CN109297686B - 图形线宽测量方法及系统、数据处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。该图形线宽测量方法包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。本发明所提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置，能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

Description

图形线宽测量方法及系统、数据处理装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。

背景技术

为了生产出相同品质的显示产品，例如OLED产品，需要保证制作过程中基板上形成的图形的一致性，当基板上形成的图形的线宽均匀性存在周期性的变化或严重偏差时，对整体产品的特性将产生影响，产出的显示产品的画面可能会产生色差等现象。因此，对制作过程中在基板上形成的图形的线宽均匀性的管控尤为重要，而掩膜板的图形的线宽均匀性是影响形成在基板上的图形的线宽均匀性的最重要的因素。换言之，掩膜板的图形线宽问题和工艺方面的问题是造成基板上的图形的线宽均匀性问题的最主要的影响因素。

掩膜板的图形线宽均匀性主要通过对掩膜板的图形的线宽进行测量后得出的数据，但是显示产品制作过程中所使用的掩膜板的大小往往较大，使得对掩膜板所有区域的图形进行线宽测量非常困难，耗时较长，测量效率低。因此，现有技术中，通常通过对掩膜板的局部区域的图形的线宽进行测量，将掩膜板局部区域的图形的线宽均匀性数据作为掩膜板所有区域的图形线宽均匀性数据。

但现有技术中掩膜板的图形线宽测量方法，仅通过测量掩膜板的部分局部区域的图形线宽，无法准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，且现有技术的方法难以实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量。

发明内容

本发明旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一，提供一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。

为实现上述目的，本发明提供了一种图形线宽测量方法，该图形线宽测量方法包括：

获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；

根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

可选地，所述获取所述待测量区域的光透过率信息包括：

获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；

根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

可选地，所述待测量区域的光透过率信息包括所述待测量区域的平均光透过率，所述平均光透过率为

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T1为所述第二光强，I_T2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数。

可选地，所述确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息之后还包括：

根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。

为实现上述目的，本发明提供了一种数据处理装置，该数据处理装置包括获取模块和数据处理模块；

所述获取模块用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；

所述数据处理模块用于根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

可选地，所述获取模块具体用于获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

为实现上述目的，本发明提供了一种图形线宽测量系统，该图形线宽测量系统包括掩膜板和数据处理装置；

所述数据处理装置用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

可选地，该图形线宽测量系统还包括光源和分光装置，所述光源与所述掩膜板的待测量区域对应设置，所述分光装置位于所述光源和所述掩膜板之间；

所述光源用于向所述分光装置发射所述特定波长的光；

所述分光装置用于将所述特定波长的光分成传输至所述掩膜板的待测量区域的光和未传输至所述掩膜板的待测量区域的光；

所述数据处理装置具体用于获取未传输至所述掩膜板的待测量区域的光的第一光强和透过所述待测量区域的光的第二光强；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

可选地，该图形线宽测量系统还包括第一光强检测装置和第二光强检测装置，所述掩膜板位于所述第二光强检测装置和所述分光装置之间，所述第二光强检测装置与所述待测量区域对应设置，所述第二光强检测装置和所述第一光强检测装置分别与所述数据处理装置连接；

所述第二光强测量装置用于检测透过所述待测量区域的光的第二光强，并向所述数据处理装置发送所述第二光强；

所述第一光强测量装置用于检测未传输至所述掩膜板的待测量区域光的第一光强，并向所述数据处理装置发送所述第一光强。

可选地，所述数据处理装置还用于根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。

本发明的有益效果：

本发明所提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置的技术方案中，获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

附图说明

图1为现有技术中掩膜板图形线宽测量方法的示意图；

图2为本发明实施例一提供的一种图形线宽测量方法的流程图；

图3为本发明实施例二提供的一种图形线宽测量方法的流程图；

图4为一种掩膜板的平面示意图；

图5为光源、掩膜板、分光装置、第一光强检测装置和第二光强检测装置的结构示意图；

图6为各图片信息对应的平均灰阶的示意图；

图7为图形密度与平均灰阶的对应关系示意图；

图8为本发明实施例三提供的一种数据处理装置的结构示意图；

图9为本发明实施例四提供的一种图形线宽测量系统的结构示意图；

图10为图9中的图形线宽测量系统的一种应用示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置进行详细描述。

