CN109037105A - 半导体清洗设备及利用该设备清洗助焊剂的方法 - Google Patents

半导体清洗设备及利用该设备清洗助焊剂的方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种半导体清洗设备，包括：储液杯，所述储液杯用于收集清洗废液；顶盖，所述顶盖包括颈部和开口部，所述颈部位于顶盖的上部，颈部直径小于开口部直径，所述开口部覆盖在储液杯上，顶盖和储液杯构成清洗腔室；以及雾化器，所述雾化器为中空结构，所述雾化器的顶端密封，所述雾化器的底端与所述顶盖的颈部固定连通，所述中空结构的侧面具有一个或多个第一通孔，清洗液通过第一通孔进入清洗腔室。

Description

半导体清洗设备及利用该设备清洗助焊剂的方法
技术领域
本发明涉及半导体制造装备领域，具体而言，本发明涉及半导体清洗设备及利用该设备清洗助焊剂的方法。
背景技术
随着电子产品小型化、集成化、智能化的发展，IC芯片的复杂度在大幅增加，对应的IO引脚的数量也大幅提升，而Bumping(凸块)工艺的发展很好的解决了这个问题。
目前随着Bumping技术的发展，通过电镀或者植球工艺形成的晶圆级封装的焊球阵列(BGA)的焊球数量进一步增大、尺寸和间距进一步减小，而回流焊工艺是其中必不可少的一环。目前大多数回流焊工艺都需要用到助焊剂，助焊剂能很好的解决焊球表面氧化以及回流焊中再氧化问题，同时降低了熔融焊料的表面张力。
在使用助焊剂进行回流焊后需要进行助焊剂清洗工艺来去除回流焊后的助焊剂残留，因为残留的助焊剂会导致后续工艺中的电接触不良、焊接孔洞以及基板腐蚀等一系列问题。
现有的去除助焊剂工艺中，使用清洗液、去离子水在多级清洗槽中进行清洗，清洗过程中使用通气泡、超声等辅助工艺，但清洗效果一般，清洗的时间较长，成本较高。为了实现更好的清洗效果，目前的解决方案主要从清洗液方面进行改进，但清洗液的改进会带来污染和健康等环保问题，同时由于清洗液作为耗材，显著提升了清洗工艺的成本。此外，现有技术中在清洗助焊剂结束后还需要进行甩干、吹干等工艺，增加了晶圆破片等风险。
因此本领域需要一种新型的半导体清洗设备及利用该设备清洗助焊剂的方法。
发明内容
针对现有技术中存在的技术问题，根据本发明的一个方面，提供一种半导体清洗设备，包括：储液杯，所述储液杯用于收集清洗废液；顶盖，所述顶盖包括颈部和开口部，所述颈部位于顶盖的上部，颈部直径小于开口部直径，所述开口部覆盖在储液杯上，顶盖和储液杯构成清洗腔室；以及雾化器，所述雾化器为中空结构，所述雾化器的顶端密封，所述雾化器的底端与所述顶盖的颈部固定连通，所述中空结构的侧面具有一个或多个第一通孔，清洗液通过第一通孔进入清洗腔室。
在本发明的一个实施例中，该半导体清洗设备还包括：支架及其移动控制系统，所述支架及其移动控制系统设置在半导体清洗设备的底座上，
其中所述储液杯是中空的环形杯体，所述支架设置在所述储液杯的中空部分中，所述储液杯包括内壁、设置在内壁顶端的垫圈、外壁、设置在外壁顶端的垫圈、连接内壁和外壁的杯底以及出液口。
在本发明的一个实施例中，所述储液杯连接至移动装置，用于在清洗前垂直向上移动储液杯，使得杯口内壁顶端处的垫圈将晶圆托起，杯口外壁顶端处的垫圈与顶盖接触。
在本发明的一个实施例中，所述第一通孔包括水平延伸的直通孔和斜通孔，所述直通孔与颈部圆形内壁相交点处的切线基本垂直，斜通孔与颈部圆形内壁相交点处的切线成非垂直的特定角度。
在本发明的一个实施例中，该半导体清洗设备还包括设置在顶盖的中间部位的一个或多个第二通孔，所述第二通孔是水平延伸的通孔，所述第二通孔与所述顶盖内壁成非垂直的特定角度。
在本发明的一个实施例中，该半导体清洗设备还包括加热槽，所述加热槽通过管道与顶盖的第一通孔连通，所述加热槽用于对清洗液进行加热。
在本发明的一个实施例中，所述顶盖为反漏斗形状，侧面为平滑曲面，具有底部半径r1、漏斗外半径r2、顶盖的高度h，其中底部半径r1指的是顶盖与储液杯接触的开口部分的圆半径，漏斗外半径r2指的是顶盖从曲面转变为近似平面的拐点处之间的圆弧半径，顶盖的高度h指的是从顶盖颈部至底部的垂直距离。
