CN108802058A - 一种平板杂质快检装置以及平板杂质的检测方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种平板杂质快检装置以及平板杂质的检测方法，涉及平板检测领域，该平板杂质快检装置，包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器；平行光发生器设置在基板承载台的上方，用于生成平行光并将平行光照射至待测基板；干涉透光板设置在基板承载台与平行光发生器之间并能够与待测基板呈夹角设置；光学探头设置在干涉透光板的上方并与处理器电连接，用于采集干涉条纹的图像信息并传递至处理器；处理器用于依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。相较于现有技术，本发明提供的一种平板杂质快检装置，能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸，检测过程方便快捷，大大提高了检测效率与检测准确度。

Description

一种平板杂质快检装置以及平板杂质的检测方法

技术领域

本发明涉及平板检测领域，具体而言，涉及一种平板杂质快检装置以及平板杂质的检测方法。

背景技术

在平板显示行业中，已有的灰尘检测方案是利用相机拍摄玻璃基板，通过检测玻璃基板上每个位置的灰度值，并对比此灰度值大小和给定阈值的大小，超出阈值，判定此处像素沾有灰尘，反之正常。

然而实际在生产过程中，用上述方法计算速度较慢，并且难以确定灰尘尺寸的大小，而仅能知道灰尘的数量。

有鉴于此，设计制造出一种能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸的平板杂质快检装置就显得尤为重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种平板杂质快检装置，其能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸。

本发明的另一目的在于提供一种平板杂质的检测方法，能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸。

本发明是采用以下的技术方案来实现的。

一种平板杂质快检装置，包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，基板承载台用于承载待测基板；

平行光发生器设置在基板承载台的上方，用于生成平行光并将平行光照射至待测基板；

干涉透光板设置在基板承载台与平行光发生器之间并能够与待测基板呈夹角设置，用于透过平行光并生成干涉条纹；

光学探头设置在干涉透光板的上方并与处理器电连接，用于采集干涉条纹的图像信息并传递至处理器；

处理器用于依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

进一步地，基板承载台上设置有运动调节机构，干涉透光板与运动调节机构连接，运动调节机构用于带动干涉透光板相对基板承载台运动，以使干涉透光板与待测基板呈夹角设置。

进一步地，运动调节机构包括左调节组件和右调节组件，右调节组件与干涉透光板的一端连接，用于带动干涉透光板的一端相对基板承载台运动，以使干涉透光板的一端与待测基板相抵持；左调节组件与干涉透光板的另一端连接，用于带动干涉透光板的另一端相对基板承载台运动，以使干涉透光板的另一端与待测基板间隔设置。

进一步地，基板承载台上设置有承载支架和限位挡架，且限位挡架环绕承载支架设置并与承载支架共同围成一装夹位，用于容置待测基板。

进一步地，处理器包括位置检测单元、面积检测单元、分析单元和存储单元，位置检测单元和面积检测单元均与分析单元电连接，分析单元与存储单元电连接，位置检测单元用于检测图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息，面积检测单元用于检测图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息，分析单元用于依据凹凸点位置信息生成杂质位置数据，分析单元还用于依据凹凸点长度信息生成杂质面积数据，存储单元用于存储杂质位置数据和杂质面积数据。

一种平板杂质的检测方法，通过平板杂质快检装置进行检测，平板杂质快检装置包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，干涉透光板与基板承载台呈夹角设置，光学探头设置在干涉透光板的上方，平行光发生器设置在基板承载台和干涉透光板的上方，处理器与光学探头电连接，平板杂质的检测方法包括以下步骤：

将待测基板放置在基板承载台上；

移动干涉透光板，以使干涉透光板与待测基板呈夹角设置；

通过平行光发生器生成平行光，将平行光照射在待测基板上，以使干涉透光板上生成干涉条纹；

通过光学探头采集干涉条纹的图像信息并传递至处理器；

处理器依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

进一步地，基板承载台上设置有运动调节机构，干涉透光板与运动调节机构连接，移动干涉透光板，以使干涉透光板与待测基板呈夹角设置的步骤，具体包括；

通过运动调节机构带动干涉透光板相对基板承载台运动，以使干涉透光板与待测基板呈夹角设置。

进一步地，运动调节机构包括左调节组件和右调节组件，右调节组件与干涉透光板的一端连接，右调节组件与干涉透光板的另一端连接，通过运动调节机构带动干涉透光板相对基板承载台运动，以使干涉透光板与待测基板呈夹角设置的步骤，具体包括：