图1为现有技术中掩膜板图形线宽测量方法的示意图，如图1所示，具体而言，现有技术中掩膜板局部区域的图形线宽测量方法，首先获取掩膜板需要测量的区域即局部区域的图片信息(图1左边部分)，然后通过图像处理的方式对该图片信息进行线宽测试，例如，根据图片信息获得图片信息对应的平均垂直光强(图1右边部分)，再根据平均垂直光强计算出掩膜板的局部区域的平均图形线宽CD。但现有技术中掩膜板的图形线宽测量方法，仅通过测量掩膜板的部分局部区域的图形线宽，无法准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，且该方法难以实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量。为更好地解决对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量较难以及无法准确测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性的问题，本发明提出一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。

图2为本发明实施例一提供的一种图形线宽测量方法的流程图，如图2所示，该图形线宽测量方法包括：

步骤101、获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，掩膜板包括多个待测量区域。

步骤102、根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

本实施例中，在测量待测的掩膜板的图形线宽之前，事先通过预定算法模拟出光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，在对待测的掩膜板进行图形线宽测量时，首先获取掩膜板各待测量区域的光透过率信息，而后根据对应关系确定出各待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够提高掩膜板的图形线宽的测量效率，准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量。

本实施例所提供的图形线宽测量方法的技术方案中，获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

图3为本发明实施例二提供的一种图形线宽测量方法的流程图，如图3所示，该图形线宽测量方法包括：

步骤201、数据处理装置获取掩膜板的待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，掩膜板包括多个待测量区域。

其中，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光。

本实施例中，优选地，所述待测量区域为掩膜板的对应单位像素的区域。图4为一种掩膜板的平面示意图，如图4所示，该掩膜板为16*16像素的掩膜板，每个像素包括图4右侧所圈出的区域，即所述待测量区域可为图4右侧所圈出的区域，该区域中，箭头所指的距离即为该区域的平均图形线宽。

图5为光源、掩膜板、分光装置、第一光强检测装置和第二光强检测装置的结构示意图，如图5所示，本实施例中，采用光源G向分光装置F发射特定波长的光，分光装置F将所述光源G发射的特定波长的光L分成两束光L1和L2，一束光L1朝向所述掩膜板的待测量区域D发射，并透过所述待测量区域D到达第二光强检测装置T1，通过第二光强检测装置T1检测出透过待测量区域的光L3的第二光强；另一束光L2未传输至所述掩膜板的待测量区域D，而是直接传输至第一光强检测装置T2，通过第一光强检测装置T2检测出未传输至所述掩膜板的光L2的第一光强。本实施例中，第二光强检测装置T1和第一光强检测装置T2分别与数据处理装置连接，因此数据处理装置可获取第二光强检测装置T1所检测出的第二光强和第一光强检测装置T2所检测出的第一光强。不难理解的是，L1即为所述待测量区域D对应的入射光，L3即为所述待测量区域对应的透射光，而本实施例中，通过分光装置F，将入射光L1等效为L2进行测量，因此，L1的光强理论上等于L2的光强。

步骤202、数据处理装置根据第一光强和第二光强生成待测量区域的光透过率信息。

具体地，待测量区域的光透过率信息包括待测量区域的平均光透过率，数据处理装置根据第一光强、第二光强和预先获取的光强修正参数，生成待测量区域的平均光透过率。具体地，平均光透过率为

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T1为所述第二光强，I_T2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数，I_透为透射光的光强，I_入为入射光的光强。如图5所示，本实施例中，透射光为透过待测量区域D的光L3，入射光为入射至待测量区域D的上表面的光L1，I_入即为L1的光强，而L1的光强理论上等于L2的光强，I_透即为L3的光强。

