CN108920034B - 一种阵列基板、触控显示面板和触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种阵列基板、触控显示面板和触控显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；位于衬底基板一侧的薄膜晶体管；位于衬底基板与薄膜晶体管之间的电磁触控感应层；电磁触控感应层包括多个第一回路线圈，多个第二回路线圈，多个第一回路线圈沿第一方向延伸，且沿第二方向排列，多个第二回路线圈沿第二方向延伸，且沿第一方向排列，第一回路线圈与第二回路线圈绝缘，第一方向和第二方向交叉；阵列基板包括多个像素，像素沿第二方向的宽度为S_P1、沿第一方向的宽度为S_P2；第一回路线圈的线宽为W1，第二回路线圈的线宽为W2，其中，

与现有技术相比，本发明实施例提供的阵列基板集成了触控感应功能，且该电磁触控感应层的驱动负载较小。

Description

一种阵列基板、触控显示面板和触控显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术，尤其涉及一种阵列基板、触控显示面板和触控显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，触控技术已经越来越多地应用于用户与触控显示装置的交互过程。触控技术是指用户可以直接用手或者其他物体接触或者靠近触控显示装置的显示屏以输入信息或者操作指令，从而减少甚至消除用户对鼠标、键盘等输入设备的依赖，方便用户的操作，提高用户体验。按照原理分类，触控技术包括电阻式触控技术、电容式触控技术、电磁式触控技术和光学式触控技术等。其中，电磁触式控技术是利用带有磁场的物体(例如，磁铁或者电磁笔等)靠近触控显示装置，通过改变带有磁场的物体和触控显示装置之间的相对空间位置，可使触控显示装置内的电磁感应线圈产生磁场变化，从而产生微弱电流，根据两个不同方向上的感应电流的变化，即可检测出相应的触摸点坐标，获得触摸位置。

应用电磁式触控技术的触控显示装置通常采用外挂式的电磁式触控板，该外挂式的电磁触控板与显示面板组合形成电磁式触控显示装置，导致该电磁式触控显示装置整理厚度较厚。为了解决此问题，可在显示面板的阵列基板结构内集成电磁触控模组，使显示面板兼具触控功能，但此时仍会存在电磁式触控模组的驱动负载较大的问题。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、触控显示面板和触控显示装置，以将触控感应功能集成到阵列基板内，减薄触控显示面板及触控显示装置的整体厚度；同时，降低电磁触控感应层的驱动负载。

第一方面，本发明实施例提供了一种阵列基板，该阵列基板包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的薄膜晶体管；

位于所述衬底基板与所述薄膜晶体管之间的电磁触控感应层；

所述电磁触控感应层包括多个第一回路线圈，多个第二回路线圈，所述多个第一回路线圈沿第一方向延伸，且沿第二方向排列，所述多个第二回路线圈沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向排列，所述第一回路线圈与所述第二回路线圈绝缘，所述第一方向和所述第二方向交叉；

所述阵列基板包括多个像素，所述像素沿所述第二方向的宽度为S_P1、沿所述第一方向的宽度为S_P2；

所述第一回路线圈的线宽为W1，所述第二回路线圈的线宽为W2，其中，

第二方面，本发明实施例还提供了一种触控显示面板，该触控显示面板包括第一方面提供的阵列基板。

第三方面，本发明实施例还提供了一种触控显示装置，该触控显示装置包括第二方面提供的触控显示面板。

本发明实施例提供的阵列基板，包括衬底基板以及位于衬底基板一侧的薄膜晶体管通过设置电磁触控感应层位于衬底基板与薄膜晶体管之间，可将电磁触控感应功能集成到阵列基板内，与外挂式触控显示面板和触控显示装置相比，可减薄触控显示面板和触控显示装置的整体厚度，有利于触控显示面板和触控显示装置的轻薄化设计。同时，电磁触控感应层包括多个第一回路线圈，多个第二回路线圈，多个第一回路线圈沿第一方向延伸，且沿第二方向排列，多个第二回路线圈沿第二方向延伸，且沿第一方向排列，第一回路线圈和第二回路线圈绝缘，第一方向和第二方向交叉；第一回路线圈的线宽为W1，第二回路线圈的线宽为W2；阵列基板包括多个像素，像素沿第二方向的宽度为S_P1，沿第一方向的宽度为S_P2，通过设置

即第一回路线圈的线宽大于或者等于像素宽度的二分之一，第二回路线圈的线宽大于或者等于像素宽度的二分之一，即通过设置第一回路线圈和第二回路线圈分别具有较宽的线宽，可使第一回路线圈和第二回路线圈的线阻都较小，从而降低电磁触控感应层的驱动负载。

附图说明

图1为现有技术提供的一种触控显示装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的回路线圈排布示意图；

