CN109333367A - 全自动非晶制程抛光系统的工作方法 - Google Patents

全自动非晶制程抛光系统的工作方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种全自动非晶制程抛光系统的工作方法，本工作方法包括：测量陶瓷盘上蜡贴的非晶片的厚度信息；依据所述厚度信息以对非晶片进行抛光；本发明实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工测量、记录，对需抛光的非晶片进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率。

Description

全自动非晶制程抛光系统的工作方法
技术领域
本发明涉及一种非晶制造领域，尤其涉及一种抛光系统的工作方法。
背景技术
传统的抛光方式采用人工使用测量仪对非晶片的厚度进行测量，纸质记录下测量数据，然后放入抛光机中进行抛光，需要人为判别需要抛光的厚度，会浪费大量人力、物力，并在这个过程中产生一些人为的误差。
因此，亟需开发一种抛光系统的工作方法，以解决上述问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种全自动非晶制程抛光系统的工作方法。
为了解决上述技术问题，本发明提供了一种抛光系统的工作方法，其包括：测量陶瓷盘上蜡贴的非晶片的厚度信息；依据所述厚度信息以对非晶片进行抛光。
进一步，所述抛光系统的工作方法采用抛光系统实现所述抛光系统的工作方法。
进一步，所述抛光系统包括：主控单元、与所述主控单元电性相连的非晶片厚度测量装置，以及抛光装置；其中所述非晶片厚度测量装置适于测量陶瓷盘上蜡贴的若干非晶片的厚度信息，并将所述厚度信息发送至所述主控单元，由所述主控单元控制所述抛光装置对非晶片进行抛光。
进一步，所述非晶片厚度测量装置包括：基准平面座、与所述主控模块电性相连的处理模块，以及与所述处理模块电性相连的测量组件；将蜡贴若干非晶片的陶瓷盘放置于所述基准平面座上，所述处理模块适于转动所述测量组件依次测量各非晶片的厚度，所述处理模块适于将所述厚度信息发送至所述主控模块。
进一步，所述测量组件包括：由所述处理模块控制的三轴转动机构、安装于轴端且与所述处理模块电性相连的测量器；所述处理模块适于控制所述三轴转动机构转动以带动所述测量器对非晶片进行厚度测量，并由所述测量器将测量结果发送至所述处理模块。
进一步，所述抛光装置包括：设置有抛沟的磨砂底座、抛光组件以及抛光液喷洒组件；将蜡贴若干非晶片的陶瓷盘背合在所述磨砂底座上，所述抛光组件适于覆盖陶瓷盘，所述主控模块适于控制所述抛光液喷洒组件向磨砂底座上喷洒抛光液，所述抛沟适于抛光液的流动；以及所述主控模块还适于控制所述抛光组件带动陶瓷盘在所述磨砂底座上转动以进行抛光。
进一步，所述抛光组件包括：主轴、通过若干横梁与主轴固定的各从轴，以及设置于各从轴轴端的盖体；所述盖体适于将陶瓷盘覆盖，所述主控模块适于通过直线电机控制主轴转动，以使各从轴绕主轴在所述磨砂底座上转动，从而带动陶瓷盘在所述磨砂底座上转动以进行抛光。
进一步，各从轴适于通过由所述主控模块控制的相应转动电机进行自转。
进一步，所述抛光组件包括还包括：与所述主控模块电性相连的升降机构；所述升降机构适于带动主轴、各从轴进行上下升降。
进一步，所述抛光液喷洒组件包括：与所述主控单元电性相连的液泵，储液仓以及若干喷嘴；所述储液仓适于存放抛光液，所述储液仓通过导管与各喷嘴相连，所述主控单元适于控制所述液泵抽取所述储液仓中抛光液，并通过各喷嘴向磨砂底座上进行喷射抛光液。
本发明的有益效果是，本发明实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工测量、记录，对需抛光的非晶片进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明抛光系统的原理框图；
图2是本发明非晶片厚度测量装置的结构图；
