配度更好的衬底22。
例如对于全固态薄膜锂电池系统而言,SrTiOx氧化物的晶体结构和LiNiOx、LiMnOx晶格结构类似,晶格结构类似,薄膜之间的衔接好,晶格匹配好,薄膜不容易脱落,后续沉积出来的电池材料的薄膜质量高。所以这样能更好的保证沉积的薄膜晶格之间相互匹配。衬底22的最佳选择是SrTiOx。但是一方面SrTiOx的价格较昂贵,所以,即便采用SrTiOx作衬底22,其厚度也需要受到严格控制。另一方面,SrTiOx的强度不如SiOx。所以衬底22可以由SiOx和SrTiOx组合,SrTiOx镀于SiOx上,共同形成衬底22。再例如对于固体氧化物燃料电池系统而言,Al2O3的晶体结构同氧化锆和氧化铈晶格结构类似,所以这样能更好的保证沉积的薄膜晶格之间相互匹配,衬底22的最佳选择是Al2O3
驱动装置25是用于驱动挡板24移动的,挡板24移动方式有两种,一种是沿直线平移,另一种是沿弧线旋转,下面将对两种镀膜操作过程分别阐述。
对于挡板24的移动方式是沿直线平移实施例:
请参阅图3至图6,图7至图10,首先在样品台29上设置衬底22,通过激光源轰击第一靶材,然后控制挡板24由左向右位移(请参照图中的左右方向),靶材穿过通槽240沉积在衬底22上,从而可以在衬底22上形成一个楔形台。
然后控制挡板24继续位移,以使所述通槽240的左边沿与楔形台的右边沿对齐,同时,通过靶材轰击装置轰击第二靶材,并控制挡板24向左移动,开始镀第二电极层12,此时第二靶材可以穿过通槽240,从而可以在第一电极层11的上表面镀上第二电极层12。
在此过程中,可以控制挡板24向左移动的速度和向右移动的速度一致,从而第一电极层11与第二电极层12之间形成平直的斜面。
对于挡板24的移动方式是沿弧线旋转的实施例:
为了便于表述,在此定义通槽240在顺时针的方向上具有前端和后端,后端沿该通槽240延伸至前端的方向为顺时针方向。
请参阅图11至图16,首先在样品台29上设置衬底22,通过靶材轰击装置轰击第一靶材,然后控制挡板24顺时针旋转,此时靶材穿过通槽240沉积在衬底22上,从而可以在衬底22上形成一个楔形台(有一定的弧度)。
然后控制挡板24继续位移,以使所述通槽240的后边沿与楔形台的前边沿对齐,同时,通过靶材轰击装置轰击第二靶材,并控制挡板24逆时针旋转,开始镀第二电极层12,此时第二靶材可以穿过通槽240,从而可以在第一电极层11的上表面镀上第二电极层12。
在此过程中,可以控制挡板24向左移动的速度和向右移动的速度一致,从而第一电极层11与第二电极层12之间形成平直的斜面。
对于驱动装置25而言,其驱动挡板24沿直线平移或者旋转的方式可以是匀速移动,也可以是间断性移动,也可以是移动速度逐渐加快,也可以是移动速度逐渐减慢。如果驱动装置25驱动挡板24沿直线匀速移动,那么形成于衬底22上的第一电极层11具有一个平直的楔形台。如果驱动装置25驱动挡板24自左向右(或者顺时针)间断性移动,那么形成于衬底22上的第一电极层11具有梯台,梯台的高度自左向右(自后向前)逐渐升高。如果驱动装置25驱动挡板24自左向右的的速度逐渐加快,那么形成于衬底22上的第一电极层11具有一个楔形台,楔形台具有一个凸弧面。如果驱动装置25驱动挡板24自左向右的的速度逐渐减慢,那么形成于衬底22上的第一电极层11具有一个楔形台,楔形台具有一个凹弧面。需要说明的是,对于驱动装置25驱动挡板24移动的驱动方式可以是通过齿轮齿条配合,也可以是通过皮带传动,在此不作限定。
待第一电极层11成型后,可以通过驱动装置25驱动挡板24移动以选择性遮挡第二电池材料向下溅射粉末,从而可以形成一个与第一电极层11互补的第二电极层12,第一电极层11和第二电极层12镀膜完成后,第二电极层12的上表面与衬底22可以平行。
请参阅图17和图18,待第一电极层11和第二电极层12镀完之后,电池材料测试中间体12就形成了,可以将电池材料测试中间体12串入电路中。一个电极N1连接第一电极层11的下表面,另一个电极M1连接第二电极层12的上表面(两电极位于垂直于衬底22的同一直线上),然后多次调节两电极的位置(M2和N2、M3和N3、M4和N4、M5和N5、M6和N6),从而可以获取多组电阻值数据,通过多组电阻值数据可以得到两电池材料的配比与电阻值的关系,进而可以从中挑选最佳配比。
