CN109399958B - 一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法，其中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃包括玻璃基层，及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；通过控制第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1，第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，有效降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，该低反射率的低辐射镀膜玻璃合成中空玻璃后的室外反射率低于7.5％。

Description

一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及玻璃技术领域，特别涉及一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
随着玻璃幕墙在高层建筑中的大规模应用，符合节能环保要求的低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)备受推崇。低辐射镀膜玻璃具有良好的隔热性能和遮阳性能，既能满足室内采光的要求，又能阻隔太阳辐射进入室内，减少室内空调的荷载。然而，目前低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)的反射率普遍较高，因此造成建筑玻璃的镜面反光现象十分严重，使得光污染成为继废气、废水、废渣和噪声等污染之后的一种新的环境污染源。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，通过控制膜层比例来降低低辐射镀膜玻璃的反射率。
为实现上述目的，本发明提出的低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
优选地，所述第一介质层为SiNx层，厚度为48nm～120nm；所述第二介质层为SiNx层，厚度为23nm～50nm；其中，SiNx中x的范围是0.5～1.33。
优选地，所述第一保护层为NiCr层，厚度为1.5nm～5nm；所述第二保护层为NiCr层，厚度为2.3nm～10nm。
优选地，所述功能层为Ag层，所述Ag层的厚度为5nm～15nm。
优选地，所述第一保护层、所述功能层及所述第二保护层构成的金属层厚度小于28nm。
优选地，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一结合层和/或第二结合层，所述第一结合层设于所述第一保护层与所述第一介质层之间，所述第二结合层设于所述第二保护层与所述第二介质层之间。
优选地，所述第一结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm，和/或所述第二结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm。
本发明还提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如上述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，该制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层，从而形成镀膜层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
优选地，所述制备方法还包括：
在所述第一保护层与所述第一介质层之间进行真空溅射形成第一结合层；和/或，
在所述第二保护层与所述第二介质层之间进行真空溅射形成第二结合层。
优选地，在该制备方法中，由硅铝靶磁控溅射形成SiNx层，所述硅铝靶的硅铝重量比为9:1；由AZO陶瓷靶磁控溅射形成AZO层，所述AZO陶瓷靶是由ZnOX、AlOX烧制而成的具有陶瓷功能的金属氧化物靶材；由镍铬靶磁控溅射形成NiCr层，所述镍铬靶的镍铬重量比为8:2；由银靶磁控溅射形成Ag层，所述银靶的银纯度为99.999％；其中，所述银靶、所述镍铬靶为平面靶，所述硅铝靶、所述AZO陶瓷靶为旋转靶。
优选地，所述硅铝靶的溅射功率为15～70Kw，溅射形成SiNx层的溅射氛围是氩氮气氛，氩和氮的体积比是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述AZO陶瓷靶的溅射功率为1～30Kw，溅射形成AZO层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述镍铬靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成所述NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述银靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成Ag层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar。
本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃，通过在玻璃基层的表面依次镀上第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层，并控制第一介质层与第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1，第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，有效降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，减少了低辐射镀膜玻璃的镜面反光造成的光污染。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明低反射率的低辐射镀膜玻璃一实施例的结构示意图；
图2为本发明低反射率的低辐射镀膜玻璃另一实施例的结构示意图；
图3为本发明低反射率的低辐射镀膜玻璃又一实施例的结构示意图。
附图标号说明：
Figure BDA0001911530070000031
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
需要说明，若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