图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的像素排布示意图；

图5为本发明实施例提供的一种阵列基板的第一回路线圈与像素的相对大小关系示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种触控显示面板的结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1为现有技术提供的一种触控显示装置的结构示意图。参照图1，该触控显示装置为外挂式的触控显示装置，包括显示面板02、电磁式触控板01以及胶黏结构03，电磁式触控板01通过胶黏结构03贴附于显示面板02一侧。示例性的，胶黏结构03可包括全贴光透胶(Optical Clear Adhesive,OCA)或者框贴泡棉。该外挂式的触控显示装置中，显示面板02与电磁式触控板03均包括各自的衬底基板及功能膜层，通常，电磁式触控板03采用柔性电路板为载体，在柔性电路板上设置电磁感应线圈，以实现电磁触控功能。由此，该触控显示装置的成本较高，且整体厚度较厚，不利于实现触控显示装置的轻薄化设计。为解决此问题，可选的，可将电磁触控功能集成到显示面板的阵列基板内，进一步地，可以在阵列基板的膜层结构中形成电磁触控感应层，从而可减薄触控显示面板以及触控显示装置的整体厚度。但是，由于电磁触控感应层的驱动负载较高，触控信号延迟较大，无法正常实现电磁触控功能。

针对上述问题，本发明实施例提出一种阵列基板，兼具显示功能与电磁触控功能，并且通过对电磁触控感应层的设计，降低电磁触控感应层的驱动负载，从而显示面板在实现正常显示功能的同时，可正常实现电磁触控功能。

示例性的，图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图，图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的回路线圈排布示意图，图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的像素排布示意图，图5为本发明实施例提供的一种阵列基板的第一回路线圈与像素的相对大小关系示意图。结合图2-图5，该阵列基板包括：衬底基板10；位于衬底基板10一侧的薄膜晶体管20(图2中仅以一层示出，而并未示出薄膜晶体管的具体膜层结构)；位于衬底基板10与薄膜晶体管20之间的电磁触控感应层30；电磁触控感应层30包括多个第一回路线圈301，多个第二回路线圈302，多个第一回路线圈301沿第一方向X延伸，且沿第二方向Y排列，多个第二回路线圈302沿第二方向Y延伸，且沿第一方向X排列，第一回路线圈301与第二回路线圈302绝缘，第一方向X和第二方向Y交叉；阵列基板包括多个像素201，像素201沿第二方向Y的宽度为S_P1、沿第一方向X的宽度为S_P2；第一回路线圈301的线宽为W1，第二回路线圈302的线宽为W2，其中，

其中，衬底基板10可为刚性衬底基板或柔性衬底基板。柔性，也称为挠性，是相对刚性而言的一种物体特性。挠性是指物体受力变形后，作用力失去之后物体自身不能恢复原来形状的一种物理性质。而刚性物体受力后，在宏观来看其形状可视为没有发生变化。或者，柔性衬底基板也可以理解为可弯曲的衬底基板。

示例性的，柔性衬底基板的材料可为超薄玻璃、金属箔或高分子塑料材料。超薄玻璃可包括超薄无碱玻璃，金属箔可包括不锈钢箔、铝箔、铜箔等，高分子塑料材料可包括聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚乙烯醇(Polyvinylalcohol，PVA)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate,PET)等。刚性衬底基板的材料可为玻璃或硅片。玻璃可包括铝硅酸盐玻璃、钠钙玻璃(白玻璃)或者绿玻璃等。需要说明的是，上述各柔性衬底基板材料以及各刚性衬底基板材料仅为示例性的说明，而非限定。

其中，薄膜晶体管20可为本领域已知的薄膜晶体管的膜层结构。

示例性的，图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图，图6中示例性的示出了一种薄膜晶体管的结构。参照图6，薄膜晶体管20可以包括栅极21、栅极绝缘层25、有源层22、源极23、漏极24。其中，源极23、漏极24以及有源层22均可以位于栅极绝缘层25远离衬底基板10的一侧表面，且源极23可以与有源层22直接电连接，漏极24可以与有源层22直接电连接，由此，可使薄膜晶体管20的膜层结构的层数较少，从而使阵列基板的整体厚度较薄。

此外，继续参照图6，阵列基板还可以包括像素电极50，像素电极50可以位于薄膜晶体管20远离衬底基板10的一侧，且与薄膜晶体管20的漏极24通过过孔电连接，在像素电极50与薄膜晶体管20之间还包括可以像素绝缘层29。

示例性的，栅极21、源极23、漏极24的材料可为金属，栅极绝缘层25、像素绝缘层的材料可为氮化硅(SiNx)，有源层22的材料可为非晶硅，像素电极50的材料可为铟锡氧化物(ITO)。此各结构的材料均为示例性的说明，而非限定，在其他实施方式中，可根据阵列基板的实际需求设置材料种类。