请参阅图18,M1和N1对应的第二电极层12占据整个电极层比重的100%,M2和N2对应的第二电极层12占据整个电极层比重的95%,M3和N3对应的第二电极层12占据整个电极层比重的85%、M4和N4对应的第二电极层12占据整个电极层比重的60%,M5和N5对应的第二电极层12占据整个电极层比重的40%,M6和N6对应的第二电极层12占据整个电极层比重的0%。
本发明的技术方案可以把两种电池材料有效的沉积在一起,得到两种材料从低到高不同成分配比的变化,在进行电极测试时,可以快速找到两种电池材料的最佳配比,也就是只需要一次制备该电池材料中间体,即可从该电池材料中间体中找到两种材料的最佳配比,也即符合条件的电池材料中间体的制备效率大大提升。
请参阅图7,对于驱动装置25驱动挡板24沿直线平移的实施例而言,为了使成型后的电极测试中间体相对更规则,更容易对其进行测试,在本实施例中,所述通槽240呈长方形设置,所述驱动装置25用以驱动所述挡板24沿所述通槽240的长度方向移动。
请参阅图12,对于驱动装置25驱动挡板24旋转的实施例而言,同样为了使成型后的电极测试中间体相对更规则,更容易对其进行测试,在本实施例中,所述挡板24具有旋转中心O,所述通槽240呈以所述旋转中心O为圆心的弧形设置,所述驱动装置25用以驱动所述挡板24沿所述旋转中心O旋转。
如此,形成的电极测试中间体的测试部分更规则,也节约靶材。
请参阅图11,在上一实施例的基础上,为了使挡板24的旋转更平稳,在本实施例中,所述挡板24背向所述靶材置放装置23的表面安装有定位杆241,所述定位杆241的一端连接所述旋转中心O,所述定位杆241的另一端连接所述样品台29,所述定位杆241与所述挡板24转动配合或/及所述定位杆241与所述样品台29转动配合。
在此,定位杆241主要是限制挡板24以旋转中心O为圆心转动的,避免挡板24旋转不稳定,从而影响镀膜。
上述定位杆241对挡板24起到定位和支撑的作用,在本实施例中,定位杆241与所述挡板24的旋转中心O固定连接,所述定位杆241与所述样品台29转动配合,所述传动装置连接所述定位杆241,所述动力源通过所述传动装置驱动所述定位杆241旋转。
在此,动力源可以是气缸或电机,动力源通过传动装置连接定位杆241,从而可以通过定位杆241带动挡板24旋转。传动装置与定位杆241的连接方式可以是齿轮之间的相互配合。例如,在定位赶上套设齿轮,传动装置上也设置齿轮,两齿轮相互啮合即可。另外,还可以是在定位杆241上设置齿条,通过传动装置的齿轮与该齿条啮合也可。
与上一实施例不同的是,在另一较佳实施例中,定位杆241仅仅起支撑定位的作用。具体的,所述挡板24背向所述靶材置放装置23的表面设置有以所述旋转中心O为圆心的弧形齿条,所述传动装置包括主动轮,所述主动轮与所述弧形齿条啮合。
在镀膜时,挡板24旋转的角度需要精确控制,对于传动装置与挡板24的传动方式可以是齿轮之间的配合,也可以是齿轮与齿条的配合,还可以是皮带传动,也可以是气缸推送,考虑到皮带传动的方式容易产生打滑的现象,所以,本实施例优选传动装置与挡板24较传动方式为齿轮与齿条的配合。
进一步而言,一个主动轮驱动挡板24旋转的实施例虽然可以有效驱动挡板24旋转,但是考虑到定位杆241的缘故,定位杆241的活动端(可转动的一端)必须与挡板24或样品台29在上下向保持一定间隙,该间隙的存在必然影响挡板24的平稳性,单个转动轮驱动挡板24旋转时,挡板24的平稳度不是很好。
鉴于此,在本实施例中,为了保持挡板24旋转时具有较好的平稳度,所述传动装置还包括至少一传动轮,所述传动轮与所述弧形齿条啮合,并且,所述传动轮与所述主动轮之间的圆心角大于90°。一个主动轮和一个传动轮同时支撑挡板24,可以大大提高挡板24的平稳度。较佳的,传动装置包括两个或两个以上的传动轮较佳。例如,传动装置包括2个传动轮,两传动轮与主动轮之间的圆心角可以为120°,从而可以使挡板24在转动时更加平稳。
上述实施例中并未限定弧形齿条的位置,也就是弧形齿条可以是位于通槽240的外侧,也可以是位于通槽240的内侧。考虑到通槽240与旋转中心O之间的空间有限,难以布置传动机构,另外,如果弧形齿条设置在通槽240的内侧,也不利于清理。基于此,在本实施例中,所述弧形齿条位于所述通槽240的外侧。
由于衬底22的面积比较小,一般为2cm×2cm,挡板24的面积大概为3cm×3cm,薄膜的厚度是纳米级的(50nm~200nm),薄膜的宽度要小于衬底22宽度的,由此可见,薄膜的沉积过程是一个极为精细的操作过程,所以挡板24的移动速度要极慢,其速度为1.5mm/s~3.5mm/s,例如2.0mm/s、2.5mm/s、3.0mm/s。