另外，若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
另外，本发明技术方案使用颜色模型(Lab)作为色标，对镀膜玻璃的玻面颜色和膜面颜色进行设计。颜色模型(Lab)是基于人对颜色的感觉建立起来的模型，Lab中的数值描述正常视力的人能够看到的所有颜色。Lab色彩模型是由亮度(L)和颜色值a*、b*共三个要素组成。其中，L表示亮度(Luminosity)，a*表示从洋红色至绿色的范围，b*表示从黄色至蓝色的范围。L的值域由0到100，其中L＝50时，就相当于50％的黑色。a*和b*的值域都是由+127至-128，其中a*＝+127时，颜色是红色，a*＝-128时，颜色是绿色。而b*＝+127时是颜色是黄色，b*＝-128时，颜色是蓝色。所有的颜色以这三个值交互变化所组成。例如，某一色彩的Lab值是L＝100，a＝30，b＝0时，这一色彩就是粉红色。
本发明提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃。其中，该镀膜玻璃具体涉及一种低反射率的单银低辐射镀膜玻璃。
请参阅图1，在本发明的一实施例中，低反射率的低辐射镀膜玻璃100包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃，通过在玻璃基层的表面依次镀上第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层，通过控制第一介质层与第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1，第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，有效降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，减少了低辐射镀膜玻璃的镜面反光造成的光污染。
具体地，在本发明的一实施例中，所述第一介质层21由SiNx层构成，SiNx中x的范围是0.5～1.33，所述第一介质层21的厚度为48nm～120nm。所述第一介质层21作为打底层，其作用是以防止玻璃本体中的钠元素扩散迁移到膜层中，破坏功能层23的结构。所述第二介质层25由SiNx层构成，SiNx中x的范围是0.5～1.33，所述第二介质层25的厚度为23nm～50nm。所述第二介质层25位于整个膜层顶层，由于SiNx硬度高，具有较强的硬度和稳定的物理和化学性能，能够防止膜层被划伤、腐蚀等，提高了镀膜层20的机械加工性能和抗划伤性能，同时在热加工处理时提高镀膜层20整体的热稳定性。
所述第一保护层22由NiCr层构成，所述第一保护层22的厚度为1.5nm～5nm。第二保护层24由NiCr层构成，所述第二保护层24的厚度为2.3nm～10nm。所述第一保护层22与所述第二保护层24的主要功能是保护功能层23，防止功能层23在热加工工艺的高温环境下被氧化。
所述功能层23由Ag层构成，所述功能层23的厚度为5nm～15nm，其主要功能是利用Ag的低辐射性能来降低镀膜玻璃100的辐射率，将太阳光过滤成冷光源，提高镀膜玻璃的隔热性能。
在本发明一实施例中，由所述第一保护层22、所述功能层23和所述第二保护层24共同构成的金属层，对太阳光具有较强的吸收和反射性能，可调节镀膜层20的透过和反射性能。其中，金属层的厚度为小于28nm，可控制室外反射率在所需要的范围。
进一步地，为了提高镀膜层20的热加工稳定性，在保护层和介质层之间增加结合层，提高镀膜层20各层之间的结合力。具体地，请参阅图2和图3，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100还包括第一结合层26和/或第二结合层27，所述第一结合层26设于所述第一保护层22与所述第一介质层21之间，所述第二结合层27设于所述第二保护层24与所述第二介质层25之间。其中，所述第一结合层26为AZO层，所述第一结合层26的厚度为4nm～8nm；和/或，所述第二结合层27为AZO层，所述第二结合层27的厚度为4nm～8nm。AZO层由ZnOX、AlOX烧制的陶瓷靶镀制而成，膜层均匀致密，提高镀膜层10结构的稳定性和热稳定性。值得一提的，由于第二介质层25较薄，降低了镀膜层20在钢化等高温热加工工艺过程中的耐热性和抗氧化性。为了提高镀膜层20的热加工稳定性，在第二保护层24和第二介质层25之间增加结合层，提高各镀膜层20之间的结合力，增强镀膜层20的整体热加工能力。
本发明低辐射率的低反射镀膜玻璃100的镀膜层20十分致密，结构稳定，耐性热强，适用于玻璃平钢化和弯钢化工艺，经过钢化工艺后，膜层稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。其中，钢化处理地具体操作如下：将超低辐射率的低反射镀膜玻置于钢化炉内，镀膜玻璃镀膜面朝上，预热段上部温度为505～515℃，下部温度为490～500℃；加热段上部温度为680～690℃，下部温度为660～670℃，钢化总时间为350～360s。
本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射色L为24～28，a*为-2.5～1.3，b*为-7.0～-4.0，玻面反射率为4.2％～5.5％。在室外观察，该低反射率的低辐射镀膜玻璃100呈现蓝灰色调，与环境融合协调。经过钢化处理后，低辐射率的低反射镀膜玻的玻面反射色变化不大，钢化后L为26～29，a*为-3.0～0.5，b*为-8.0～-3.5。经过钢化处理后，低反射率的低辐射镀膜玻璃的玻面反色率变化也不大，合成中空玻璃后的室外反射率仍然低于7.5％。
本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃100，通过在玻璃基层的表面依次镀上第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层，并通过控制第一介质层与第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1，第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，有效降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，减少了低辐射镀膜玻璃的镜面反光造成的光污染。此外，本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃，经过钢化工艺后，膜层稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