本实施例中，虽然理论上L1的光强等于L2的光强，但一方面，由于光源在使用的过程中，光强随着时间的推移出现细微变化，另一方面，第一光强检测装置和第二光强检测装置之间测量光强的灵敏度存在差异。因此，为了保证测量的准确性，在测量掩膜板的图形线宽前，需要获取光强修正参数C。具体地，在装载掩膜板进行图形线宽测量之前，通过光源发出相同光强的光，采用如图5所示的分光装置进行分光，经分光装置分出的光束通过空气分别入射第一光强检测装置和第二光强检测装置时，第一光强检测装置和第二光强检测装置检测出来的光强理论上是相同的，但由于第一光强检测装置和第二光强检测装置存在差异，导致实际检测光强不同，假设第一光强检测装置检测出的光强为第一修正光强I1，第二光强检测装置检测出的光强为第二修正光强I1’，则光强修正参数C＝I1’/I1，由此可以获取第一光强检测装置和第二光强检测装置之间的光强修正参数C，光强修正参数C可预先存储于所述数据处理装置中，光强修正参数C可以实时获取更新，从而减少测量误差。

步骤203、数据处理装置根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

具体地，图形线宽信息包括平均图形线宽CD，数据处理装置根据待测量区域的平均光透过率T_A和预先建立的平均光透过率和平均图形线宽的对应关系，确定出待测量区域的平均光透过率T_A对应的平均图形线宽CD。

具体地，可通过以下过程建立平均光透过率和平均图形线宽的对应关系：

步骤a、选取具有不同图形线宽的多个掩膜板样品，掩膜板样品包括多个待测量区域。

步骤b、选取具有不同图形密度的待测量区域，获取各待测量区域对应的第一光强和对应的第二光强。

具体获取过程可参照上述对步骤201的描述，此处不再赘述。需要说明的是，由于使用相同光源发射相同光强的光，因此，各掩膜板样品的待测量区域对应的第一光强应当相同，不会随着图形线宽的变化而变化。

步骤c、根据各待测量区域对应的第一光强和对应的第二光强确定出对应的光透过率信息。

具体的光透过率信息的确定过程可参照上述对步骤202的描述，此处不再赘述。

步骤d、获取各待测量区域的图片信息。

步骤e、根据图片信息确定出各待测量区域对应的平均灰阶。

其中，灰阶是指表示待测量区域(单位像素)的亮暗程度的值，一般情况下，白色为0，黑色为255，根据亮暗程度可区分出256个亮暗度阶段，因此，可根据获取待测量区域的图片信息获取对应的平均灰阶。图6为各图片信息对应的平均灰阶的示意图，图6的上方部分为各待测量区域的图片信息示意图，图6的上方部分中，每个线框圈出的区域即为待测量区域，图6的下方部分为各图片信息对应的平均灰阶，其中，从左至右平均灰阶依次增大。如图6所示，具体而言，待测量区域中图形线宽变大而透光区域变窄时，待测量区域中的图形密度D_pattern增加，透过待测量区域的光的光强将减小，而待测量区域对应的平均灰阶受到待测量区域中的图形密度的影响，待测量区域对应的平均灰阶与图形密度成正比，因此，待测量区域对应的平均灰阶将增加。

步骤f、根据上述获取的各待测量区域对应的第二光强和平均灰阶，计算出第二光强与平均灰阶的对应关系。

具体地，第二光强与平均灰阶的对应关系为

其中，I_T1为第二光强，G_pattern为待测量区域对应的平均灰阶，具体地，第二光强与平均灰阶的对应关系可用公式

表示，其中，C₁为常数，即用于表征第二光强与平均灰阶的关系的常数。

步骤g、光透过率信息和上述第二光强与平均灰阶的对应关系，确定光透过率信息与平均灰阶的对应关系。

具体地，光透过率信息与平均灰阶的对应关系可用公式

本实施例中，上述公式

同样适用于第一光强I_T2，因此I_T2可以用公式

表示，其中，C₂为用于表征第一光强与参考平均灰阶的关系的常数，G_reference为参考平均灰阶，由于第一光强I_T2不变，即I_T2为常量，因此，C₂和G_reference亦为常量。因此，光透过率信息与平均灰阶的对应关系具体可用公式

