CN109212915B - 一种曝光方法及曝光设备 - Google Patents
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Abstract
本申请适用于设备控制技术领域，提供了一种曝光方法及曝光设备，所述曝光方法包括：将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布，从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光，通过本申请可以降低对位和曝光过程的时间，提高生产效率。
Description
技术领域
本申请属于设备控制技术领域，尤其涉及一种曝光方法及曝光设备。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)屏幕具有节能环保、轻便等优势，目前在显示器领域得到广泛的应用。同时，LCD屏幕具有较高的对比度和较快的响应速度，也获得市场上的普遍认可。
目前，液晶显示屏的制备工艺中，曝光处理是必不可少的一个步骤。对液晶显示器的曝光处理需要先进行对位处理，再进行曝光处理。然而，现有的对位和曝光的过程存在控制时间长、效率低的问题。
申请内容
有鉴于此，本申请实施例提供了一种曝光方法及曝光设备，以解决现有的对位和曝光的过程控制时间长、效率低的问题。
本申请的一实施例提供了一种曝光方法，包括：
将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布；
从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位；
在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光。
作为本申请另一实施例，所述依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光包括：
从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光。
作为本申请另一实施例，所述按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光之前，包括：
计算从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径；
将所述最短路径对应的待曝光样品中的所有子区域的经过顺序作为预设顺序。
作为本申请另一实施例，所述待曝光样品为矩形样品；
所述待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布；
所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域。
作为本申请另一实施例，所述从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光包括：
A1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
A2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
A3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的上一行是否存在其它子区域；
A4、若存在，则将该行最后一个子区域的上一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
A5、循环执行A2至A4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
B2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
B3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的下一行是否存在其它子区域；
B4、若存在，则将该行最后一个子区域的下一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B5、循环执行B2至B4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
作为本申请另一实施例，所述从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光包括：
C1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
C2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
C3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的上一列是否存在其它子区域；
C4、若存在，则将该列最后一个子区域的上一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
C5、循环执行C2至C4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
E2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
E3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的下一列是否存在其它子区域；
E4、若存在，则将该列最后一个子区域的下一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E5、循环执行E2至E4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
作为本申请另一实施例，所述依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位包括：
依次通过所述对位区域中的对位标记对待曝光样品进行对位。
作为本申请另一实施例，所述对位标记位于所述对位区域的中心位置。
本申请实施例还提供了一种曝光设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现如上述曝光方法的步骤。
本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被一个或多个处理器执行时实现如上述曝光方法的步骤。
本申请实施例还提供了一种计算机程序产品，所述计算机程序产品包括计算机程序，所述计算机程序被一个或多个处理器执行时实现如上述曝光方法的步骤。
本申请实施例还提供了一种曝光方法，包括：
F1、将矩形的待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布；
F2、从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域中的对位标记对所述待曝光样品进行对位，所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域，所述对位标记位于所述对位区域的中心位置；
F3、在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光；
F4、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
F5、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
F6、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的上一行是否存在其它子区域；