本发明还提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法，该制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。其中，所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
由本发明的制备方法制备出来的低反射率的低辐射镀膜玻璃，反射率低，减少了低辐射镀膜玻璃的镜面反光造成的光污染。此外，由本发明的制备方法制备出来的低反射率的低辐射镀膜玻璃，经过钢化工艺后，膜层稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
具体地，在本发明的一实施例中，所述第一介质层21由SiNx层构成，SiNx中x的范围是0.5～1.33，所述第一介质层21的厚度为48nm～120nm。所述第一介质层21作为打底层，其作用是以防止玻璃本体中的钠元素扩散迁移到膜层中，破坏功能层23的结构。所述第二介质层25由SiNx层构成，SiNx中x的范围是0.5～1.33，所述第二介质层25的厚度为23nm～50nm。所述第二介质层25位于整个膜层顶层，由于SiNx硬度高，具有较强的硬度和稳定的物理和化学性能，能够防止膜层被划伤、腐蚀等，提高了镀膜层20的机械加工性能和抗划伤性能，同时在热加工处理时提高镀膜层20整体的热稳定性。
所述第一保护层22由NiCr层构成，所述第一保护层22的厚度为1.5nm～5nm。第二保护层24由NiCr层构成，所述第二保护层24的厚度为2.3nm～10nm。所述第一保护层22与所述第二保护层24的主要功能是保护功能层23，防止功能层23在热加工工艺的高温环境下被氧化。
所述功能层23由Ag层构成，所述功能层23的厚度为5nm～15nm，其主要功能是利用Ag的低辐射性能来降低镀膜玻璃100的辐射率，将太阳光过滤成冷光源，提高镀膜玻璃的隔热性能。
在本发明的一实施例中，由所述第一保护层22、所述功能层23和所述第二保护层24共同构成的金属层，对太阳光具有较强的吸收和反射性能，可调节镀膜层20的透过和反射性能。其中，金属层的厚度为小于28nm，可控制室外反射率在所需要的范围。
在本发明的一实施例中，为了提高镀膜层20的热加工稳定性，该制备方法还包括：在第一介质层21与第一保护层22之间进行真空溅射形成第一结合层26；和/或，在所述第二介质层25与所述第二保护层24之间进行真空溅射形成第二结合层27。其中，所述第一结合层26为AZO层，所述第一结合层26的厚度为4nm～8nm；和/或，所述第二结合层27为AZO层，所述第二结合层27的厚度为4nm～8nm。AZO层由ZnOX、AlOX烧制的陶瓷靶镀制而成，膜层均匀致密，提高镀膜层10结构的稳定性和热稳定性。值得一提的，由于第二介质层25较薄，降低了镀膜层20在钢化等高温热加工工艺过程中的耐热性和抗氧化性。为了提高镀膜层20的热加工稳定性，在第二保护层24和第二介质层25之间增加结合层，提高各镀膜层20之间的结合力，增强镀膜层20的整体热加工能力。
由本发明的制备方法制备出来的低辐射率的低反射镀膜玻璃100的镀膜层20十分致密，结构稳定，耐性热强，适用于玻璃平钢化和弯钢化工艺，经过钢化工艺后，膜层稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。其中，钢化处理地具体操作如下：将超低辐射率的低反射镀膜玻置于钢化炉内，镀膜玻璃镀膜面朝上，预热段上部温度为505～515℃，下部温度为490～500℃；加热段上部温度为680～690℃，下部温度为660～670℃，钢化总时间为350～360s。
由本发明的制备方法制备出来的低反射率的低辐射镀膜玻璃的玻面反射色L为24～28，a*为-2.5～1.3，b*为-7.0～-4.0，玻面反射率为4.2％～5.5％。在室外观察，该低反射率的低辐射镀膜玻璃100呈现蓝灰色调，与环境融合协调。经过钢化处理后，低辐射率的低反射镀膜玻的玻面反射色变化不大，钢化后L为26～29，a*为-3.0～0.5，b*为-8.0～-3.5。经过钢化处理后，低反射率的低辐射镀膜玻璃的玻面反色率变化也不大，合成中空玻璃后的室外反射率仍然低于7.5％。
在本发明低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法中，由硅铝靶磁控溅射形成SiNx层，所述硅铝靶的硅铝重量比为9:1；由AZO陶瓷靶磁控溅射形成AZO层，所述AZO陶瓷靶是由ZnOX、AlOX烧制而成的具有陶瓷功能的金属氧化物靶材；由镍铬靶磁控溅射形成NiCr层，所述镍铬靶的镍铬重量比为8:2；由银靶磁控溅射形成Ag层，所述银靶的银纯度为99.999％；其中，所述银靶、所述镍铬靶为平面靶，所述硅铝靶、所述AZO陶瓷靶为旋转靶。
具体而言，所述硅铝靶的溅射功率为15～70Kw，溅射形成SiNx层的溅射氛围是氩氮气氛，氩和氮的体积比是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar；所述AZO陶瓷靶的溅射功率为1～30Kw，溅射形成AZO层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；所述镍铬靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成所述NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10- 3mbar；所述银靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成Ag层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar。
该制备方法具体如下：
1、优质浮法玻璃清洗干燥后，进入真空室，真空度达到10-7mmbar以上；
2、中频电源加旋转阴极溅射沉积第一介质层21；
具体而言，磁控溅射时，所述旋转阴极硅铝靶的溅射功率为15～70Kw，溅射形成SiNx层的溅射氛围是氩氮气氛，溅射气体氩和氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar；
3、中频电源加旋转阴极溅射沉积第一结合层26；
具体而言，所述AZO陶瓷靶功率为1～30Kw，溅射形成AZO层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
4、双极脉冲电源加平面阴极溅射沉积第一保护层22；
具体而言，所述平面镍铬靶功率为1～20Kw，溅射形成NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
5、双极脉冲电源加平面阴极溅射沉积功能层23；
具体而言，所述银靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成Ag层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
