CN108963075A - 支撑膜及其制备方法、显示模组、显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种支撑膜的制备方法，包括：配置制膜液，向共聚物溶液中添加添加剂，形成所述制膜液；对所述制膜液进行搅拌、脱泡；对所述制膜液进行涂胶流平工艺；烘干所述制膜液，所述添加剂从所述制膜液中析出，并形成具有气孔的支撑膜。上述支撑膜的制备方法中，通过控制选取的添加剂颗粒的大小和添加剂在共聚物溶液中的含量，即可控制气孔的孔径和支撑膜的孔隙率，制备工艺简单，成本低。且形成的支撑膜内气孔孔径和孔密度均匀，支撑膜对外界应力的抗缓冲性能好，减小了支撑膜断裂的风险。

Description

支撑膜及其制备方法、显示模组、显示面板

技术领域

本发明涉及显示领域，特别是涉及支撑膜及其制备方法、显示模组、显示面板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板，也称为有机电致发光显示面板，是一种新兴的平板显示装置，由于其具有制备工艺简单、成本低、功耗低、发光亮度高、体积轻薄、响应速度快，而且易于实现彩色显示和大屏幕显示、易于实现柔性显示等优点，具有广阔的应用前景。

在有机发光二极管显示面板制作完成后，需要进行一系列的显示面板的抗冲击能力测试，在该类测试方案及实际使用中，存在瞬间的冲击导致显示面板局部应力激增的现象，从而可能引起显示异常。通常会在显示面板内设置缓冲层以缓冲应力。申请人在实现传统技术的过程中发现，现有的缓冲层表面应力不均匀，受外界冲击力时容易断裂。

发明内容

基于此，有必要缓冲层表面应力不均匀易断裂的问题，提供一种支撑膜及其制备方法、显示模组、显示面板。

一种支撑膜，包括：

膜本体；

所述膜本体包括多个气孔，所述多个气孔均匀分布于所述膜本体，所述多个气孔的孔径均相同。

上述支撑膜，其膜本体上具有均匀分布的气孔，且气孔的孔径近似相同，故支撑膜上各处应力相同。当支撑膜受到外部的膜厚方向的冲击力时，气孔为冲击力的释放提供了空间。且由于气孔分布均匀，应力也均匀释放，不会产生支撑膜上某一处应力较大导致膜本体断裂的问题，较大地提升了支撑膜的缓冲性能。

在其中一个实施例中，所述支撑膜的孔隙率为40％-80％。

在其中一个实施例中，所述多个气孔的孔径分别为60um-150um。

一种显示模组，包括前述支撑膜。

上述显示模组，通过采用支撑膜，使得显示模组的抗缓冲性能大大提高。且支撑膜内气孔均匀分布，且孔径均匀，使得支撑膜表面的应力均匀分散，减小了支撑膜断裂的风险。

在其中一个实施例中，所述显示模组还包括缓冲层和设置在所述缓冲层上的发光元件层，所述支撑膜设置于所述缓冲层背离所述发光元件层的表面上。

在其中一个实施例中，还包括衬底，所述衬底设置于所述支撑膜和所述缓冲层之间。

一种显示面板，包括前述的显示模组。

上述显示装置，通过采用支撑膜，使得显示模组的抗缓冲性能大大提高。且支撑膜内气孔均匀分布，且孔径均匀，使得支撑膜表面的应力均匀分散，减小了支撑膜断裂的风险。

一种支撑膜的制备方法，包括：

配置制膜液，向共聚物溶液中添加添加剂，并进行搅拌、脱泡工艺，以形成所述制膜液；

对所述制膜液进行涂胶流平、烘干，烘干时所述添加剂从所述制膜液中析出，并形成具有气孔的支撑膜。

上述支撑膜的制备方法中，通过向共聚物液中添加添加剂，并充分搅拌，使添加剂均匀分布于共聚物溶液中。然后对共聚物溶液进行加热烘干，烘干过程中添加剂析出留下水通道，加热产生的气泡可通过水通道向外溢出，进而形成气孔，故添加剂的颗粒的大小即为气孔的孔径。且由于添加剂均匀分布于共聚物溶液中，故添加剂析出产生的气孔也均匀分布于由共聚物形成的支撑膜内。通过控制选取的添加剂颗粒的大小和添加剂在共聚物溶液中的含量，即可控制气孔的孔径和支撑膜的孔隙率，制备工艺简单，成本低。且形成的支撑膜内气孔孔径和孔密度均匀，支撑膜对外界应力的抗缓冲性能好，减小了支撑膜断裂的风险。