F7、若存在，则将该行最后一个子区域的上一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
F8、循环执行F5至F7，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
本申请实施例将待曝光样品划分为多个子区域，多个子区域呈阵列分布，在对位时，选取多个子区域中的两个作为对位区域对所述待曝光样品进行对位，在最后一个对位区域对位完成后，再依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光，由于将对位的过程由每个子区域分别进行对位修改为从子区域中选取两个子区域进行对位，缩短了曝光工艺中对位的时间，提高了生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请的一实施例提供的一种曝光方法的实现流程示意图；
图2是本申请的一实施例提供的另一种曝光方法的实现流程示意图；
图3是本申请的一实施例提供的一种划分了子区域的待曝光样品的示意图；
图4是本申请的一实施例提供的对位区域在一侧的待曝光样品的示意图；
图5是本申请的一实施例提供的另一种曝光方法的实现流程示意图；
图6是本申请的一实施例提供的曝光设备的示意框图；
图7是本申请的一实施例提供的另一种曝光设备的示意框图。
具体实施方式
以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本申请。在其它情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
应当理解，当在本说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
还应当理解，在此本申请说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本申请。如在本申请说明书和所附权利要求书中所使用的那样，除非上下文清楚地指明其它情况，否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
还应当进一步理解，在本申请说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。
如在本说明书和所附权利要求书中所使用的那样，术语“如果”可以依据上下文被解释为“当...时”或“一旦”或“响应于确定”或“响应于检测到”。类似地，短语“如果确定”或“如果检测到[所描述条件或事件]”可以依据上下文被解释为意指“一旦确定”或“响应于确定”或“一旦检测到[所描述条件或事件]”或“响应于检测到[所描述条件或事件]”。
为了说明本申请所述的技术方案，下面通过具体实施例来进行说明。
图1是本申请的一实施例提供的一种曝光方法的实现流程示意图，如图所示该方法可以包括以下步骤：
步骤S101，将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布。
在本申请实施例中，所述待曝光样品可以是任意形状的，例如，矩形、圆形、三角形等。待曝光样品可以是显示屏中的矩形玻璃基板，将待曝光样品划分为至少三个子区域，划分的过程中可以划分为规则的子区域，例如，各个子区域之间的形状、大小相同。划分的子区域呈阵列分布，子区域的中心点是按照预设步长排列的。
步骤S102，从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位。
在本申请实施例中，对待曝光样本进行曝光之前需要先进行对位操作。这是因为，大多数半导体工艺中，是需要使用多层光刻板的，多层光刻板之间对应的位置一致，才能保证在样本中多次光刻形成的图形为预期的图形，否则多层工艺产生的多层图形就会错位。对位的过程实际上是通过对位标记完成的，可以是：从待曝光样品中选择两个子区域作为对应区域，对位区域中设计了对位标记。将光刻板上的对位标记与待曝光样品中上一侧光刻工艺留下的对位标记对齐的过程就是对位的过程。如果两个对位区域的对位标记对位成功，那么就表示整个待曝光样品对位成功。理论而言，两个平面中的图形完全对应一致，只要保证两个平面中的两个点对位一致就可以。为了获得较好的对位效果，两个对位区域尽量是不相邻的两个子区域。即选取的两个点的位置不要太近。
当然，实际应用中，将待曝光样品中每个子区域中均设计对位标记，将每个子区域中的对位标记对位成功后再进行曝光也是可以的。然而，当子区域的个数较多时，就会大大增加对位的时间。所以，本申请实施例采用两个对位区域对所述待曝光样品进行对位，大大降低了对位的时间。两个对位区域进行对位的顺序可以遵循先左后右，先上后下的原则进行。具体的顺序不再限制。
步骤S103，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光。
在本申请实施例中，在将两个对位区域进行对位完成后，就可以对待曝光样品进行曝光，进行曝光的过程是将待曝光样品中的所有子区域分别进行曝光。
本申请实施例通过缩减对位区域的个数，减少了对位的次数，以将待曝光样本划分为六个子区域为例，仅需要进行两次对位的过程，减少了四次对位的过程，大大缩减了工艺时间。
图2是本申请的一实施例提供的另一种曝光方法的实现流程示意图，如图所示该方法可以包括以下步骤：
步骤S201，将矩形的待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布。
在本申请实施例中，目前的显示屏多为矩形显示屏，所以，待曝光样品为矩形样本，待曝光样品中的子区域也为矩形子区域，待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布。图3是本申请的一实施例提供的一种划分为多个子区域的待曝光样本的示意图，图3中的shot表示子区域，通过图中可以看出，矩形待曝光样品划分为6个矩形子区域，6个矩形子区域呈阵列分布。
步骤S202，从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域中的对位标记对所述待曝光样品进行对位，所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域，所述对位标记位于所述对位区域的中心位置。
在本申请实施例中，实际上，进行对位的过程，不可能保证光刻板上的对位标记与待曝光样品上的对位标记完全对应一致，是允许存在误差的，只要保证误差在一定范围的即可。如果选取的两个子区域的距离太近，在待曝光样品中，两个对位标记就可能出现在待曝光样本的同一侧，例如图4所示的待曝光样品，如果选取的对位区域为子区域2和子区域3，那么对位完成后就有可能出现：在对位区域2和3内的图形误差在允许范围内，然而，在远离对位区域的待曝光样品的另一侧，例如子区域6，图形的误差就有可能在允许的范围之外。或者，选取的对位区域为子区域5和6，则有可能出现，在子区域3中图形误差在允许的范围之外。图4的待曝光样品的示例仅划分为6个子区域，如果划分的子区域比较多时，这种情况就会比较明显。所以，两个对位区域尽量不要在同一行、不要在同一列。如果仅通过两个区域的对位标记对待曝光样品进行对位，那么两个区域的对位标记越远越能够保证待曝光样品的对位一致。所以，所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域。例如，图3所示实施例中的两个对位区域：子区域1和子区域4。子区域1和子区域4不在同一行、不在同一列、且距离较远。对位标记可以参照图3所示实施例中对位区域内部的两个五角星。每个对位区域内部的对位标记可以是单个图形，也可以是一组图形，通常对位标记位于对位区域的中心位置。
步骤S203，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置。
步骤S204，从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光。