根据本发明的另一个方面，提供一种助焊剂清洗方法，包括：
将清洗液加热到预定温度；
使清洗液与惰性气体混合进入清洗腔室；
在顶盖颈部使清洗液转变为雾态；
关闭清洗液阀门，保持惰性气体流，吹干晶圆表面。
在本发明的另一个实施例中，该方法还包括：通过顶盖中部水平孔向清洗腔室通入惰性气体。
在本发明的另一个实施例中，据预先设定的气液比例，调节输送的清洗液和/或惰性气体的流量或压力，然后通过三通阀门将清洗液和惰性气体一起送入清洗腔室内。
附图说明
为了进一步阐明本发明的各实施例的以上和其它优点和特征，将参考附图来呈现本发明的各实施例的更具体的描述。可以理解，这些附图只描绘本发明的典型实施例，因此将不被认为是对其范围的限制。在附图中，为了清楚明瞭，相同或相应的部件将用相同或类似的标记表示。
图1示出根据本发明的一个实施例的半导体清洗设备100的垂直剖面示意图。
图2示出储液杯120和支架110的俯视图。
图3示出顶盖130的立体示意图。
图4A示出根据本发明的一个实施例的雾化器的剖面正视图。
图4B示出根据本发明的一个实施例的雾化器的横截面俯视图。
图5示出根据本发明的另一个实施例的半导体清洗设备500的垂直剖面示意图。
图6示出沿顶盖530中部的B-B截取的截面俯视图。
图7示出根据本发明的一个实施例利用半导体清洗装置清洗助焊剂的工艺流程图。
具体实施方式
在以下的描述中，参考各实施例对本发明进行描述。然而，本领域的技术人员将认识到可在没有一个或多个特定细节的情况下或者与其它替换和/或附加方法、材料或组件一起实施各实施例。在其它情形中，未示出或未详细描述公知的结构、材料或操作以免使本发明的各实施例的诸方面晦涩。类似地，为了解释的目的，阐述了特定数量、材料和配置，以便提供对本发明的实施例的全面理解。然而，本发明可在没有特定细节的情况下实施。此外，应理解附图中示出的各实施例是说明性表示且不一定按比例绘制。
在本说明书中，对“一个实施例”或“该实施例”的引用意味着结合该实施例描述的特定特征、结构或特性被包括在本发明的至少一个实施例中。在本说明书各处中出现的短语“在一个实施例中”并不一定全部指代同一实施例。
图1示出根据本发明的一个实施例的半导体清洗设备100的垂直剖面示意图。如图1所示，半导体清洗设备100可包括支架110及其移动控制系统、储液杯120及其移动控制系统、顶盖130和雾化器140。
支架110及其移动控制系统可以设置在半导体清洗设备100底座上，用于在清洗前定位并支撑晶圆。支架110可以是三臂支架或其他支架，例如，也可以是吸盘支架，以通过真空吸附来实现更稳定的晶圆夹持，在晶圆需要脱离支架时，卸载真空吸附即可。
储液杯120及其移动控制系统可以设置在半导体清洗设备100底座上，用于收集清洗废液。在本发明的一些实施例中，储液杯还可提供液体浸泡功能。储液杯120可以是中空的环形杯体。支架110位于储液杯的中空部分中。图2示出储液杯120和支架110的俯视图。结合图1和图2，储液杯120包括内壁121、设置在内壁121顶端的垫圈122、外壁123、设置在外壁123顶端的垫圈124以及连接内壁和外壁的杯底125。垫圈122和124可以是具有防水、防酸或防高温等性能的O型圈。外壁123顶端可高于内壁121顶端。还可在内壁121顶端的垫圈122顶端设置真空吸嘴，以通过真空吸附来实现更稳定的晶圆夹持，在晶圆需要脱离垫圈122时，卸载真空吸附即可。
储液杯120还可包括出液口126。出液口126可设置在储液杯120的杯底或侧面，并与管道连接，用于排出或收集清洗废液。
储液杯120的移动控制系统，用于在清洗前垂直向上移动储液杯120，使得杯口内壁121顶端处的垫圈122将晶圆托起，杯口外壁123顶端处的垫圈122与顶盖130接触。顶盖130和储液杯120构成封闭的清洗腔室。在清洗完成后，垂直向下移动储液杯120，储液杯120与顶盖130分离，晶圆与支架110接触，然后杯口内壁121顶端处的垫圈122与晶圆分离。