表示，其中，C、C₁、C₂和G_reference均为常量。

步骤h、根据各待测量区域的图形密度和平均灰阶，确定出平均灰阶与图形密度的对应关系。

图7为图形密度与平均灰阶的对应关系示意图，图7中，横坐标表示图形密度(Pattern Density)，纵坐标表示平均灰阶(Gray Level)，结合图6和图7，可知，图形密度增加，平均灰阶增加，即图形密度与平均灰阶成正比，换言之，图形密度与第二光强成反比，即

其中，D_pattern为图形密度。

因此，平均灰阶与图形密度的对应关系可用公式G_pattern＝k×D_pattern表示，其中，k为用于表征平均灰阶与图形密度之间的对应关系的常数。

步骤i、根据光透过率信息与平均灰阶的对应关系和图形密度与平均灰阶的对应关系，确定出光透过率信息与图形密度的对应关系。

具体地，光透过率信息与图形密度的对应关系可用公式

其中，k为用于表征平均灰阶与图形密度之间的对应关系的常数。

步骤j、根据光透过率信息与图形密度的对应关系，确定光透过率信息与图形线宽信息的对应关系。

结合图6可知，图形线宽变大时，图形密度增加，由此，图形密度的变化能够用于表征图形线宽的变化，结合上述公式

即可确定出光透过率信息与图形线宽信息的对应关系。

步骤204、数据处理装置根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出掩膜板的图形线宽信息分布图。

具体地，数据处理装置根据所有待测量区域的平均图形线宽，绘制出掩膜板的图形线宽信息分布图，即掩膜板各待测量区域的平均图形线宽的分布图，根据该分布图即可确定该掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

本实施例中，通过获取掩膜板各待测量区域的光透过率信息，并根据光透过率信息与图形线宽信息的对应关系将光透过率信息换算成图形线宽信息，从而可以实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，进而能够正确地反映出该掩膜板的品质，同时，测量出的图形线宽数据还可以用作对掩膜板制作工艺中的问题点分析改善的基础数据。

本实施例所提供的图形线宽测量方法的技术方案中，获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

图8为本发明实施例三提供的一种数据处理装置的结构示意图，如图8所示，该数据处理装置包括获取模块301和数据处理模块302。

其中，获取模块301用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，掩膜板包括多个待测量区域。

数据处理模块302用于根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

具体地，获取模块301具体用于获取待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过待测量区域的光，所述入射光为入射至待测量区域的上表面的光；根据第一光强和第二光强生成待测量区域的光透过率信息。

具体地，本实施例所提供的数据处理装置，用于实现上述实施例二提供的图形线宽测量方法，具体描述可参见上述实施例二，此处不再赘述。

本实施例所提供的数据处理装置的技术方案中，获取模块用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，数据处理模块用于根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

图9为本发明实施例四提供的一种图形线宽测量系统的结构示意图，如图9所示，该图形线宽测量系统包括掩膜板和数据处理装置S，掩膜板包括多个待测量区域D。

其中，数据处理装置S用于获取待测量区域D的光透过率信息；根据待测量区域D的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域D的光透过率信息对应的图形线宽信息。

具体地，该图形线宽测量系统还包括光源G、分光装置F、第二光强检测装置T1和第一光强检测装置T2。其中，掩膜板设置于光源G与第二光强检测装置T1之间，光源G与待测量区域D对应设置，分光装置F设置于光源G与掩膜板之间，第二光强检测装置T1与待测量区域D对应设置，第二光强检测装置T1和第一光强检测装置T2分别与数据处理装置S连接。