步骤S205，在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的上一行是否存在其它子区域。
步骤S206，若存在，则将该行最后一个子区域的上一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
步骤S207，循环执行步骤S204至步骤S206，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
在本申请实施例中，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，将最后一个对位区域作为起始位置，如果将其它区域作为起始位置就会额外增加一步机械臂控制的曝光装置由最后一个对位区域移动到起始位置的过程，或者增加一步装载待曝光样品的载物台将起始位置对应的子区域移动到曝光装置下面的过程。所以，将最后一个对位区域作为曝光的起始位置，可以降低曝光工艺的时间。步骤S203至步骤S207的曝光顺序为图3所示的曝光顺序：子区域4到子区域5到子区域6到子区域1到子区域2到子区域3。
需要说明的是，步骤S203至步骤S207只是依次对所述矩形的待曝光样品中的所有子区域进行曝光的一个举例，实际应用中，还可以是其它过程，例如：
B1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
B2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
B3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的下一行是否存在其它子区域；
B4、若存在，则将该行最后一个子区域的下一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B5、循环执行B2至B4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
或者，
C1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
C2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
C3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的上一列是否存在其它子区域；
C4、若存在，则将该列最后一个子区域的上一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
C5、循环执行C2至C4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
或者，
E1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
E2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
E3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的下一列是否存在其它子区域；
E4、若存在，则将该列最后一个子区域的下一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E5、循环执行E2至E4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
本申请实施例以矩形的待曝光样品作为举例，细化了如何从最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光。在本申请实施例中，以图3为例，通过两个子区域(子区域1和子区域4)作为对位区域对待曝光样品进行对位，节省了对位的时间；将最后一个对位的对位区域(子区域4)作为起始位置开始曝光，节省了机械臂移动位置的时间；最后，通过规划曝光的路线，节省了曝光过程的时间。就曝光装置而言，移动的轨迹为子区域1到子区域4到子区域5到子区域6到子区域1到子区域2到子区域3。
图5是本申请的一实施例提供的另一种曝光方法的实现流程示意图，如图所示该方法可以包括以下步骤：
步骤S501，将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布。
步骤S502，从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位。
步骤S501至步骤S502的内容与步骤S101至步骤S102的内容一致，具体可参照步骤S101至步骤S102的描述，在此不再赘述。
步骤S503，在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，计算从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径。
在本申请实施例中，对待曝光样品曝光的过程实际上是对待曝光样品中的所以子区域进行曝光的过程，也可以理解为曝光装置在每个子区域的上方停留一定时间进行曝光的过程。通常曝光装置中进行曝光的黄光或紫外光位于曝光区域的中心位置，所以，在对每个子区域进行曝光的时间一定的情况下，对整个待曝光样品进行曝光的最短时间就转化为求取从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径。
步骤S504，将所述最短路径对应的待曝光样品中的所有子区域的经过顺序作为预设顺序。
步骤S505，从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光。
在本申请实施例中，计算了最短路径之后，将最短路径对应的待曝光样品中的所有子区域的经过顺序作为预设顺序，从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光。
本申请实施例将对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光的过程转化为从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径的问题。通过所述最短路径能够降低曝光工艺的工艺时间。
应理解，上述实施例中各步骤的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本申请实施例的实施过程构成任何限定。
图6是本申请的一实施例提供的一种曝光设备的示意框图，为了便于说明，仅示出与本申请实施例相关的部分。
所述曝光设备6包括：
划分模块61，用于将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布；
对位模块62，用于从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位；
曝光模块63，用于在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光。
可选的，所述曝光模块63还用于：
从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光。
可选的，所述曝光设备6还包括：
最短路径计算模块64，用于所述按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光之前，计算从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径；
预设顺序确定模块65，用于将所述最短路径对应的待曝光样品中的所有子区域的经过顺序作为预设顺序。
可选的，所述待曝光样品为矩形样品；
所述待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布；