需要说明的是，图6仅示例性的示出了一种薄膜晶体管20的膜层结构，但并非对薄膜晶体管20的膜层结构的限定。在其他实施方式中，可根据阵列基板的实际需求，设置薄膜晶体管20的膜层结构，本发明实施例对此不作限定。

其中，继续参照图3，电磁触控感应层30可通过第一回路线圈301和第二回路线圈302中感应电流的变化，检测出相应的触摸点坐标，即可获得触摸位置，从而实现电磁触控功能。其工作原理具体为：当带有磁场的物体(例如，磁铁或者电磁笔等)靠近电磁触控感应层30时，第一回路线圈301在时间间隔Δt内的磁通量变化量为ΔΦ1，则对应的感应电动势为

其中，N1代表第一回路线圈301的匝数，从而，可得第一感应电流

其中，R1代表第一回路线圈301的线阻。同理，第二回路线圈302内产生的第二感应电流为

其中，N2代表第二回路线圈302的匝数，R2代表第二回路线圈302的线阻，ΔΦ2代表第二回路线圈302的磁通量变化量。由此，通过第一感应电流I1和第二感应电流I2的变化即可定位触摸位置。当然，此电磁触控感应层30还包括提供触控驱动信号的触控驱动信号线(图3中未示出)。

由第一感应电流I1的计算表达式可知，第一回路线圈301的线阻R1，即驱动负载越小，第一反应电流I1越大，触控信号延迟越小，触控感应灵敏度越高。同理，第二回路线圈302的线阻R2，即驱动负载越小，第二反应电流I2越大，触控信号延迟越小，触控感应灵敏度越高。

由此，电磁触控感应层30设置于衬底基板10与薄膜晶体管20之间，第一回路线圈的线宽为W1，第二回路线圈的线宽为W2；阵列基板包括多个像素，像素沿第二方向的宽度为S_P1，沿第一方向的宽度为S_P2，通过设置

一方面，可将电磁触控功能集成到阵列基板内，在减薄触控显示面板和触控显示装置的整体厚度的同时，不影响像素电极50的排布，同时，薄膜晶体管20位于电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧，还可以对电磁触控感应层30起到电磁屏蔽的作用，即电磁触控感应层30的电磁场变化也不会影响显示面板中的各显示单元的电位，即在阵列基板中如上述设置电磁触控感应层30不会影响触控显示面板和触控显示装置的显示功能。另一方面，将第一回路线圈301的线宽W1和第二回路线圈302的线宽W2的线宽设置的较宽，可降低电磁触控感应层30的驱动负载，减少触控信号延迟，进而可以提升触控感应灵敏度。需要说明的是，图3中仅示例性的示出了4个第一回路线圈301，每个第一回路线圈301的匝数为3匝；同时示例性的示出了4个第二回路线圈302，每个第二回路线圈302的匝数为3匝，此仅为示例性的说明，而非限定。在其他实施方式中，可根据阵列基板的实际需求，设置第一回路线圈301和第二回路线圈302的数量，以及各第一回路线圈301和第二回路线圈302的匝数，本发明实施例对此不作限定。

需要说明的是，图4中仅示例性的示出了9行10列的像素201的阵列，而非对本发明实施例提供的阵列基板的限定。在其他实施方式中，可根据阵列基板的实际需求设置像素201的排布方式，本发明实施例对此不作限定。

可选的，结合图2-图4，每个第一回路线圈301在第一方向X上的延伸长度E1等于或者大于像素201在第一方向X上形成的像素列的延伸长度E2，每个第二线圈在第二方向Y上的延伸长度F1等于或者大于像素201在第二方向Y上形成的像素行的延伸长度F2，且第一回路线圈301和第二回路线圈302在衬底基板10的一侧均匀分布。如此设置，可以使电磁触控感应层30在衬底基板10一侧的各个位置处的厚度趋向于一致，由此，电磁触控层30远离衬底基板10的一侧表面较为平整，因此，便于在电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧布设其他功能膜层，避免了电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧表面凹凸对位于其表面的功能膜层造成破坏和不良影响。需要说明的是，图5中仅示例性的示出了第一回路线圈301的匝数为2匝，像素201的排布方式为21行11列，此均为示例性的说明，而非限定。同时，图3中仅示例性的以多个第一回路线圈301中的其中一个示出了第一回路线圈301在第一方向X上的延伸长度E1，示例性的以多个第二回路线圈302中的其中一个示出了第二回路线圈302在第二方向Y上的延伸长度F1，此仅为示例性的说明。应当理解的是，各第一回路线圈301在第一方向X上的延伸长度可相同，可不同；各第二回路线圈302在第二方向Y上的延伸长度可相同，可不同，本发明实施例对此不作限定。但各第一回路线圈301和第二回路线圈302均满足上述与像素行或像素列的长度的相对大小关系。