通过右调节组件带动干涉透光板的一端相对基板承载台运动，以使干涉透光板的一端与待测基板相抵持；

通过左调节组件带动干涉透光板的另一端相对基板承载台运动，以使干涉透光板的另一端与待测基板间隔设置。

进一步地，基板承载台上设置有承载支架和限位挡架，且限位挡架环绕承载支架设置并与承载支架共同围成一装夹位，将待测基板放置在基板承载台上的步骤，具体包括：

将待测基板放置在承载支架上并使得待测基板容置在装夹位中。

进一步地，处理器包括位置检测单元、面积检测单元、分析单元和存储单元，位置检测单元和面积检测单元均与分析单元电连接，分析单元与存储单元电连接，处理器依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据的步骤，具体包括：

通过位置检测单元检测图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息；

通过面积检测单元检测图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息；

通过分析单元生成杂质位置数据和杂质面积数据；

通过存储单元存储杂质位置数据和杂质面积数据。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的一种平板杂质快检装置，通过将待测基板设置在基板承载台上，平行光发生器设置在基板承载台的上方，干涉透光板设置在基板承载台与平行光发生器之间并能够与待测基板呈夹角设置，光学探头设置在干涉透光板的上方并与处理器电连接。在实际检测过程中，将待测基板放置在基板承载台上，同时使得干涉透光板与待测夹板呈夹角设置，打开平行光发生器，使得平行光透过干涉透光板打在待测基板上，由于干涉透光板与待测基板之间具有微小夹角，使得干涉透光板上出现干涉条纹，光学探头正对干涉透光板并采集干涉头透光板上的干涉条纹图像，处理器接收到干涉条纹的图像信息后生成杂质位置数据和杂质面积数据，从而获知平板上灰尘等杂质的位置和大小，方便后续工艺过程中进行清灰处理。相较于现有技术，本发明提供的一种平板杂质快检装置，能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸，检测过程方便快捷，大大提高了检测效率与检测准确度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明第一实施例提供的平板杂质快检装置的结构示意图；

图2为图1中基板承载台的连接结构示意图；

图3为图1中处理器的结构框图；

图4为为本发明第二实施例提供的平板杂质的检测方法的步骤框图。

图标：100-平板杂质快检装置；110-基板承载台；111-运动调节机构；113-左调节组件；115-右调节组件；130-光学探头；150-平行光发生器；170-干涉透光板；190-处理器；191-位置检测单元；193-面积检测单元；195-分析单元；197-存储单元。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“安装”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

下面结合附图，对本发明的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例中的特征可以相互组合。

第一实施例

参见图1，本实施例提供了一种平板杂质快检装置100，其用于检测待测基板，如玻璃基板或硅晶板等对清洁度清洁度要求较高的基板，并能够快速准确地检测出待测基板上的灰尘等杂质的位置和尺寸，十分方便。

该平板杂质快检装置100包括基板承载台110、光学探头130、平行光发生器150、干涉透光板170以及处理器190，基板承载台110用于承载待测基板。平行光发生器150设置在基板承载台110的上方，用于生成平行光并将平行光照射至待测基板。干涉透光板170设置在基板承载台110与平行光发生器150之间并能够与待测基板呈夹角设置，用于透过平行光并生成干涉条纹。光学探头130设置在干涉透光板170的上方并与处理器190电连接，用于采集干涉条纹的图像信息并传递至处理器190。处理器190用于依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