所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域。
可选的，所述曝光模块63包括：
第一曝光单元631，用于：
A1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
A2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
A3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的上一行是否存在其它子区域；
A4、若存在，则将该行最后一个子区域的上一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
A5、循环执行A2至A4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
可选的，所述曝光模块63包括：
第二曝光单元632，用于：
B1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
B2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
B3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的下一行是否存在其它子区域；
B4、若存在，则将该行最后一个子区域的下一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B5、循环执行B2至B4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
可选的，所述曝光模块63包括：
第三曝光单元633，用于：
C1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
C2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
C3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的上一列是否存在其它子区域；
C4、若存在，则将该列最后一个子区域的上一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
C5、循环执行C2至C4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
可选的，所述曝光模块63包括：
第四曝光单元634，用于：
E1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
E2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
E3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的下一列是否存在其它子区域；
E4、若存在，则将该列最后一个子区域的下一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E5、循环执行E2至E4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
可选的，所述对位模块还用于：
依次通过所述对位区域中的对位标记对待曝光样品进行对位，所述对位标记位于所述对位区域的中心位置。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，仅以上述各功能模块的划分进行举例说明，实际应用中，可以根据需要而将上述功能分配由不同的功能模块完成，即将所述曝光设备的内部结构划分成不同的功能模块，以完成以上描述的全部或者部分功能。实施例中的各功能模块可以集成在一个处理模块中，也可以是各个模块单独物理存在，也可以两个或两个以上模块集成在一个模块中，上述集成的模块既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能模块的形式实现。另外，各功能模块的具体名称也只是为了便于相互区分，并不用于限制本申请的保护范围。上述曝光设备中模块的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
图7是本申请的一实施例提供的另一种曝光设备的示意框图。如图7所示，该实施例的曝光设备7包括：一个或多个处理器70、存储器71以及存储在所述存储器71中并可在所述处理器70上运行的计算机程序72。所述处理器70执行所述计算机程序72时实现上述曝光方法实施例中的步骤，例如图1所示的步骤S101至S103。或者，所述处理器70执行所述计算机程序72时实现如图6所示实施例提供的曝光设备中各模块/单元的功能，例如图6所示模块61至63的功能。
示例性的，所述计算机程序72可以被分割成一个或多个模块/单元，所述一个或者多个模块/单元被存储在所述存储器71中，并由所述处理器70执行，以完成本申请。所述一个或多个模块/单元可以是能够完成特定功能的一系列计算机程序指令段，该指令段用于描述所述计算机程序72在所述曝光设备7中的执行过程。例如，所述计算机程序72可以被分割成划分模块、对位模块、曝光模块。
所述划分模块，用于将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布；
所述对位模块，用于从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位；
所述曝光模块，用于在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，依次对所述待曝光样品中的所有子区域进行曝光。
其它模块或者单元可参照图6所示的实施例中的描述，在此不再赘述。
所述曝光设备包括但不仅限于处理器70、存储器71。本领域技术人员可以理解，图7仅仅是曝光设备7的一个示例，并不构成对曝光设备7的限定，可以包括比图示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者不同的部件，例如所述曝光设备还可以包括输入设备、输出设备、网络接入设备、总线等。
所述处理器70可以是中央处理单元(Central Processing Unit，CPU)，还可以是其他通用处理器、数字信号处理器(Digital Signal Processor，DSP)、专用集成电路(Application Specific Integrated Circuit，ASIC)、现成可编程门阵列(Field-Programmable Gate Array，FPGA)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等。通用处理器可以是微处理器或者该处理器也可以是任何常规的处理器等。
所述存储器71可以是所述曝光设备7的内部存储单元，例如曝光设备7的硬盘或内存。所述存储器71也可以是所述曝光设备7的外部存储设备，例如所述曝光设备7上配备的插接式硬盘，智能存储卡(Smart Media Card,SMC)，安全数字(Secure Digital,SD)卡，闪存卡(Flash Card)等。进一步地，所述存储器71还可以既包括所述曝光设备7的内部存储单元也包括外部存储设备。所述存储器71用于存储所述计算机程序以及所述曝光设备所需的其他程序和数据。所述存储器71还可以用于暂时地存储已经输出或者将要输出的数据。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述或记载的部分，可以参见其它实施例的相关描述。