在其中一个实施例中，所述添加剂的大小与所述气孔的孔径大小相同。

在其中一个实施例中，所述共聚物包括聚乙烯醇、聚四氟乙烯、聚氨酯中的任一种。

附图说明

图1为本申请的一个实施例提供的支撑膜的截面示意图；

图2为本申请的一个实施例提供的显示模组截面示意图；

图3为本申请的又一实施例提供的显示模组截面示意图；

图4为本申请的一个实施例提供的支撑膜的制备方法流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是在于限制本发明。

正如背景技术所述，现有的有机发光二极管显示面板制作完成后，通常会对显示面板进行可靠性测试。通常，会采用落球实验检测屏体可靠性。具体的实验条件为，使用重量为32.65g直径为20mm的钢球，将落球固定于夹具上，并从2～62.5CM的高度上落下，击中屏体表面。实验结果为屏体表面被击中的区域出现黑斑、亮斑、彩斑等不良。申请人分析得知，落球击中屏体的瞬间，屏体上的应力集中于落球的落点，应力集中无法分散，进而导致显示失效。

通常，可以在显示模组中设置缓冲结构用于缓冲冲击应力。常见的缓冲结构有柔性支撑膜，柔性支撑膜设置于衬底背离发光元件层的表面。柔性支撑膜内含有气泡，可用于释放应力。目前，制备柔性支撑膜时，膜内反应产生的气泡会进行无规则运动，导致膜的厚度和密度不均匀，膜上应力也不同。在受到外力冲击时，柔性支撑膜容易发生断裂。

基于此，本申请提供了一种支撑膜及其制备方法，使得制备的支撑膜膜内孔径和孔密度均可控。本申请的支撑膜可应用于硬屏(如LCD显示屏)，也可以应用于柔性显示屏(如AMOLED柔性显示屏)。

请参见图1，本申请的一个实施例提供一种支撑膜100，包括膜本体110。膜本体110内包括气孔111，且气孔111均匀分布于膜本体110内，多个气孔的孔径相同。

具体的，膜本体110为具有一定厚度的微孔薄膜。膜本体110可以采用柔性材料制备而成，例如，膜本体100可以是聚乙烯醇薄膜、聚四氟乙烯薄膜、聚氨酯薄膜中的任一种。膜本体110可应用于显示面板中，当现实面板受到冲击时，可用于释放冲击应力。

膜本体110内包括多个均匀分布的气孔111，气孔111与气孔111之间的间距近似相同。气孔111贯穿膜本体110。当膜本体110受到膜厚方向的应力时，气孔111为应力释放提供了空间，因而气孔的设置加强了膜本体的缓冲性。本实施例中，多个气孔111的孔径相同。

上述实施例提供的支撑膜，其膜本体上具有均匀分布的气孔，且气孔的孔径近似相同，故支撑膜上各处应力相同。当支撑膜受到外部的膜厚方向的冲击力时，气孔为冲击力的释放提供了空间。且由于气孔分布均匀，应力也均匀释放，不会产生支撑膜上某一处应力较大导致膜本体断裂的问题，较大地提升了支撑膜的缓冲性能。

在其中一个实施例中，支撑膜100的孔隙率为40％-80％。具体的，孔隙率指气孔体积占支撑膜总体积的比例。若孔隙率大于80％，则支撑膜内气孔过多，实体膜层结构较少。当受到外界冲冲击力时，支撑膜容易断裂，进而无法释放应力。若孔隙率小于40％，则支撑膜内气孔较少，可用于释放应力的空间较小，释放应力的效果差。通过选取适当的空隙率，可在不影响支撑作用的同时有效地释放应力。

在其中一个实施例中，气孔的孔径约为60um-80um。若气孔111的孔径大于80um，则膜本体110的非气孔部分的实际有效面积较小，当支撑膜100受到外界冲击力时，膜本体110容易断裂，则无法释放应力。若气孔111的孔径小于60um，当受到外界冲击力时，膜本体110发生形变，气孔111可提供的形变空间较小，缓冲能力不佳。因而，通过选取适当的孔径，可以在不影响支撑作用的同时有效地释放应力。

如图2所示，本申请的一个实施例提供一种显示模组，所述显示模组采用前述支撑膜100。显示模组还包括阵列基板200，阵列基板包括缓冲层210，形成在缓冲层210上的发光元件层。发光元件层包括半导体层220，半导体层220包括源区221、漏区222和位于源区221与漏区222之间的沟道区223。薄膜晶体管还包括位于半导体层220上的栅极绝缘层230以及位于栅极绝缘层230上的栅极240。栅极240上包括层间绝缘层250，源极260和漏极270位于层间绝缘层250上，并通过接触孔电连接至源区221和漏区222。源极260和漏极270上包括平坦化层280，平坦化层280上设有接触孔，延伸至漏极270。