可选的，

其中，n和m为正整数。

如此，第一回路线圈301的线宽W1为像素201沿第二方向Y的宽度S_P1的整数倍，第二回路线圈302的线宽W2为像素201沿第一方向X的宽度S_P2的整数倍。如此设置，可将同一个像素201在衬底基板10上的垂直投影设置在第一回路线圈301和/或第二回路线圈302在衬底基板10上的垂直投影范围内，从而可将像素201布设在电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧表面的平整的位置处，避免了由于第一回路线圈301和/或第二回路线圈302的布线位置与未布线位置间隔分布导致的电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧表面可能存在的凹凸起伏对像素201的各功能层的性能的影响。需要说明的是，n和m的取值可相同，也可不同，本发明实施例对此不作限定。

继续参照图2或图6，电磁触控感应层30包括第一导电层31、第二导电层33以及触控绝缘层32。结合图3，此时，第一导电层31可以包括多个第一回路线圈301，或者包括第一回路线圈301的一部分和第二回路线圈302的一部分，第二导电层32可以包括多个第二回路线圈302，或者包括第一回路线圈301的一部分和第二回路线圈302的一部分。第一回路线圈301在衬底基板上的垂直投影与第二回路线圈302在衬底基板10上的垂直投影可存在交叠。当然，对于第一回路线圈301和第二回路线圈302的匝数分别为多匝的情况，在各自的内部也可能存在交叠换线的设置，此交叠换线设置为本领域的常规设置，本发明实施例不再赘述。

需要说明的是，图2和图6中仅示例性的示出了第一回路线圈301为单层结构，第二回路线圈302为单层结构，此仅为示例性的说明，而非限定。在其他实施方式中，还可以设置第一回路线圈301和/或第二回路线圈302为非单层结构，其中，对于相邻的两个第一回路线圈301或者相邻的两个第二回路线圈302还可以存在交叠换线的情况，本发明实施例对此不作限定。

可选的，继续参照图5，第一回路线圈301的线宽W1≥195μm；第二回路线圈302的线宽W2≥195μm(图5中未示出)。

其中，结合上文，该线宽的设计可降低电磁触控感应层30的驱动负载。

示例性的，第一回路线圈301的匝数N1为2匝，线圈总长度L1为438μm，方块电阻R_S1为0.15Ω/□，当其线宽W1≥195μm时，根据第一回路线圈301的线阻R1计算方式

可得，第一回路线圈301的线阻R1等于或者小于500Ω，该线阻R1的阻值范围对应的驱动负载较小。同理，第二回路线圈302的匝数N2、总长度L2、方块电阻R_S2和线宽W2与第一回路线圈301的匝数N1、总长度L1、方块电阻R_S1和线宽W1的取值或取值范围分别对应相等，因此，第二回路线圈的线阻R2的取值范围对应的驱动负载也较小。

需要说明的是，上述数值或数值范围仅为对本发明实施例提供的阵列基板的示例性说明，而非限定。在其他实施方式中，上述取值均可根据阵列基板的实际需求设定，本发明实施例对此不作限定。

可选的，继续参照图3，在第二方向Y上，相邻两个第一回路线圈301的间隔为A，其中，2mm≤A≤6mm；在第一方向上，相邻两个第二回路线圈的间隔为B，其中，2mm≤B≤6mm。

其中，间隔A为相邻两个第一回路线圈301中，其中一个第一回路线圈301的左边沿到另一个第一回路线圈301的左边沿301的距离。

其中，间隔A大于6μm时，不能精确地感应各个位置的触控动作，导致触控感应灵敏度较低。间隔A小于2μm时，各第一回路线圈301之间存在电磁信号干扰，触控感应灵敏度也较低。因此，上述间隔A的取值范围可确保第一回路线圈301能精确定位，同理，间隔B的取值范围可确保第二回路线圈302能精确定位，从而确保阵列基板具有较高的触控灵敏度。

示例性的，继续参照图5，第一回路线圈301中沿第二方向Y相邻同层的两匝线圈的间距为C，且C≥2μm；第二回路线圈302中沿第一方向X相邻同层的两匝线圈的间距为D(图5中未示出)，且D≥2μm。其中间距C和间距D的取值范围由工艺制程中曝光机的解析度决定。

需要说明的是，相邻两个第一回路线圈301的间隔A与相邻两个第一回路线圈302的间隔B的取值相同时，可简化处理触控感应信号的相关算法。但并不构成对本发明实施例提供的阵列基板的限定。在其他实施方式中，间隔A和间隔B的取值根据阵列基板的实际需求设定，其可相同，也可不同，本发明实施例对此不作限定。

