CN108905532A - 一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其对洗涤塔形成内部气体循环，降低废气流速，增加废气形成，从而提高废气吸收效率，在投资较低情况下避免洗涤塔总负荷达标但因局部废气吸收较差带来的废气外排。
Description
技术领域
本发明涉及一种卧式洗涤塔，具体涉及一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔。
背景技术
洗涤塔是一种新型的气体净化处理设备。它是在可浮动填料层气体净化器的基础上改进而产生的，广泛应用于工业废气净化、除尘等方面的前处理，净化效果很好。对煤气化工艺来说，煤气洗涤不可避免，无论什么煤气化技术都用到这一单元操作。由于其工作原理类似洗涤过程，故名洗涤塔。
现有技术中用于半导体厂房的酸碱性排气的卧式洗涤塔，在进行吸气过程中，会有偶发的吸气不彻底、废气外排等现象。其原因在于，废气供给阶段，局部风力及废气浓度过高，导致局部废气无法完全吸收即被排出洗涤塔。
因此，需要一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔。
发明内容
为解决上述存在的问题，本发明的目的在于提供一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其对洗涤塔形成内部气体循环，降低废气流速，增加废气形成，从而提高废气吸收效率，在投资较低情况下避免洗涤塔总负荷达标但因局部废气吸收较差带来的废气外排。
为达到上述目的，本发明的技术方案是：
一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口、废气出口及塔身，所述废气入口设置于塔身左侧、所述废气出口设置于塔身右侧，所述喷淋系统包括喷头、供液管及供液泵，所述喷头设置于塔身顶部，所述供液泵设置于塔身外部，所述供液管分别与喷头及供液泵连接，所述回风系统包括风管及风机，所述风管一端与塔身顶部右侧连接、另一端与废气入口顶部连接，所述风机设置于风管中段。使用时，回风系统将经过处理的废气吸入风管，再由废气入口上方供入塔身，废气由风管进入时与从废气入口进入的未经吸收塔吸收的废气混合，混合后的气体具有以下特点：1、废气浓度降低，利于充分接触、吸收；2、废气速度降低，利于充分反应、吸收；3、废气速度方向改变，利于废气在洗涤塔内扩散从而充分利用洗涤塔内各处的填料及洗涤液，避免填料及洗涤液的浪费。
作为上述方案的进一步改进，所述风管内设有防腐蚀涂层。半导体厂房的酸碱性排气有一定的腐蚀作用，该设计可以有效防止风管被腐蚀，增加风管效率。
作为上述方案的进一步改进，所述风管与塔身连接处设有通风罩，所述通风中呈块状，所述通风罩内设有若干风道。所述通风罩覆盖在通风管的管口。该设计可以有效防止洗涤塔内喷淋的水珠直接进入风管及风机。
作为上述方案的进一步改进，所述风道横截面积呈Z型。该设计为通风罩结构的一种优选方案，使其构成简单的迷宫通风结构，既能防止水珠直接进入风管，又具有良好经济性。
作为上述方案的进一步改进，所述通风罩沿风道方向倾斜设置。该设计可以时被风道拦截的水滴沿风道侧壁流下。
作为上述方案的进一步改进，所述通风罩两侧设有凸型滑轨，所述塔身设有与凸型滑轨配合的凹型滑槽。该设计为通风罩的一种优选结构，其安装不需要金属结构介入，可以防止金属结构被腐蚀，且安装简单，节省人工成本。
作为上述方案的进一步改进，所述风管内设有吸水纱网。
附图说明
图1为本发明实施例所提供的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔结构示意图。
图2为本发明实施例所提供的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔的通风罩截面示意图。
其中：
1、废气入口；2、废气出口；3、塔身；4、喷头；5、供液管；6、供液泵；7、风管；8、风机；9、通风罩；10、风道；11、凸型滑轨。
具体实施方式
以下将结合实施方式和附图对本发明创造的构思、具体结构及产生的具体效果进行清楚、完整的描述，以充分的理解本发明创造的目的、特征和效果。本发明创造的各项技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
参见图1-2，一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口1、废气出口2及塔身3，所述废气入口1设置于塔身3左侧、所述废气出口2设置于塔身3右侧，所述喷淋系统包括喷头4、供液管5及供液泵6，所述喷头4设置于塔身3顶部，所述供液泵6设置于塔身3外部，所述供液管5分别与喷头4及供液泵6连接，所述回风系统包括风管7及风机8，所述风管7一端与塔身3顶部右侧连接、另一端与废气入口1顶部连接，所述风机8设置于风管7中段。
作为上述方案的进一步改进，所述风管7内设有防腐蚀涂层。
作为上述方案的进一步改进，所述风管7与塔身3连接处设有通风罩9，所述通风中呈块状，所述通风罩9内设有若干风道10。
作为上述方案的进一步改进，所述风道10横截面积呈Z型。
作为上述方案的进一步改进，所述通风罩9沿风道10方向倾斜设置。
作为上述方案的进一步改进，所述通风罩9两侧设有凸型滑轨11，所述塔身3设有与凸型滑轨11配合的凹型滑槽。
作为上述方案的进一步改进，所述风管7内设有吸水纱网。
需要说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制。尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。
Claims (7)
1.一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口（1）、废气出口（2）及塔身（3），所述废气入口（1）设置于塔身（3）左侧、所述废气出口（2）设置于塔身（3）右侧，所述喷淋系统包括喷头（4）、供液管（5）及供液泵（6），所述喷头（4）设置于塔身（3）顶部，所述供液泵（6）设置于塔身（3）外部，所述供液管（5）分别与喷头（4）及供液泵（6）连接，所述回风系统包括风管（7）及风机（8），所述风管（7）一端与塔身（3）顶部右侧连接、另一端与废气入口（1）顶部连接，所述风机（8）设置于风管（7）中段。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）内设有防腐蚀涂层。
3.根据权利要求1所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）与塔身（3）连接处设有通风罩（9），所述通风中呈块状，所述通风罩（9）内设有若干风道（10）。
4.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述风道（10）横截面积呈Z型。
5.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述通风罩（9）沿风道（10）方向倾斜设置。
6.根据权利要求3所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述通风罩（9）两侧设有凸型滑轨（11），所述塔身（3）设有与凸型滑轨（11）配合的凹型滑槽。
7.根据权利要求1所述的一种用于半导体厂房的酸碱性排气的洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）内设有吸水纱网。
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