传统的电机转速一般都比较快,难以直接满足挡板24移动的需求,所以在此,所述驱动装置25包括电机和减速箱,所述电机通过所述减速箱连接所述挡板24。通过减速箱介导之后,电机的转速可以降低至原来的1%甚至0.01%,从而可以满足挡板24移动的需求。
请参阅图1、图2和图11,请继续参阅图2,对于电池材料镀膜设备20而言,驱动装置25和靶材轰击装置可有可无,因为驱动装置25和靶材轰击装置可以通过后续单独配置。也就是电池材料镀膜设备20、驱动装置25和靶材轰击装置可以是三个单独的模块,驱动装置25和靶材轰击装置可以在电池材料镀膜设备20需要镀膜时,才给电池材料镀膜设备20配置驱动装置25和靶材轰击装置。在后续实施例中,将驱动装置25和靶材轰击装置作为电池材料镀膜设备20的一部分进行阐述。
靶材轰击装置可以有多种,所述靶材轰击装置为脉冲激光源,其采用激光脉冲沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)的方式,所述脉冲激光源安装于所述外壳21,用以轰击靶材。在此脉冲激光源安装在外壳21内部或外侧都可以,放置在外侧,造价便宜,因为这样真空腔就小。激光源本身较小,从而可以放置在内侧,然而真空腔就必须做大,真空腔一大,造价就会偏高。所述靶材轰击装置也可以是溅射气体源,所述溅射气体源安装于所述外壳21内,所述溅射气体源通过等离子气体轰击靶材,也就是通过Sputter沉积的方式。所述靶材轰击装置还可以是电子束蒸发枪,所述电子束蒸发枪安装于所述外壳21内,用以轰击靶材,也就是采用分子束外延生长(Molecular Beam Epitaxy,MBE)的方式。
对于激光源而言,激光光源的波长为250nm~270nm,激光能量为每个脉冲为1J/cm2~3J/cm2,激光脉冲频率约为5Hz~10Hz。在其开启后,激光冲击靶材,被击落的靶材开始沉积在衬底22上,形成薄膜。对于溅射气体源而言,其主要是通过Ar+冲击靶材,被击落的靶材开始沉积在衬底22上,形成薄膜。对于,电子束蒸发枪而言,其主要通过高速电子流冲击靶材,被击落的靶材开始沉积在衬底22上,形成薄膜。
请参阅图1、图2和图11,上述实施例中,被击落的靶材开始沉积时,为了避免气流的干扰(气流干扰会导致薄膜沉积不均匀),所述电池材料镀膜设备20还包括真空源27,所述真空源27用以对所述外壳21抽真空。
PLD和Sputter沉积,因为一般需要气体通入,PLD有氧气通入,因为沉积氧化物材料时需要通入氧气(Sputter沉积除了氩气的等离子气体外,也需要适当氧气,因为要在沉积的过程中合成氧化物)。而Sputter沉积,需要氩气的等离子体气体Ar+,因此初始真空腔的真空度10-9torr及以上,但是一旦薄膜沉积开始,真空度只能在10-2~10-6torr左右。
但是对于MBE沉积,因为不需要通入气体,因此MBE沉积真空度要求最高,一般控制在10-7~10-10torr左右。
另外,在上一实施例的基础上,对于薄膜是氧化物的情形,需要保持一定的氧气气压,基于此,在本实施例中,所述电池材料镀膜设备20还包括氧气源26,所述氧气源26安装于所述外壳21,以给所述外壳21内部冲氧。冲入氧气后,要保持外壳21内的氧气气压在10-2~10-4torr范围内。
请参阅图1、图2和图11,在另一实施例中,所述电池材料镀膜设备20还包括加热装置28,所述加热装置28安装于所述样品台29,用以给置放于所述样品台29上的衬底22加热。
衬底22一般为氧化硅(SiOx),衬底22上一般会残留有杂质,为了把表面的杂质和残留物蒸发去除,让衬底22表面洁净,避免杂质对薄膜造成影响,需要对衬底22进行加热处理一般15~30分钟,加热的温度一般需要控制在500℃左右。在后续薄膜沉积时,可以通过加热装置28对衬底22继续加热,使衬底22温度达到550℃~700℃,从而更利于薄膜沉积。