可选的，第一回路线圈301的匝数为E(即上文中的N1)，其中，E≥2；第二回路线圈302的匝数为F(即上文中的N2)，其中，F≥2。

其中，由第一感应电流I1的计算表达式可知，第一回路线圈301的匝数E越多，第一感应电流I1越大，触控感应灵敏度越高；同理，第二回路线圈302的匝数F越多，第二感应电流I2越大，触控感应灵敏度越高。

示例性的，参照图3，示出了第一回路线圈301和第二回路线圈的匝数分别为2匝的情况。

示例性的，参照图5，示出了第一回路线圈301的匝数为2匝的情况。

需要说明的是，图3和图5仅为对第一回路线圈301和第二回路线圈302的匝数的示例性说明，而非限定。在其他实施方式中，可根据阵列基板的实际需求，分别设置第一回路线圈301的匝数和第二回路线圈302的匝数，其可相同，也可不同，本发明实施例对此不作限定。

可选的，图7为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。参照图7，该阵列基板还包括电磁屏蔽层80，电磁屏蔽层80位于衬底基板10与电磁触控感应层30之间；电磁触控感应层30在衬底基板10上的垂直投影，位于电磁屏蔽层80在衬底基板10上的垂直投影内；还包括第一绝缘层82，第一绝缘层82位于电磁屏蔽层80与电磁触控感应层30之间；第一绝缘层82在衬底基板10上的垂直投影，覆盖电磁触控感应层30在衬底基板10上的垂直投影。

其中，电磁屏蔽层80的主要作用是屏蔽位于电磁屏蔽层80远离电磁触控感应层30一侧的电磁模组或电磁元件对电磁触控感应层30的干扰，从而确保阵列基板具有较高的触控感应准确性以及较高的触控感应灵敏度。

其中，第一绝缘层82用于使电磁屏蔽层80与电磁触控感应层30绝缘，从而电磁触控感应层30接收到的电磁触控感应信号不受电磁屏蔽层80的电位的影响。

其中，电磁触控感应层30在衬底基板10上的垂直投影同时在第一绝缘层82在衬底基板10上的垂直投影和电磁屏蔽层80在衬底基板10上的垂直投影内，由此，可达到较好的电磁屏蔽效果。

需要说明的是，电磁屏蔽层80可为单层结构或多层结构，本发明实施例对此不作限定。同时，电磁屏蔽层80平行于衬底基板10的剖面形状可为条状、网格状或整面完整的形状，本发明实施例对此同样不作限定。

可选的，电磁屏蔽层80与固定电位电连接。

示例性的，电磁屏蔽层80可电连接至公共电极电位或接地或其他固定电位。

可选的，电磁屏蔽层80的材料包括铜、银、镍中的至少一种。

如此设置，可使电磁屏蔽层80具有较高的磁导率，从而达到较好的电磁屏蔽效果。此外，上述材料形成的膜层通常具有较高的光反射率，将其用于反射型触控显示面板和装置时，可提高阵列基板对光的反射效率，从而提高光利用率，提高反射型触控显示面板和装置的图像显示效果。可选的，可将电磁屏蔽层80复用为反射金属层。

可选的，电磁屏蔽层80的材料包括透明导电氧化物(Transparent conduct-iveoxide，TCO)或者石墨烯中的至少一种。

如此设置，可达到较好的电磁屏蔽效果。此外，上述材料形成的膜层通常具有较高的光透射率，将其用于透射型触控显示面板和装置时，可提高阵列基板对光的投射效率，从而提高光利用率，提高透射型触控显示面板和装置的图像显示效果。同时，将TCO或者石墨烯用作电磁屏蔽层80时，也可用于反射式触控显示面板和装置，此时，需要再在阵列基板上设置光反射率较高(例如反射率大于等于50％)的膜层，以提高光利用率，从而提高反射型触控显示面板和装置的图像显示效果。

可选的，图8为本发明实施例提供的又一种阵列基板的结构示意图。参照图8，该阵列基板还可包括有机膜层40，有机膜层40位于电磁触控感应层30与薄膜晶体管20之间。

其中，有机膜层40起到平坦化的作用，从而确保薄膜晶体管20在平整的表面上形成，进而确保薄膜晶体管具有较好的开关性能。

可选的，有机膜层40的厚度为H，其中，H≥10000μm。

如此设置，可达到较好的平坦化的效果。

需要说明的是，有机膜层40可为单层结构，也可为多层(叠层)结构，本发明实施例对此不作限定。

可选的，继续参照图2或图8，该阵列基板还包括无机绝缘层90，无机绝缘层90位于电磁触控感应层30与有机膜层40之间。

其中，电磁触控感应层30中第一回路线圈301和第二回路线圈的材料通常为无机材料，对应于图9，则第一导电层31和第二导电层33的材料通常为无机材料，通过设置无机绝缘层90，可增强电磁触控感应层30与与之接触的膜层之间的附着力，可降低电磁触控感应层30与有机膜层40直接接触时，由于膜层间附着力较弱导致的膜层分离的可能性。因此，通过设置无机绝缘层90可增强阵列基板的结构稳定性，从而延长其使用寿命。