6、双极脉冲电源加平面阴极溅射沉积第二保护层24；
具体而言，所述平面镍铬靶功率为1～20Kw，溅射形成NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
7、中频电源加旋转阴极溅射沉积第二结合层27；
具体而言，所述AZO陶瓷靶功率为1～30Kw，溅射形成AZO层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
8、中频电源加旋转阴极溅射沉积顶层第二介质层25；
具体而言，磁控溅射时，所述旋转阴极硅铝靶的溅射功率为15～70Kw，溅射形成SiNx层的溅射氛围是氩氮气氛，溅射气体氩和氮比例是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar。
下面将结合具体实施例对本发明的技术方案作进一步的阐述。
实施例1：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为65nm；第一保护层22的厚度为3nm，所述功能层23的厚度为7nm，所述第二保护层24的厚度为5.5nm，第二介质层25的厚度为32nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.03：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：1.83。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为15.5nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.41％，合成中空玻璃后室外反射率为5.91％。
实施例2：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为70nm；所述第一结合层26的厚度为4nm，第一保护层22的厚度为3nm，所述功能层23的厚度为6nm，所述第二保护层24的厚度为6nm，第二结合层27的厚度为4nm，第二介质层25的厚度为41nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为1.71：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.0。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为15.5nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.32％，合成中空玻璃后室外反射率为5.74％。
实施例3：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为48nm；所述第一结合层26的厚度为5nm，第一保护层22的厚度为2.8nm，所述功能层23的厚度为6.5nm，所述第二保护层24的厚度为5.5nm，第二结合层27的厚度为5nm，第二介质层25的厚度为23nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.09：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：1.96。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为14.8nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.2％，合成中空玻璃后室外反射率为5.43％。
实施例4：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为120nm；所述第一结合层26的厚度为5nm，第一保护层22的厚度为4nm，所述功能层23的厚度为6nm，所述第二保护层24的厚度为9nm，第二结合层27的厚度为5nm，第二介质层25的厚度为50nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.4:1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.25。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为19nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.96％，合成中空玻璃后室外反射率为6.40％。
实施例5：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为67nm；第一保护层22的厚度为2nm，所述功能层23的厚度为9nm，所述第二保护层24的厚度为4nm，第二介质层25的厚度为37nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为1.81：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.0。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为15nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为5.10％，合成中空玻璃后室外反射率为6.76％。
实施例6：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为110nm；所述第一结合层26的厚度为4nm，第一保护层22的厚度为5nm，所述功能层23的厚度为5nm，所述第二保护层24的厚度为10nm，第二结合层27的厚度为4nm，第二介质层25的厚度为46nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.39：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.0。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为20nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为5.03％，合成中空玻璃后室外反射率为6.66％。