图3示出顶盖130的立体示意图。顶盖130可以是反漏斗形状，包括颈部131和底部132。颈部131位于顶盖130的上部，且相对于底部132细小。如图3所示，顶盖130的形状和大小由三个关键尺寸决定：底部半径r1、漏斗外半径r2、顶盖的高度h，其中底部半径r1指的是顶盖与储液杯120接触的开口部分的圆半径，漏斗上部外半径r2指的是顶盖上部外曲面的半径，即圆弧从曲面转变为近似平面的拐点处部分的半径，顶盖的高度h指的是从顶盖颈部131至底部132的垂直距离。整个顶盖从顶部平滑过渡到底部，例如，顶盖130可以是双曲面或者是上部呈圆弧曲面而下半部分是平面。通常顶盖130的底部半径r1大于待处理晶圆的半径。根据实际需要，可制造出不同尺寸的底部半径r1、漏斗外半径r2、和高度h的顶盖，而达到更合适的雾化效果。
可用作制造顶盖130的材料包括：铝合金、表面带防护涂层的铝合金、耐热耐腐蚀的其他金属合金，高清洁的PVC、Teflon(用于酸、碱清洗)或类似的耐热耐腐蚀聚合物材料。
图4A示出根据本发明的一个实施例的雾化器的剖面正视图。图4B示出根据本发明的一个实施例的雾化器的横截面俯视图。参考图4A和图4B，雾化器140安装在顶盖的颈部131。例如，雾化器140可通过螺旋固定到顶盖130的颈部131。雾化器140为圆柱形，内壁直径为d1，外壁直径为d2。可将外/内直径比例(d2/d1)控制在2:1～20:1之间以达到不同的雾化效果。雾化器的上端通过盖板141密封。例如，可通过一个或多个螺丝142将盖板141固定在雾化器的上端。距离上端一定距离的位置处具有通孔143。通孔143包括一个直通孔143-1和一个斜通孔143-2。直通孔143-1与斜通孔143-2为横向水平延伸的通孔。在图4B所示的横截面中，直通孔143-1与圆柱内壁相交点处的切线成90度角，斜通孔143-2可与圆柱内壁相交点处的切线成非直角的特定角度。在将流体连通到通孔143后，通孔143内部有两个通道：通过直通孔143-1到达圆柱的中心部位；通过斜通孔143-2以30-60度倾斜于直通孔的方向进入雾化器140。
在本发明的其他实施例中，雾化器140可包括多个直通孔以及多个斜通孔。斜通孔与颈部内壁相交点处的切线所成角度可以相同，也可以不相同。
清洗液通过直通孔和斜通孔进入清洗腔室。如此装置是为了让清洗液体通过反漏斗装置后，在最短的时间内快速均匀地雾化并喷洒到晶圆表面。
在本发明的其他实施例中，顶盖130和雾化器140可以一体形成，而不是通过螺纹相连接。换言之，雾化器140可以是顶盖130颈部的一部分。
在本发明的一个实施例中，还可在连接至清洗腔室的清洗液管道上设置三通阀(图中未示出)，该三通阀可包括清洗液输入口、气体输入口和气液二流体输出口。清洗液和压缩气体分别通过清洗液输入口和气体输入口进入三通阀并混合形成气液二流体，然后进入清洗液管道。可通过调节清洗液的流速或压缩气体的流速来调节气液二流体的混合比例。
清洗液随输送气体从漏斗顶端高速进入漏斗内部，气液二流体在第一次冲击到漏斗内侧表面后，大部分液体被雾化，剩下的液滴在快速第二次冲击漏斗内侧表面，又部分转变为雾状。
图5示出根据本发明的另一个实施例的半导体清洗设备500的垂直剖面示意图。如图5所示，半导体清洗设备500可包括支架510及其移动控制系统、储液杯520及其移动控制系统、顶盖530、雾化器540以及雾化增强装置550。
在本发明的一个实施例中，还可在顶盖530的中部，即大约在中心轴与边缘的中部，分别设置多个水平通孔，水平通孔的另一端外连接惰性气体，如氮气。图6示出沿顶盖530中部的B-B截取的截面俯视图。如图6所示，顶盖截面为圆形，顶盖130中部上均匀分布了四个水平通孔作为雾化增强装置550。四个水平通孔为横向水平延伸的通孔。在图6所示的横截面中，四个水平通孔可与圆形内壁相交点处的切线成特定角度。例如，四个斜通孔可与圆形内壁相交点处的切线成45度角。在此部位，进入的气流对顶端雾流进行第二次雾化，以达到增强雾化效果。并且还可以使雾状体内，液滴尺寸变得更小，有些工艺条件下，可达到与气态基本相似的特性。同时切线流动的惰性气体使得晶圆表面的清洗雾气作圆周流动。