具体地，如图9所示，光源G用于向分光装置F发射特定波长的光L，例如，光源采用UV LED光源，特定波长的光为波长为365nm的光或者白光；分光装置F用于将特定波长的光L分成朝向掩膜板的待测量区域D发射的光L1和未传输至掩膜板的光L2；第二光强测量装置T1用于检测透过待测量区域D的光L3的第二光强I_T1，并向数据处理装置S发送第二光强I_T1；第一光强测量装置T2用于检测未传输至所述掩膜板的光L2的第一光强I_T2，并向数据处理装置S发送第一光强I_T2；数据处理装置S具体用于根据第二光强I_T1和第一光强I_T2生成待测量区域D的光透过率信息。

具体地，待测量区域D的光透过率信息包括所述待测量区域D的平均光透过率，所述平均光透过率为

其中，T_A为所述待测量区域D的平均光透过率，I_T1为所述第二光强，I_T2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数。

本实施例中，优选地，第二光强检测装置T1和第一光强检测装置T2均为TDI传感器或者CCD传感器。

本实施例中，优选地，数据处理装置S为可用于处理数据的电脑等。

本实施例中，优选地，分光装置F为分束器，包括半反射镜(Half Mirror)F1和反射镜(Mirror)F2。如图9所示，从光源G射出的特定波长的光L，部分光L1透过半反射镜F1入射至掩膜板的待测量区域D，并透过待测量区域D入射至第二光强检测装置T1，另一部分光L2被半反射镜F1反射至反射镜F2，该另一部分光L2经反射镜F2反射至第一光强检测装置T2。

本实施例中，优选地，数据处理装置S还用于根据所有待测量区域D的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。

图10为图9中的图形线宽测量系统的一种应用示意图，为了能够提高掩膜板的图形线宽的测量速度，结合图9和图10，本实施例中，第二光强检测装置T1的数量为多个，多个第二光强检测装置T1并列排布，呈条形设置，其中，每个第二光强检测装置T1对应掩膜板的一个待测量区域D设置。如图9和图10所示，以掩膜板Z的相邻两边作为x轴和y轴进行说明，多个第二光强检测装置T1可沿x轴方向并列排布，且每个第二光强检测装置T1与掩膜板Z的沿x方向上的每个待测量区域一一对应设置。本实施例中，如图10所示，光源G为条形光源，光源G与多个第二光强检测装置T1对应设置。本实施例中，多个第二光强检测装置T1和条形光源G还可以沿掩膜板Z的y轴方向设置，本实施例对此不作具体限定。

在实际测量中，如图10所示，在光源G和多个第二光强检测装置T1装载掩膜板Z后，可通过类似光学扫描仪的扫描方式，通过移动机台使光源G和多个第二光强检测装置T1同时向y轴方向移动进行测量，从而能够提高掩膜板的图形线宽的测量速度。需要说明的是，当光源G和多个第二光强检测装置T1沿y轴方向设置时，则通过移动机台使光源G和多个第二光强检测装置T1同时向x轴方向移动。本实施例中，还可以通过移动掩膜板Z的方式进行测量，本实施例对此不作具体限定。本实施例通过呈条形设置的多个第二光强检测装置T1和光源G，以类似光学扫描仪的扫描方式，扩大了测量范围，减少了测量大型掩膜板的图形线宽的时间，提高了测量速度和效率。

需要说明的是，图10仅示出了部分图形线宽测量系统的结构，并未示出图10所示的分光装置F、第一光强检测装置T2和数据处理装置S，但应当了解的是，在实际应用中，图10所示的图形线宽测量系统还应当包括图9所示的分光装置F、第一光强检测装置T2和数据处理装置S，其中，第一光强检测装置T2的数量同样为多个，且多个第一光强检测装置T2也可呈条形设置，第一光强检测装置T2可与第二光强检测装置T1一一对应设置。本实施例中，为了补偿多个第二光强检测装置T1之间的灵敏度差异，可将多个第二光强检测装置T1放置于同一环境进行测量，再根据多个第二光强检测装置T1检测出的环境光强对多个第二光强检测装置T1之间的差异进行补正；同理，为了补偿多个第一光强检测装置T2之间的灵敏度差异，可将多个第一光强检测装置T2放置于同一环境进行测量，再根据多个第一光强检测装置T2检测出的环境光强对多个第一光强检测装置T2之间的差异进行补正。