图3是本发明抛光装置的结构图；
图4是本发明抛光系统的工作方法的流程图。
图中：非晶片厚度测量装置1、基准平面座110、三轴转动机构120、测量器121；
抛光装置2、磨砂底座210、主轴220、从轴221、盖体222、升降机构230；
陶瓷盘3、非晶片4。
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。
实施例1
图1是本发明抛光系统的原理框图。
在本实施例中，如图1所示，本实施例提供了一种全自动非晶制程抛光系统，包括：主控单元、与所述主控单元电性相连的非晶片4厚度测量装置1，以及抛光装置2；其中所述非晶片厚度测量装置1适于测量陶瓷盘3上蜡贴的若干非晶片4的厚度信息，并将所述厚度信息发送至所述主控单元，由所述主控单元控制所述抛光装置2对非晶片4进行抛光。
在本实施例中，本实施例实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工测量、记录，对需抛光的非晶片4进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率。
在本实施例中，主控单元可以采用但不限于是STM32单片机。
图2是本发明非晶片厚度测量装置1的结构图。
在本实施例中，为了对蜡贴非晶片4的厚度进行测量，如图2所示，所述非晶片4厚度测量装置1包括：基准平面座110、与所述主控模块电性相连的处理模块，以及与所述处理模块电性相连的测量组件；将蜡贴若干非晶片4的陶瓷盘3放置于所述基准平面座110上，所述处理模块适于转动所述测量组件依次测量各非晶片4的厚度，所述处理模块适于将所述厚度信息发送至所述主控模块。
在本实施例中，处理模块可以采用但不限于是STC89C52处理芯片。
为了依次测量非晶片4厚度，所述测量组件包括：由所述处理模块控制的三轴转动机构120、安装于轴端且与所述处理模块电性相连的测量器121；所述处理模块适于控制所述三轴转动机构120转动以带动所述测量器121对非晶片4进行厚度测量，并由所述测量器121将测量结果发送至所述处理模块。
为了进行信息传输，所述处理模块适于通过串口与所述主控模块进行通信。
为了进行自动化信息统计，所述非晶片厚度测量装置1还包括：扫描模块；所述扫描模块适于采集陶瓷盘3的编号，所述处理模块适于将陶瓷盘3的编号和对应陶瓷盘3上蜡贴非晶片4的厚度信息发送至主控模块。
图3是本发明抛光装置2的结构图。
在本实施例中，为了进行抛光，如图3所示，所述抛光装置2包括：设置有抛沟的磨砂底座210、抛光组件以及抛光液喷洒组件；将蜡贴若干非晶片4的陶瓷盘3背合在所述磨砂底座210上，所述抛光组件适于覆盖陶瓷盘3，所述主控模块适于控制所述抛光液喷洒组件向磨砂底座210上喷洒抛光液，所述抛沟适于抛光液的流动；以及所述主控模块还适于控制所述抛光组件带动陶瓷盘3在所述磨砂底座210上转动以进行抛光。
在本实施例中，抛沟为以磨砂底座210中心的圈纹。
为了带动陶瓷盘3在磨砂底座210上转动以进行抛光，所述抛光组件包括：主轴220、通过若干横梁与主轴220固定的各从轴221，以及设置于各从轴221轴端的盖体222；所述盖体222适于将陶瓷盘3覆盖，所述主控模块适于通过直线电机控制主轴220转动，以使各从轴221绕主轴220在所述磨砂底座210上转动，从而带动陶瓷盘3在所述磨砂底座210上转动以进行抛光。
具体的，各从轴221适于通过由所述主控模块控制的相应转动电机进行自转。
具体的，所述抛光组件包括还包括：与所述主控模块电性相连的升降机构230；所述升降机构230适于带动主轴220、各从轴221进行上下升降。
在本实施例中，升降机构230通过一固定梁连接主轴220、各从轴221，并在升降机构230的升降轴上移动以实现主轴220、各从轴221进行上下升降。
在本实施例中，各从轴221还带有相应独立的升降件进行上下升降。