请继续参见图2，在其中一个实施例中，支撑膜设置于缓冲层背离发光元件层的表面，替代显示模组中的衬底，用于支撑显示结构。在模组段工艺制备完成后，可将制备完成的支撑膜，贴附于缓冲层210背离发光元件层的一面。显示模组受到外界应力时，支撑膜发生形变。支撑膜内的气孔为支撑膜的形变提供了空间，进而应力可通过气孔释放。由于气孔均匀分布与支撑膜内，故应力可从作用点向四周均匀释放。应力释放后，可降低应力对显示元件的损伤，减小了显示异常的可能性。

请参见图3，在另一个实施例中，显示模组还包括衬底290。缓冲层210和发光元件层设置于衬底290上。支撑膜100设置于衬底290背离发光元件层的表面上，用于缓冲外界应力。当显示模组受到垂直于衬底290的应力时，膜本体110发生形变，支撑膜100内的气孔111为膜本体110的形变提供的空间，进而应力可通过气孔111释放，达到了缓冲应力的效果。

本实施例中，支撑膜的厚度为50um-300um。若支撑膜厚度低于50um，则支撑膜的膜层均匀性难以保证，且支撑膜过薄，其缓冲性能较差，对显示器件的保护作用不大。若支撑膜厚度大于300um，则支撑膜贴敷于衬底背面后，会导致显示模组整体厚度变厚，则显示模组的弯折性能较差。故选取合适厚度的支撑膜，即可保障支撑膜的缓冲性能，同时也可降低显示模组的厚度，提高显示模组的弯折性能。

上述实施例提供的显示模组，通过采用支撑膜，使得显示模组的抗缓冲性能大大提高。且支撑膜内气孔均匀分布，且孔径均匀，使得支撑膜表面的应力均匀分散，减小了支撑膜断裂的风险。同时，通过选取适当厚度的支撑膜，不仅可提高显示模组的抗缓冲性能，且不影响其弯折性。

本申请的又一实施例提供一种显示装置，包括前述显示模组。显示装置还包括壳体，所述显示模组设置于壳体内。

上述实施例提供的显示装置，通过采用支撑膜，使得显示模组的抗缓冲性能大大提高。且支撑膜内气孔均匀分布，且孔径均匀，使得支撑膜表面的应力均匀分散，减小了支撑膜断裂的风险。

请参见图4，本申请的又一实施例提供一种支撑膜的制备方法，包括以下步骤：

S100：配置制膜液，向共聚物溶液中添加添加剂，并进行搅拌脱泡工艺，以形成制膜液。

首先向溶剂中添加一定量的制模溶质，形成溶液。由于形成支撑膜的反应可在水溶液中进行，故溶剂可以选取水，溶质可以是组成膜本体的共聚物。然后向共聚物溶液中添加适量添加剂，并对共聚物溶液进行充分搅拌，使共聚物和添加剂在溶液中均匀分散。搅拌过程中会产生气泡，所述气泡在后续的烘干步骤中可能会产生与预设孔径不同的气孔，影响气孔均匀性，故需要进行脱泡处理，去除搅拌过程中产生的气泡。

具体的，在本实施例中，共聚物包括聚乙烯醇、聚四氟乙烯、聚氨酯其中的一种。利用上述物质制备而成的支撑膜柔性较佳，可在外力作用下发生形变以缓冲应力。

需要说明的是，本实施例中，添加剂不参与共聚物的化学反应，且添加剂并非组成膜本体的物质。向共聚物溶液中添加添加剂的目的是为了在后续工艺中使添加剂析出形成气孔。故添加剂选取可溶解于溶剂，不与共聚物发生反应，且当加热时，可从溶剂中析出的物质。

本实施例中，添加剂可以是无机盐。无机盐可溶于水，且加热时，无机盐可从水中析出，进而在后续步骤中形成气孔。由于无机盐从水中析出形成气孔，故无机盐的大小决定了孔径的大小。因而，可以根据预设孔径大小，筛选出对应颗粒大小的无机盐。本实施例中，无机盐颗粒的大小选取为60um-150um。若无机盐颗粒过大，则形成的支撑膜中气孔的孔径过大，而除气孔外有效的支撑膜本体面积较小。若支撑膜表面受到的外界应力过大，则可能导致支撑膜断裂。若无机盐颗粒过小，则后续的烘干步骤中无机盐析出困难，难以形成气孔，会降低支撑膜的抗冲击能力。本实施例中，无机盐可选取NaCl、KCl、CaCl₂、FeCl₃、ZnCl₂、CuCl₂、AlCl₃、NaNO₃、KNO₃、LiNO₃、Fe(NO₃)₃、Zn(NO₃)₂、Cu(NO₃)₂、Al(NO₃)₃中的至少一种。