实施例7：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为69nm；第一保护层22的厚度为1.5nm，所述功能层23的厚度为14nm，所述第二保护层24的厚度为2.3nm，第二介质层25的厚度为43nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为1.6：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：1.53。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为17.8nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.31％，合成中空玻璃后室外反射率为6.19％。
实施例8：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为93nm；所述第一结合层26的厚度为8nm，第一保护层22的厚度为3nm，所述功能层23的厚度为15nm，所述第二保护层24的厚度为7nm，第二结合层27的厚度为8nm，第二介质层25的厚度为31nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为3.0：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.33。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为25nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为5.37％，合成中空玻璃后室外反射率为7.4％。
实施例9：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为102nm；所述第一结合层26的厚度为4nm，第一保护层22的厚度为2nm，所述功能层23的厚度为10nm，所述第二保护层24的厚度为5nm，第二结合层27的厚度为4nm，第二介质层25的厚度为39nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.62：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.5。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为17nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一结合层26、第一保护层22、功能层23、第二保护层24、第二结合层27及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为4.68％，合成中空玻璃后室外反射率为6.31％。
实施例10：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为69nm；第一保护层22的厚度为5nm，所述功能层23的厚度为11nm，所述第二保护层24的厚度为7.5nm，第二介质层25的厚度为23nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为3.0：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：1.5。由所述第一保护层22，所述功能层23和所述第二保护层24构成的金属层的厚度为23.5nm。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为5.19％，合成中空玻璃后室外反射率为7.02％。
对比例1：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为40nm；第一保护层22的厚度为1nm，所述功能层23的厚度为4nm，所述第二保护层24的厚度为2nm，第二介质层25的厚度为15nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.67：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.0。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃的保护层过薄，在钢化实验过程中，出现轻微脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为8.27％，合成中空玻璃后室外反射率为11.64％。
对比例2：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为130nm；第一保护层22的厚度为7nm，所述功能层23的厚度为16nm，所述第二保护层24的厚度为15nm，第二介质层25的厚度为65nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为2.0：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：2.14。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃的金属层厚度过高，达到38nm，反射率明显增加，玻面反射率为11.88％，合成中空玻璃后室外反射率为15.33％。
对比例3：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为120nm；第一保护层22的厚度为2nm，所述功能层23的厚度为10nm，所述第二保护层24的厚度为6nm，第二介质层25的厚度为23nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为5.22：1，超过所设计的比例要求，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：3.0。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为8.6％，合成中空玻璃后室外反射率为12.01％。
对比例4：
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃100，包括玻璃基层10及设置于所述玻璃基层10一侧的镀膜层20，所述镀膜层20包括自所述玻璃基层10的一侧依次向外设置的第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25。所述第一介质层21的厚度为50nm；第一保护层22的厚度为4nm，所述功能层23的厚度为8nm，所述第二保护层24的厚度为4nm，第二介质层25的厚度为50nm。其中，所述第一介质层21与所述第二介质层25厚度比为1.0：1，所述第一保护层22与所述第二保护层24的厚度比为1：1.0，超过所设计的比例要求。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻璃基层10采用6mm的白玻。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层10表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层21、第一保护层22、功能层23、第二保护层24及第二介质层25，从而形成镀膜层20。所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片热加工性能稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷。