可选的，无机绝缘层90的材料为氮化硅。

如此设置，该无机绝缘层90的材料与上述栅极绝缘层25和像素绝缘层29的材料均相同，因此可采用相同的设备形成，无需增添新的设备。

可选的，无机绝缘层90的厚度为K，其中，2000μm≤K≤5000μm。

如此设置，该无机绝缘层90在起到增强附着力，稳定结构的作用的同时，还可以起到一定的平坦化作用。

可选的，电磁触控感应层30的材料为金属材料。

示例性的，该金属材料可为铜、铝、银等反射率较高(例如反射率大于等于50％)的材料。如此，将该阵列基板应用到反射型触控显示面板时，可利用电磁触控感应层30对光线进行反射，通过设置电磁触控感应层30具有较高的反射率，可使被反射的光线较多，因此，可增强反射型触控显示面板的图像显示效果。

需要说明的是，电磁触控感应层30的材料还可以为其他反射率较高且电阻率较低的材料，本发明实施例对此不作限定。

可选的，衬底基板10为反射式的基板。

示例性的，衬底基板10的材料为黄色聚酰亚胺材料。此时，通过在薄膜晶体管20和衬底基板10之间设置电磁触控感应层30，可利用电磁触控感应层30对光线进行反射，以增多用于反射的光线，从而增强反射型触控显示面板的图像显示效果。此时，该反射型触控显示面板可为刚性显示面板，也可为柔性显示面板，本发明实施例对此不作限定。

在上述实施方式的基础上，本发明实施例还提供一种触控显示面板，该触控显示面板包括上述实施方式提供的阵列基板。

本发明实施例提供的触控显示面板包括上述实施例中的阵列基板，因此本发明实施例提供的触控显示面板也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性的，本发明实施例提供的触控显示面板可以是笔记本电脑、平板电脑、电子纸或显示器等任何具有触控显示功能的产品或部件，本发明实施例对此不作限定。

可选的，该触控显示面板可包括电子纸、液晶显示面板以及有机发光显示面板中的一种或者多种。

示例性的，图9为本发明实施例提供的一种触控显示面板的结构示意图，示出了电子纸的结构。参照图9，该显示面板还包括保护膜70和电泳膜60；保护膜70与阵列基板相对设置；电泳膜60位于阵列基板与保护膜70之间。

其中，电泳膜60包括多种不同颜色的带电粒子(图9中示例性的示出了第一颜色的粒子601、第二颜色的粒子602和第三颜色的粒子603，)，该带电粒子在像素电极50和公共电极701之间的电场作用下，向着像素电极50运动，或者向着公共电极701运动。当只有一种颜色的带电粒子在公共电极701侧聚集时，该触控显示面板显示出该颜色；当多于一种颜色的带电粒子同时在公共电极701侧聚集时，该触控显示面板显示出该多种颜色的混合颜色。

示例性的，多种不同颜色可包括黑色、白色、红色、绿色、蓝色、黄色中的任一种，且不同颜色的带电粒子的带电量不同。

其中，保护膜70可为保护盖板，也可为利用物理或化学方法形成的膜层结构，可为单层结构，也可为多层结构，本发明实施例对此不作限定。

本发明实施例提供的电子纸包括上述实施方式提供的阵列基板，通过设置阵列基板包括位于衬底基板10与薄膜晶体管20之间的电磁触控感应层30，电磁触控感应层30包括多个第一回路线圈301，多个第二回路线圈302，阵列基板包括多个像素201，像素201沿第二方向Y的宽度为S_P1、沿第一方向X的宽度为S_P2；第一回路线圈301的线宽为W1，第二回路线圈302的线宽为W2，其中，

一方面，可将电磁触控功能集成到阵列基板内，在减薄电子纸的整体厚度的同时，不影响像素电极50的排布，即不影响电子纸的显示功能；同时，薄膜晶体管20位于电磁触控感应层30远离衬底基板10的一侧，还可以对电磁触控感应层30起到电磁屏蔽的作用，即电磁触控感应层30的电磁场变化也不会影响电泳膜60两侧的像素电极50和公共电极701的电位，即确保电子纸可正常显示。另一方面，将第一回路线圈301的线宽W1和第二回路线圈302的线宽W2的线宽设置的较宽，可降低电磁触控感应层30的驱动负载，减少触控信号延迟，进而可以提升触控感应灵敏度。