S200：对制膜液进行涂胶流平、烘干，烘干时添加剂从制膜液中析出，并形成具有气孔的支撑膜。

具体的，取一基板，将充分搅拌后的制膜液均匀涂覆于基板上，并进行流平工艺，以使后续形成的支撑膜各处厚度均匀。

然后，将涂覆有制膜液的基板送入加热腔室中，通过控制加热温度和加热时间对基板进行加热处理。其中，加热温度可以是60℃-120℃，加热时间可以在10min-1h之间。具体的加热温度与加热时间根据所用的聚合物选取。在加热过程中，随着水分蒸发，聚合物逐渐形成固态的支撑膜结构的同时会产生气泡。共聚物形成过程中的水逐渐溢出，溶液中的无机盐随着水分溢出而析出溶液。水分子容易找到无机盐作为核聚集并溶解无机盐最后一起溢出，并产生水通道。加热时共聚物反应产生的气泡通过水通道溢出薄膜表面，进而在薄膜内形成气孔。由于无机盐是均匀分布在制膜液中，无机盐析出产生的气孔也均匀分布与支撑膜内。

在形成支撑膜后，还可以对支撑膜进行水洗。由于聚合物不溶于水，而无机盐颗粒可溶于水，进而可以去除析出后的无机盐颗粒。随后对支撑膜进行干燥处理即可。

上述支撑膜的制备方法中，通过向共聚物液中添加无机盐，并充分搅拌，使无机盐均匀分布于共聚物溶液中，然后对共聚物溶液进行加热，使无机盐从水溶液中析出产生水通道，加热是共聚物反应产生的气泡可通过水通道向外溢出，进而形成气孔。故无机盐颗粒的大小即为气孔的孔径。由于无机盐均匀分布于共聚物溶液中，故无机盐析出产生的气孔也均匀分布于由共聚物形成的支撑膜内。本实施例通过控制选取的无机盐颗粒的大小和无机盐在共聚物溶液中的含量，即可控制气孔的孔径和支撑膜的孔隙率，制备工艺简单，成本低。且形成的支撑膜内气孔孔径和孔密度均匀，支撑膜对外界应力的抗缓冲性能好，减小了支撑膜断裂的风险。

在其他实施例中，还可以采用其他方法形成气孔均匀的支撑膜。例如，可采用多孔掩膜板，所述压膜板上通孔的密度分布均匀，且孔径相同，大小合适。首先制备共聚物溶液，然后将共聚物溶液均匀涂覆于多孔掩膜板上，通过涂胶流平工艺可制备多孔支撑膜。其中，支撑膜气孔的孔径与掩膜板通孔的孔径相同，支撑膜气孔的孔密度分布与掩掩膜板的孔密度分布相同，且掩膜板的厚度与支撑膜三维厚度也相同。具体的，掩膜板气孔的尺寸可选取为60um-150um，孔隙率为40％-80％，掩膜板的厚度为50um-300um。掩膜板的孔径尺寸、孔隙率、厚度选取原则与无机盐尺寸、含量、支撑膜厚度选取原则相同，在此不再赘述。通过采用多孔掩膜版制备多孔支撑膜制备工艺简单，且制备的多孔支撑膜孔径和孔隙率可控，气孔分布均匀，抗冲击能力强，不易折断。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种支撑膜，其特征在于，包括：

膜本体；

所述膜本体包括多个气孔，所述多个气孔均匀分布于所述膜本体，所述多个气孔的孔径均相同。

2.根据权利要求1所述的支撑膜，其特征在于，所述支撑膜的孔隙率为40％-80％。

3.根据权利要求1所述的支撑膜，其特征在于，所述多个气孔的孔径分别为60um-150um。

4.一种显示模组，其特征在于，包括权利要求1-3中任一项所述的支撑膜。

5.根据权利要求4述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括缓冲层和设置在所述缓冲层上的发光元件层，所述支撑膜设置于所述缓冲层背离所述发光元件层的表面上。

6.根据权利要求5述的显示模组，其特征在于，还包括衬底，所述衬底设置于所述支撑膜和所述缓冲层之间。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求4-6中任一项所述的显示模组。

8.一种支撑膜的制备方法，其特征在于，包括：

配置制膜液，向共聚物溶液中添加添加剂，并进行搅拌脱泡工艺，以形成所述制膜液；

对所述制膜液进行涂胶流平、烘干，烘干时所述添加剂从所述制膜液中析出，并形成具有气孔的支撑膜。

9.根据权利要求8所述的支撑膜的制备方法，其特征在于，所述添加剂的大小与所述气孔的孔径大小相同。

10.根据权利要求8所述的支撑膜的制备方法，其特征在于，所述共聚物包括聚乙烯醇、聚四氟乙烯、聚氨酯中的任一种。