在该实施例中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射率为9.04％，合成中空玻璃后室外反射率为12.64％。
为了对本发明的海洋蓝色热反射镀膜玻璃的性能进行研究，对上述实施例1至实施例10、及对比例1至对比例4制备的镀膜玻璃分别进行了测试，测试结果见下表1、表2及表3。
表1各实施例膜层结构及厚度
Figure BDA0001911530070000191
表2各实施例6mm镀膜玻璃单片颜色值及反射率
Figure BDA0001911530070000192
Figure BDA0001911530070000201
表3各实施例6mm镀膜玻璃单片与6mm白玻合成中空玻璃的颜色值及反射率
Figure BDA0001911530070000202
Figure BDA0001911530070000211
根据表1、表2及表3可知，本发明实施例1至实施例10制得的低反射率的低辐射镀膜玻璃100的玻面反射色L为24～28，a*为-2.5～1.3，b*为-7.0～-4.0，该低反射率的低辐射镀膜玻璃100单片玻面反射色为蓝灰色，玻面反射率为4.2％～5.5％。该低反射率的低辐射镀膜玻璃100经过热加工钢化处理后，玻面反射色L*为25～29，a*为-3.0～0.5，b*为-8.0～-3.5，钢化后玻面反射色为蓝灰色，玻面反射色变化不大，钢化玻面反射率低于7.5％。另外，合成中空玻璃的室外反射色L为28～33，a*为-2.3～0.5，b*为-6.6～-4.5，室外反射率为5％～7.5％，具有良好的的低反射性能，在室外观察，无明显炫光现象。
综上，本发明低反射率的低辐射镀膜玻璃，玻面反射率较小，减少了镜面反光造成的光污染。同时，本发明的低反射率的低辐射镀膜玻璃适用于玻璃平钢化和弯钢化工艺，经过钢化工艺后，膜层稳定，不出现开裂、氧化、脱膜等缺陷，提高了该镀膜玻璃的通用性和适应性。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (8)

1.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；
所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，所述第一介质层为SiNx层，厚度为48nm～120nm；所述第二介质层为SiNx层，厚度为23nm～50nm；其中，SiNx中x的范围是0.5～1.33；所述第一保护层为NiCr层，厚度为1.5nm～5nm；所述第二保护层为NiCr层，厚度为2.3nm～10nm；所述功能层为Ag层，所述Ag层的厚度为5nm～15nm。
2.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层、所述功能层及所述第二保护层构成的金属层厚度小于28nm。
3.如权利要求1至2任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一结合层和/或第二结合层，所述第一结合层设于所述第一保护层与所述第一介质层之间，所述第二结合层设于所述第二保护层与所述第二介质层之间。
4.如权利要求3所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm，和/或所述第二结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm。
5.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如权利要求1至4任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该制备方法包括：在真空环境下用靶材对玻璃基层表面进行真空磁控溅射，依次溅射形成第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层，从而形成镀膜层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
6.如权利要求5所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
在所述第一保护层与所述第一介质层之间进行真空溅射形成第一结合层；和/或，
在所述第二保护层与所述第二介质层之间进行真空溅射形成第二结合层。
7.如权利要求6所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，
在该制备方法中，由硅铝靶磁控溅射形成SiNx层，所述硅铝靶的硅铝重量比为9:1；由AZO陶瓷靶磁控溅射形成AZO层，所述AZO陶瓷靶是由ZnOX、AlOX烧制而成的具有陶瓷功能的金属氧化物靶材；由镍铬靶磁控溅射形成NiCr层，所述镍铬靶的镍铬重量比为8:2；由银靶磁控溅射形成Ag层，所述银靶的银纯度为99.999％；其中，所述银靶、所述镍铬靶为平面靶，所述硅铝靶、所述AZO陶瓷靶为旋转靶。
8.如权利要求7所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，
所述硅铝靶的溅射功率为15～70Kw，溅射形成SiNx层的溅射氛围是氩氮气氛，氩和氮的体积比是1：1，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述AZO陶瓷靶的溅射功率为1～30Kw，溅射形成AZO层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述镍铬靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成所述NiCr层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar；
所述银靶的溅射功率为1～20Kw，溅射形成Ag层的溅射氛围是纯氩气氛，溅射气压为2～5*10-3mbar。
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