示例性的，图10为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的结构示意图，同样示出了电子纸的结构。在图9的基础上，对阵列基板的结构进行细化，因此，图10示出的电子纸也具有图9示出的电子纸所具有的技术效果，在此不赘述。此外，参照图10，该阵列基板还可包括电磁屏蔽层80、第一绝缘层82和无机绝缘层90。其中，电磁屏蔽层80位于衬底基板10与电磁触控感应层30之间；电磁触控感应层30在衬底基板10上的垂直投影，位于电磁屏蔽层80在衬底基板10上的垂直投影内，电磁屏蔽层80的主要作用是屏蔽位于电磁屏蔽层80远离电磁触控感应层30一侧的电磁模组或电磁元件对电磁触控感应层30的干扰，从而确保阵列基板具有较高的触控感应准确性以及较高的触控感应灵敏度。其中，第一绝缘层82位于电磁屏蔽层80与电磁触控感应层30之间；第一绝缘层82在衬底基板10上的垂直投影，覆盖电磁触控感应层30在衬底基板10上的垂直投影，第一绝缘层82用于使电磁屏蔽层80与电磁触控感应层30绝缘，从而电磁触控感应层30接收到的电磁触控感应信号不受电磁屏蔽层80的电位的影响。其中，无机绝缘层90位于电磁触控感应层30与有机膜层40之间，通过设置无机绝缘层90，可增强电磁触控感应层30与与之接触的膜层之间的附着力，可降低电磁触控感应层30与有机膜层40直接接触时，由于膜层间附着力较弱导致的膜层分离的可能性。因此，通过设置无机绝缘层90可增强阵列基板的结构稳定性，从而延长其使用寿命。

需要说明的是，图9和图10中仅示例性的示出了三种不同颜色的带电粒子，此仅为示例性的说明，而非限定。在其他实施方式中，可根据触控显示面板的实际需求，设置带电粒子的种类，本发明实施例对此不作限定。

示例性的，图11为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的结构示意图，示出了液晶显示面板的结构。参照图11，该显示面板还包括彩膜基板72和液晶层62；彩膜基板72与阵列基板相对设置；液晶层62位于阵列基板与彩膜基板72之间。

其中，液晶层62中的液晶分子在像素电极50和公共电极721之间的电场作用下转动，控制光线是否通过，从而实现图像的显示。

其中，彩膜基板72的结构为本领域技术人员可知的任一结构，本发明实施例对此不作限定。

可选的，该液晶显示面板可为反射型液晶触控显示面板，通过衬底基板10对光线(示例性的，可为环境光的光线或者背光源的光线)进行反射，以形成入射到液晶层62中的用于实现画面显示的光线。

示例性的，衬底基板10的材料可为黄色聚酰亚胺，通过在衬底基板10与薄膜晶体管20之间设置电磁触控感应层30，可利用电磁触控感应层30对背光源的光线或环境光的光线进行反射；通过设置电磁触控感应层30的材料具有较高的反射率，可使被反射的光线较多，即可由液晶层60出射的光线的基数较大，从而，可增强反射型液晶触控显示面板的图像显示效果。

示例性的，图12为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的结构示意图，示出了有机发光显示面板的结构。参照图12，该显示面板的阵列基板还包括发光功能层64，发光功能层64位于薄膜晶体管20远离衬底基板10的一侧；保护层74，保护层74位于发光功能层64远离衬底基板10的一侧。

其中，发光功能层64用于在像素电极50和公共电极63通电时，发出光线，以实现图像显示。

示例性的，发光功能层64的发光颜色可为红色、绿色、蓝色或其他本领域技术人员可知的颜色，发光功能层64的材料可为本领域公知的材料，本发明实施例对此不作限定。

上述图9-13示出的触控显示面板，均将电磁触控感应层30设置于薄膜晶体管20靠近衬底基板10的一侧，因此，一方面，通过将电磁触控感应层30集成到阵列基板的膜层结构内，减薄了触控显示面板的整体厚度，有利于其轻薄化设计的同时不影响像素电极50的排布；同时，可利用薄膜晶体管20对电磁触控感应层30进行电磁屏蔽，使得电磁触控感应层30的电位不影响触控显示面板的显示单元的电位，从而，电磁触控感应层30不会影响触控显示面板和触控显示装置的显示功能。其次，通过将第一回路线圈301的线宽W1和第二回路线圈302的线宽W2的线宽设置的较宽，可降低电磁触控感应层30的驱动负载，减少触控信号延迟，进而可以提升触控感应灵敏度；同时，通过降低电磁触控感应层30的驱动负载，可利用阵列基板原有的驱动电路对电磁触控感应层30进行驱动，而无需另外设置电磁触控感应层30的驱动电路，从而降低了触控显示面板的成本。另一方面，通过设置每个第一回路线圈301在第一方向X上的延伸长度E1等于或者大于像素201在第一方向X上形成的像素列的延伸长度E2，每个第二线圈在第二方向Y上的延伸长度F1等于或者大于像素201在第二方向Y上形成的像素行的延伸长度F2，且第一回路线圈301和第二回路线圈302在衬底基板10的一侧均匀分布；以及设置第一回路线圈301的线宽W1为像素201沿第二方向Y的宽度S_P1的整数倍，第二回路线圈302的线宽W2为像素201沿第一方向X的宽度S_P2的整数倍，可使像素201布设于电磁触控感应层30远离衬底基板10一侧表面的平整的位置处，从而确保了像素201内各功能层结构和性能稳定。此外，通过设置电磁触控感应层30的材料包括金属材料，其具有高反射率和第电阻率，可将其应用于反射型触控显示面板，利用电磁触控感应层30对光线进行反射，可使被反射的光线较多，因此，可增强反射型触控显示面板的图像显示效果。