另外,考虑到在沉积薄膜时,由于衍射现象存在,即便挡板24不移动,部分薄膜会沉积在挡板24正下方,从而会影响薄膜沉积效果。为了尽可能降低上述衍射现象,在本实施例中,所述挡板24与所述样品台29之间的间距为0.1mm~10mm。样品台29与挡板24之间的间距可以是0.3mm、0.5mm、0.8mm、1mm、1.2mm、1.5mm、1.6mm、1.8mm、2.0mm、2.2mm、2.4mm、2.5mm、2.8mm、3.0mm、3.2mm、3.5mm、3.6mm、3.8mm、4.0mm、4.2mm、4.5mm、4.8mm、5.0mm、6mm、7mm、8mm、9mm等都是可以的。进一步地,该间距在0.3mm~3mm较佳。也就是只有控制挡板24与样品台29之间的间距在足够小的范围内,才可有效减缓或避免衍射现象的产生。只要保持挡板24与样品台29之间的间距在较小范围内,就可以大大减缓衍射现象的产生,在此为了进一步降低衍射现象,所述挡板24与所述样品台29应当保持平行。如果挡板24与样品台29不平行,那么,挡板24的一角必然翘起,如此,即便所述挡板24与所述样品台29之间的间距满足上述范围,依然会有较多薄膜沉积在挡板24正对衬底的区域,从而严重影响镀膜效果。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种电池材料镀膜设备,其特征在于,包括:
外壳;
靶材置放装置,设置于所述外壳内,用以置放电池材料;
样品台,设置于所述外壳内;
挡板,位于所述样品台与所述靶材置放装置之间,所述挡板设置有在上下向将所述挡板贯穿的通槽;
驱动装置,包括动力源和传动装置,所述动力源通过所述传动装置连接所述挡板,以驱动所述挡板平行于所述样品台移动。
2.如权利要求1所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述通槽呈长方形设置,所述驱动装置用以驱动所述挡板沿所述通槽的长度方向移动。
3.如权利要求1所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述挡板具有旋转中心,所述通槽呈以所述旋转中心为圆心的弧形设置,所述驱动装置用以驱动所述挡板沿所述旋转中心旋转。
4.如权利要求3所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述挡板背向所述靶材置放装置的表面安装有定位杆,所述定位杆的一端连接所述旋转中心,所述定位杆的另一端连接所述样品台,所述定位杆的与所述挡板转动配合或/及所述定位杆与所述样品台转动配合。
5.如权利要求4所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述定位杆的与所述挡板的旋转中心固定连接,所述定位杆的与所述样品台转动配合,所述传动装置连接所述定位杆,所述动力源通过所述传动装置驱动所述定位杆旋转。
6.如权利要求4所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述挡板的背向所述靶材置放装置的表面设置有以所述旋转中心为圆心的弧形齿条,所述传动装置包括主动轮,所述主动轮与所述弧形齿条啮合。
7.如权利要求2或3所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述驱动装置包括电机和减速箱,所述电机通过所述减速箱连接所述挡板。
8.如权利要求7所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述电池材料镀膜设备还包括真空源,所述真空源安装于所述外壳。
9.如权利要求8所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述电池材料镀膜设备还包括氧气源,所述氧气源安装于所述外壳。
10.如权利要求9所述的电池材料镀膜设备,其特征在于,所述电池材料镀膜设备还包括加热装置,所述加热装置安装于所述样品台,用以给置放于所述样品台的衬底加热。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109818020A (zh) * 2019-03-28 2019-05-28 深圳市致远动力科技有限公司 固态薄膜燃料电池的制备方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941469A (ja) * 1982-08-30 1984-03-07 Hitachi Ltd 膜形成装置
KR930022406U (ko) * 1992-03-10 1993-10-16 엘지반도체주식회사 금속증착시스템의 셔터구동감지장치
JPH083741A (ja) * 1994-06-20 1996-01-09 Fujitsu Ltd スパッタ装置及びスパッタ方法
KR20010047759A (ko) * 1999-11-23 2001-06-15 윤종용 스퍼터링 장치의 셔터