为了喷洒抛光液，所述抛光液喷洒组件包括：与所述主控单元电性相连的液泵，储液仓以及若干喷嘴；所述储液仓适于存放抛光液，所述储液仓通过导管与各喷嘴相连，所述主控单元适于控制所述液泵抽取所述储液仓中抛光液，并通过各喷嘴向磨砂底座210上进行喷射抛光液。
图4是本发明抛光系统的工作方法的流程图。
在本实施例中，如图4所示，本实施例还提供一种用于非晶片制程的抛光系统的工作方法，其包括：测量陶瓷盘3上蜡贴的非晶片4的厚度信息；依据所述厚度信息以对非晶片4进行抛光。
进一步，所述用于非晶片制程的抛光系统的工作方法通过抛光系统进行抛光。
综上所述，本发明实现了自动化进行抛光的功能，克服了传统的需要人工测量、记录，对需抛光的非晶片进行人工判别抛光厚度的问题，节省了人力、物力，并且提高了抛光效率；通过非晶片厚度测量装置对陶瓷盘上蜡贴的非晶片进行依次测量厚度，并将厚度信息自动传输到抛光装置中；通过扫描模块采集陶瓷盘的编号和对应陶瓷盘上蜡贴非晶片的厚度信息，以便于对各环节的信息进行分析；通过抛光装置对非晶片进行自动化抛光；通过抛光液喷洒组件进行喷洒抛光液，以达到更好的抛光效果。
以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (10)

1.一种抛光系统的工作方法，其特征在于，包括：
测量陶瓷盘上蜡贴的非晶片的厚度信息；
依据所述厚度信息以对非晶片进行抛光。
2.如权利要求1所述的工作方法，其特征在于，
所述抛光系统的工作方法采用抛光系统实现所述抛光系统的工作方法。
3.如权利要求2所述的工作方法，其特征在于，
所述抛光系统包括：
主控单元、与所述主控单元电性相连的非晶片厚度测量装置，以及抛光装置；其中
所述非晶片厚度测量装置适于测量陶瓷盘上蜡贴的若干非晶片的厚度信息，并将所述厚度信息发送至所述主控单元，由所述主控单元控制所述抛光装置对非晶片进行抛光。
4.如权利要求3所述的抛光系统，其特征在于，
所述非晶片厚度测量装置包括：基准平面座、与所述主控模块电性相连的处理模块，以及与所述处理模块电性相连的测量组件；
将蜡贴若干非晶片的陶瓷盘放置于所述基准平面座上，所述处理模块适于转动所述测量组件依次测量各非晶片的厚度，所述处理模块适于将所述厚度信息发送至所述主控模块。
5.如权利要求4所述的抛光系统，其特征在于，
所述测量组件包括：由所述处理模块控制的三轴转动机构、安装于轴端且与所述处理模块电性相连的测量器；
所述处理模块适于控制所述三轴转动机构转动以带动所述测量器对非晶片进行厚度测量，并由所述测量器将测量结果发送至所述处理模块。
6.如权利要求3所述的抛光系统，其特征在于，
所述抛光装置包括：设置有抛沟的磨砂底座、抛光组件以及抛光液喷洒组件；
将蜡贴若干非晶片的陶瓷盘背合在所述磨砂底座上，所述抛光组件适于覆盖陶瓷盘，所述主控模块适于控制所述抛光液喷洒组件向磨砂底座上喷洒抛光液，所述抛沟适于抛光液的流动；以及
所述主控模块还适于控制所述抛光组件带动陶瓷盘在所述磨砂底座上转动以进行抛光。
7.如权利要求6所述的抛光系统，其特征在于，
所述抛光组件包括：主轴、通过若干横梁与主轴固定的各从轴，以及设置于各从轴轴端的盖体；
所述盖体适于将陶瓷盘覆盖，所述主控模块适于通过直线电机控制主轴转动，以使各从轴绕主轴在所述磨砂底座上转动，从而带动陶瓷盘在所述磨砂底座上转动以进行抛光。
8.如权利要求7所述的抛光系统，其特征在于，
各从轴适于通过由所述主控模块控制的相应转动电机进行自转。
9.如权利要求7所述的抛光系统，其特征在于，
所述抛光组件包括还包括：与所述主控模块电性相连的升降机构；
所述升降机构适于带动主轴、各从轴进行上下升降。
10.如权利要求6所述的抛光系统，其特征在于，
所述抛光液喷洒组件包括：与所述主控单元电性相连的液泵，储液仓以及若干喷嘴；
所述储液仓适于存放抛光液，所述储液仓通过导管与各喷嘴相连，所述主控单元适于控制所述液泵抽取所述储液仓中抛光液，并通过各喷嘴向磨砂底座上进行喷射抛光液。
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