本领域普通技术人员可以意识到，结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤，能够以电子硬件、或者计算机软件和电子硬件的结合来实现。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行，取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能，但是这种实现不应认为超出本申请的范围。
在本申请所提供的实施例中，应该理解到，所揭露的曝光设备和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的曝光设备实施例仅仅是示意性的，例如，所述模块或单元的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通讯连接可以是通过一些接口，装置或单元的间接耦合或通讯连接，可以是电性，机械或其它的形式。
所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外，在本申请各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中，也可以是各个单元单独物理存在，也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能单元的形式实现。
所述集成的模块/单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请实现上述实施例方法中的全部或部分流程，也可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一计算机可读存储介质中，该计算机程序在被处理器执行时，可实现上述各个方法实施例的步骤。其中，所述计算机程序包括计算机程序代码，所述计算机程序代码可以为源代码形式、对象代码形式、可执行文件或某些中间形式等。所述计算机可读介质可以包括：能够携带所述计算机程序代码的任何实体或装置、记录介质、U盘、移动硬盘、磁碟、光盘、计算机存储器、只读存储器(ROM，Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM，Random Access Memory)、电载波信号、电信信号以及软件分发介质等。需要说明的是，所述计算机可读介质包含的内容可以根据司法管辖区内立法和专利实践的要求进行适当的增减，例如在某些司法管辖区，根据立法和专利实践，计算机可读介质不包括是电载波信号和电信信号。
以上所述实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种曝光方法，其特征在于，包括：
将待曝光样品划分为至少三个子区域，所述待曝光样品中的子区域呈阵列分布；
从所述待曝光样品的子区域中选取两个子区域作为所述待曝光样品的两个对位区域，并依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位；
在通过最后一个对位区域对所述待曝光样品对位完成后，从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域分别进行曝光。
2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光之前，包括：
计算从所述最后一个对位区域的中心点开始经过所述待曝光样品中的所有子区域的中心点的最短路径；
将所述最短路径对应的待曝光样品中的所有子区域的经过顺序作为预设顺序。
3.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述待曝光样品为矩形样品；
所述待曝光样品中的子区域呈矩形阵列分布；
所述对位区域为所述待曝光样品的两个不相邻的顶点所在的子区域。
4.如权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，所述从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光包括：
A1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
A2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
A3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的上一行是否存在其它子区域；
A4、若存在，则将该行最后一个子区域的上一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
A5、循环执行A2至A4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一行，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
B2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的行依次对该行所有的子区域进行曝光；
B3、在对该行最后一个子区域进行曝光之后，判断该行最后一个子区域的下一行是否存在其它子区域；
B4、若存在，则将该行最后一个子区域的下一行中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
B5、循环执行B2至B4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
5.如权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，所述从所述最后一个对位区域开始，按照预设顺序依次对所述待曝光样品的所有子区域进行曝光包括：
C1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的最后一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
C2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
C3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的上一列是否存在其它子区域；
C4、若存在，则将该列最后一个子区域的上一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
C5、循环执行C2至C4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E1、若所述最后一个对位区域在所述矩形阵列的第一列，则将所述最后一个对位区域作为起始位置；
E2、从起始位置开始沿着所述起始位置所在的列依次对该列所有的子区域进行曝光；
E3、在对该列最后一个子区域进行曝光之后，判断该列最后一个子区域的下一列是否存在其它子区域；
E4、若存在，则将该列最后一个子区域的下一列中距离最近的子区域作为起始位置，若不存在，则对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕；
E5、循环执行E2至E4，直到对所述待曝光样品的所有子区域曝光完毕。
6.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述依次通过所述对位区域对所述待曝光样品进行对位包括：
依次通过所述对位区域中的对位标记对待曝光样品进行对位。
7.如权利要求6所述的曝光方法，其特征在于，所述对位标记位于所述对位区域的中心位置。
8.一种曝光设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至7任一项所述方法的步骤。
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