在本发明的其他实施例中，可在顶盖530中部设置更多或更少的水平通孔。例如，可在顶盖530中部设置2个水平通孔、3个水平通孔或5个及以上的水平通孔。
在本发明的实施例中，半导体清洗设备还可包括加热槽(图中未示出)。加热槽通过管道与顶盖的颈部通孔连通。通过加热槽对清洗液进行加热。例如，加热槽体里面盛有清洗液，在槽体的外墙面用电阻丝或其他加热方式对槽体加热到设定的温度。半导体清洗设备可以包括多个加热槽，每个加热槽中可放置不同的清洗液，以便对晶圆进行不同工艺条件或不同液体的多次处理。
在本发明公开的半导体清洗设备中，通过调节惰性气体(例如氮气)的流量，可以改变二流体的流速，同时影响到二流体在雾化装置里的行为，例如雾化程度(即雾态与液态的比例)和雾滴大小。
通过及时开、关气、液体管道的阀门，即可进行脉冲式加入清洗原料。采用这种方法通常增加晶圆表面上窄小缝隙的清洗效率。
当雾滴在晶圆表面的缝隙里浸湿的时候，关闭二流体的进入，可以使得被清洗的表面获得浸泡的作用，增加清洗剂的表面吸附时间与吸附量。
雾滴被气流在晶圆表面吹动而快速旋转起来，大大减薄了反应物的表面吸附层的厚度(定义为扩散系数/流速)，从而使得清洗速度大大的提高。
由于储液杯在晶圆背面和上腔室盖之间加了O-型圈密封，防止液体溢出或溅出腔室，储液杯也可以提供液体浸泡作用，扩大了设备的使用范围。
图7示出根据本发明的一个实施例利用半导体清洗装置清洗助焊剂的工艺流程图。
在步骤610，将清洗液加热到预定温度。可根据待清洗的助焊剂类型选择清洗液。例如，当助焊剂为水溶性助焊剂时，可选择高纯水作为清洗液。
在步骤620，使清洗液与惰性气体混合进入清洗腔室。可根据预先设定的气液比例，调节输送的清洗液和/或惰性气体的流量或压力，然后通过三通阀门将清洗液和惰性气体一起送入清洗腔体内。
在步骤630，清洗液在雾化器内转变为雾态。气液流通过顶盖颈部的直通孔和斜通孔进入清洗腔室，经过与腔体内侧壁多次冲击，清洗液大多转变为雾态。由于清洗液被输送气体从漏斗顶端高速进入漏斗内部，气液二流体在第一次冲击到漏斗内侧表面后，大部分液体被雾化，剩下的液滴在快速第二次冲击漏斗内侧表面，又部分转变为雾状。
加热的雾状清洗液然后被均匀地喷洒在晶圆的表面上，充分浸湿焊球的表面周围，与助焊剂充分地接触。
在步骤640，任选地，通过顶盖中部水平孔向清洗腔室通入惰性气体。该惰性气体可以是氮气。进入的惰性气体流一方面让进入的清洗液体绝大部分都转化成为雾气状态，另一方面横向流动的惰性气体使得晶圆表面的清洗雾气作圆周流动，减小表层静止层厚度。从而加速助焊剂被清洗液带走。在本发明的具体实施例中，可根据清洗液的性质，增大或减小中部水平孔的气体流量。当清洗液通过颈部雾化率低时，可增大中部水平孔的气体流量，以便促进清洗液充分雾化。当清洗液通过颈部基本完全雾化时，可减少中部水平孔的气体流量或关闭中部水平孔。中部水平孔可以脉冲式把气流吹击到晶圆表面，强制性地加速助焊剂的浸湿，并快速被移除。
助焊剂在清洗液的充分浸湿下，迅速溶解于薄层热清洗液膜中，在焊锡球周围快速剥离并被流动的液体膜带走。
在助焊剂去除干净后，在步骤650，关闭清洗液阀门，保持惰性气体流，吹干晶圆表面，然后从腔体里被取出，清洗工艺完毕。
在本发明的实施例中，清洗液体以二流体形式被引入到清洗腔体，液体然后绝大部分被雾化；雾汽更容易湿润晶圆表面。
由于雾状清洗液更容易浸湿助焊剂，加速助焊剂从大块状分解成小粒状态，而与基体剥离。
清洗和干燥过程中，晶圆不需要旋转，避免了复杂的旋转部件与装置。
反漏斗式上腔体设计，使得整个清洗腔体非常小。
雾化清洗法让清洗液得到充分的使用，消耗非常少。
容易做到切断清洗液的供应，转成仅仅有气体流入到晶圆表面。晶圆表面可以被吹干，从而本装置可以做到晶圆干进干出。
含有助焊剂的清洗废液通过过滤膜设备基本净化而重复使用。