本实施例所提供的图形线宽测量系统，用于实现上述实施例二提供的图形线宽测量方法，具体描述可参见上述实施例二，此处不再赘述。

本实施例所提供的图形线宽测量系统的技术方案中，数据处理装置用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种图形线宽测量方法，其特征在于，包括：

获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域，所述光透过率信息包括平均光透过率；

根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息；

其中，预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系包括公式：

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T2为所述待测量区域对应的入射光的第一光强，C为预先获取的光强修正参数，C₁为常数，k为用于表征平均灰阶与图形密度之间的对应关系的常数，D_pattern为所述待测量区域的图形密度，图形密度的变化能够用于表征图形线宽的变化，G_pattern＝k×D_pattern，G_pattern为所述待测量区域对应的平均灰阶。

2.根据权利要求1所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述获取所述待测量区域的光透过率信息包括：

获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；

根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

3.根据权利要求2所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述待测量区域的光透过率信息包括所述待测量区域的平均光透过率，所述平均光透过率为

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T1为所述第二光强，I_T2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数。

4.根据权利要求1所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息之后还包括：

根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。

5.一种数据处理装置，其特征在于，包括获取模块和数据处理模块；

所述获取模块用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域，所述光透过率信息包括平均光透过率；

所述数据处理模块用于根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息；

其中，预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系包括公式：

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T2为所述待测量区域对应的入射光的第一光强，C为预先获取的光强修正参数，C₁为常数，k为用于表征平均灰阶与图形密度之间的对应关系的常数，D_pattern为所述待测量区域的图形密度，图形密度的变化能够用于表征图形线宽的变化，G_pattern＝k×D_pattern，G_pattern为所述待测量区域对应的平均灰阶。

6.根据权利要求5所述的数据处理装置，其特征在于，所述获取模块具体用于获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

7.一种图形线宽测量系统，其特征在于，包括掩膜板和数据处理装置；

所述数据处理装置用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域，所述光透过率信息包括平均光透过率；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息；

其中，预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系包括公式：

其中，T_A为所述待测量区域的平均光透过率，I_T2为所述待测量区域对应的入射光的第一光强，C为预先获取的光强修正参数，C₁为常数，k为用于表征平均灰阶与图形密度之间的对应关系的常数，D_pattern为所述待测量区域的图形密度，图形密度的变化能够用于表征图形线宽的变化，G_pattern＝k×D_pattern，G_pattern为所述待测量区域对应的平均灰阶。

8.根据权利要求7所述的图形线宽测量系统，其特征在于，还包括光源和分光装置，所述光源与所述掩膜板的待测量区域对应设置，所述分光装置位于所述光源和所述掩膜板之间；

所述光源用于向所述分光装置发射特定波长的光；

所述分光装置用于将所述特定波长的光分成传输至所述掩膜板的待测量区域的光和未传输至所述掩膜板的待测量区域的光；

所述数据处理装置具体用于获取未传输至所述掩膜板的待测量区域的光的第一光强和透过所述待测量区域的光的第二光强；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。

9.根据权利要求8所述的图形线宽测量系统，其特征在于，还包括第一光强检测装置和第二光强检测装置，所述掩膜板位于所述第二光强检测装置和所述分光装置之间，所述第二光强检测装置与所述待测量区域对应设置，所述第二光强检测装置和所述第一光强检测装置分别与所述数据处理装置连接；

所述第二光强测量装置用于检测透过所述待测量区域的光的第二光强，并向所述数据处理装置发送所述第二光强；

所述第一光强测量装置用于检测未传输至所述掩膜板的待测量区域光的第一光强，并向所述数据处理装置发送所述第一光强。

10.根据权利要求7所述的图形线宽测量系统，其特征在于，所述数据处理装置还用于根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。

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