需要说明的是，图9-13中仅示例性的示出了触控显示面板包括3个像素(每个薄膜晶体管20对应一个像素)，此仅为整个触控显示面板的部分结构，而非全部结构。在其他实施方式中，像素的个数可根据显示面板的实际需求设置，本发明实施例对此不作限定。

本发明实施例还提供一种触控显示装置，示例性的，图13为本发明实施例提供的一种触控显示装置的结构示意图。参照图13，该触控显示装置200包括上述实施方式提供的触控显示面板100。

本发明实施例提供的触控显示装置200包括上述实施方式中的触控显示面板100，触控显示面板100包括上述实施方式中的阵列基板，因此本发明实施例提供的触控显示装置200也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性的，触控显示装置200可以包括手机、电脑以及智能可穿戴设备等触控显示装置，本发明实施例对此不作限定。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (15)

1.一种触控显示面板，其特征在于，包括阵列基板和位于所述阵列基板一侧的显示介质层：

所述阵列基板包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的薄膜晶体管；

位于所述衬底基板与所述薄膜晶体管之间的电磁触控感应层，所述电磁触控感应层位于所述薄膜晶体管远离所述显示介质层一侧；

所述电磁触控感应层包括多个第一回路线圈，多个第二回路线圈，所述多个第一回路线圈沿第一方向延伸，且沿第二方向排列，所述多个第二回路线圈沿所述第二方向延伸，且沿所述第一方向排列，所述第一回路线圈与所述第二回路线圈绝缘，所述第一方向和所述第二方向交叉；

所述阵列基板包括多个像素，所述像素沿所述第二方向的宽度为S_P1、沿所述第一方向的宽度为S_P2；

所述第一回路线圈的线宽为W1，所述第二回路线圈的线宽为W2，其中，

2.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，

其中，n和m为正整数。

3.根据权利要求1所述的触控显示面板 ，其特征在于，W1≥195μm，W2≥195μm。

4.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于：

在所述第二方向上，相邻两个所述第一回路线圈的间隔为A，其中，2mm≤A≤6mm；

在所述第一方向上，相邻两个所述第二回路线圈的间隔为B，其中，2mm≤B≤6mm。

5.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述第一回路线圈的匝数为E，其中，E≥2；所述第二回路线圈的匝数为F，其中，F≥2。

6.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括：

电磁屏蔽层，所述电磁屏蔽层位于所述衬底基板与所述电磁触控感应层之间；

所述电磁触控感应层在所述衬底基板上的垂直投影，位于所述电磁屏蔽层在所述衬底基板上的垂直投影内；

还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层位于所述电磁屏蔽层与所述电磁触控感应层之间；

所述第一绝缘层在所述衬底基板上的垂直投影，覆盖所述电磁触控感应层在所述衬底基板上的垂直投影。

7.根据权利要求6所述的触控显示面板，其特征在于，所述电磁屏蔽层与固定电位电连接。

8.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，还包括：

有机膜层，所述有机膜层位于所述电磁触控感应层与所述薄膜晶体管之间。

9.根据权利要求8所述的触控显示面板，其特征在于，还包括无机绝缘层，所述无机绝缘层位于所述电磁触控感应层与所述有机膜层之间。

10.根据权利要求9所述的触控显示面板，其特征在于，所述无机绝缘层的材料为氮化硅。

11.根据权利要求10所述的触控显示面板，其特征在于，所述无机绝缘层的厚度为K，其中，2000μm≤K≤5000μm。

12.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述电磁触控感应层的材料包括金属。

13.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述衬底基板为反射式的基板。

14.根据权利要求1所述的触控显示面板，其特征在于，所述触控显示面板包括电子纸、液晶显示面板以及有机发光显示面板中的一种或者多种。

15.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求1-14任一项所述的触控显示面板。

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