JP2004300465A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパッタ装置
CN1995447A (zh) * 2006-12-29 2007-07-11 上海工程技术大学 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
CN101736292A (zh) * 2008-11-19 2010-06-16 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
CN102041475A (zh) * 2010-12-30 2011-05-04 陕西科技大学 混合靶磁控溅射法制备钛酸钴薄膜的方法
CN102230163A (zh) * 2009-10-16 2011-11-02 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜装置
CN103103483A (zh) * 2011-11-11 2013-05-15 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种带有基片水冷加热公转台的磁控溅射系统
CN209456554U (zh) * 2018-12-27 2019-10-01 深圳市致远动力科技有限公司 电池材料镀膜设备
CN209741259U (zh) * 2018-12-29 2019-12-06 深圳市致远动力科技有限公司 电池材料镀膜设备

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941469A (ja) * 1982-08-30 1984-03-07 Hitachi Ltd 膜形成装置
KR930022406U (ko) * 1992-03-10 1993-10-16 엘지반도체주식회사 금속증착시스템의 셔터구동감지장치
JPH083741A (ja) * 1994-06-20 1996-01-09 Fujitsu Ltd スパッタ装置及びスパッタ方法
KR20010047759A (ko) * 1999-11-23 2001-06-15 윤종용 스퍼터링 장치의 셔터
JP2004300465A (ja) * 2003-03-28 2004-10-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd スパッタ装置
CN1995447A (zh) * 2006-12-29 2007-07-11 上海工程技术大学 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
CN101736292A (zh) * 2008-11-19 2010-06-16 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种磁控与离子束复合溅射沉积系统
CN102230163A (zh) * 2009-10-16 2011-11-02 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜装置
CN102041475A (zh) * 2010-12-30 2011-05-04 陕西科技大学 混合靶磁控溅射法制备钛酸钴薄膜的方法
CN103103483A (zh) * 2011-11-11 2013-05-15 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 一种带有基片水冷加热公转台的磁控溅射系统
CN209456554U (zh) * 2018-12-27 2019-10-01 深圳市致远动力科技有限公司 电池材料镀膜设备
CN209741259U (zh) * 2018-12-29 2019-12-06 深圳市致远动力科技有限公司 电池材料镀膜设备

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109818020A (zh) * 2019-03-28 2019-05-28 深圳市致远动力科技有限公司 固态薄膜燃料电池的制备方法

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