在过滤器的另一端，较少量的高含量废液被排出到厂务系统作进一步处理。每一片晶圆清洗产生的废液大幅度的减少。
尽管上文描述了本发明的各实施例，但是，应该理解，它们只是作为示例来呈现的，而不作为限制。对于相关领域的技术人员显而易见的是，可以对其做出各种组合、变型和改变而不背离本发明的精神和范围。因此，此处所公开的本发明的宽度和范围不应被上述所公开的示例性实施例所限制，而应当仅根据所附权利要求书及其等同替换来定义。

Claims (10)

1.一种半导体清洗设备，包括：
储液杯，所述储液杯用于收集清洗废液；
顶盖，所述顶盖包括颈部和开口部，所述颈部位于顶盖的上部，颈部直径小于开口部直径，所述开口部覆盖在储液杯上，顶盖和储液杯构成清洗腔室；以及
雾化器，所述雾化器为中空结构，所述雾化器的顶端密封，所述雾化器的底端与所述顶盖的颈部固定连通，所述中空结构的侧面具有一个或多个第一通孔，清洗液通过第一通孔进入清洗腔室。
2.如权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，还包括：支架及其移动控制系统，所述支架及其移动控制系统设置在半导体清洗设备的底座上，
其中所述储液杯是中空的环形杯体，所述支架设置在所述储液杯的中空部分中，所述储液杯包括内壁、设置在内壁顶端的垫圈、外壁、设置在外壁顶端的垫圈、连接内壁和外壁的杯底以及出液口。
3.如权利要求2所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述储液杯连接至移动装置，用于在清洗前垂直向上移动储液杯，使得杯口内壁顶端处的垫圈将晶圆托起，杯口外壁顶端处的垫圈与顶盖接触。
4.如权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述第一通孔包括水平延伸的直通孔和斜通孔，所述直通孔与颈部圆形内壁相交点处的切线基本垂直，斜通孔与颈部圆形内壁相交点处的切线成非垂直的特定角度。
5.如权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，还包括设置在顶盖的中间部位的一个或多个第二通孔，所述第二通孔是水平延伸的通孔，所述第二通孔与所述顶盖内壁成非垂直的特定角度。
6.如权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，还包括加热槽，所述加热槽通过管道与顶盖的第一通孔连通，所述加热槽用于对清洗液进行加热。
7.如权利要求1所述的半导体清洗设备，其特征在于，所述顶盖为反漏斗形状，侧面为平滑曲面，具有底部半径r1、漏斗外半径r2、顶盖的高度h，其中底部半径r1指的是顶盖与储液杯接触的开口部分的圆半径，漏斗外半径r2指的是顶盖从曲面转变为近似平面的拐点之间的圆弧半径，顶盖的高度h指的是从顶盖颈部至底部的垂直距离。
8.一种助焊剂清洗方法，包括：
将清洗液加热到预定温度；
使清洗液与惰性气体混合进入清洗腔室；
在顶盖颈部使清洗液转变为雾态；
关闭清洗液阀门，保持惰性气体流，吹干晶圆表面。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，还包括：通过顶盖中部水平孔向清洗腔室通入惰性气体。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，据预先设定的气液比例，调节输送的清洗液和/或惰性气体的流量或压力，然后通过三通阀门将清洗液和惰性气体一起送入清洗腔室内。
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CN1773674A (zh) * 2004-11-10 2006-05-17 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置以及基板处理方法
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