具体地，干涉透光板170为一玻璃大板，且玻璃大板的位置可调，方便从基板承载台110上拆卸待测基板时玻璃大板不会对待测基板造成行程干涉。

在本实施例中，基板承载台110上设置有承载支架(图未示)和限位挡架(图未示)，且限位挡架环绕承载支架设置并与承载支架共同围成一装夹位，用于容置待测基板。

在本实施例中，光学探头130为一工业相机，且给工业相机与干涉透光板170相对设置，方便采集干涉透光板170上的图像信息。

在实际检测过程中，将待测基板放置在基板承载台110上的装夹位中，同时使得干涉透光板170与待测夹板呈夹角设置，打开平行光发生器150，使得平行光透过干涉透光板170打在待测基板上，由于干涉透光板170与待测基板之间具有微小夹角，使得干涉透光板170上出现干涉条纹，光学探头130正对干涉透光板170并采集干涉头透光板上的干涉条纹图像，处理器190接收到干涉条纹的图像信息后生成杂质位置数据和杂质面积数据，从而获知平板上灰尘等杂质的位置和大小，方便后续工艺过程中进行清灰处理。

参见图2，基板承载台110上设置有运动调节机构111，干涉透光板170与运动调节机构111连接，运动调节机构111用于带动干涉透光板170相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170与待测基板呈夹角设置。

在实际检测过程中，在将待测基板放置在基板承载台110上之前，通过运动调节机构111向上调节干涉透光板170的位置，从而方便地将待测基板放置在基板承载台110上，在待测基板放置在基板承载台110上之后，通过运动调节机构111向下调节干涉透光板170的位置，从而将干涉透光板170调节至与待测基板呈夹角的位置，方便后续形成干涉条纹。

运动调节机构111包括左调节组件113和右调节组件115，右调节组件115与干涉透光板170的一端连接，用于带动干涉透光板170的一端相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170的一端与待测基板相抵持；左调节组件113与干涉透光板170的另一端连接，用于带动干涉透光板170的另一端相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170的另一端与待测基板间隔设置。在本实施例中，左调节组件113和右调节组件115同步上下运动，且左调节组件113与干涉透光板170的连接位置略高于右调节组件115与干涉透光板170的连接位置，使得干涉透光板170的左端高度略高于右端高度，在左调节组件113和右调节组件115同步向下运动时，干涉透光板170的右端能够与待测基板的右端相抵持，从而使得干涉透光板170与待测基板之间形成微小夹角，方便形成干涉条纹。

具体地，在基板承载台110的两侧设置有滑柱，滑柱上分别滑动设置有左调节组件113和右调节组件115，其中左调节组件113和右调节组件115均具有套筒，方便套设在两侧的滑柱上，同时左调节组件113和右调节组件115还具有驱动件，在驱动件的驱动下使得左调节组件113和右调节组件115沿两侧的滑柱滑动。

参见图3，处理器190包括位置检测单元191、面积检测单元193、分析单元195和存储单元197，位置检测单元191和面积检测单元193均与分析单元195电连接，分析单元195与存储单元197电连接，位置检测单元191用于检测图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息，面积检测单元193用于检测图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息，分析单元195用于依据凹凸点位置信息生成杂质位置数据，分析单元195还用于依据凹凸点长度信息生成杂质面积数据，存储单元197用于存储杂质位置数据和杂质面积数据。具体地，在分析单元195中预置有计算模块，且计算模块通过计算公式进行计算，通过该计算模块能够通过凹凸点位置信息计算出杂质位置数据，通过凹凸点长度信息能够计算出杂质面积数据，从而获知杂质的位置与面积，方便后续工艺进行处理。

具体地，在本实施例中，处理器190为计算机，该计算机与光学探头130之间通过数据线连接，方便光学探头130采集的图像信息能够及时发送至计算机内进行处理。

综上所述，本实施例提供了一种平板杂质的检测方法，通过将待测基板设置在基板承载台110上，平行光发生器150设置在基板承载台110的上方，干涉透光板170设置在基板承载台110与平行光发生器150之间并能够与待测基板呈夹角设置，光学探头130设置在干涉透光板170的上方并与处理器190电连接。在实际检测过程中，将待测基板放置在基板承载台110上，同时使得干涉透光板170与待测夹板呈夹角设置，打开平行光发生器150，使得平行光透过干涉透光板170打在待测基板上，由于干涉透光板170与待测基板之间具有微小夹角，使得干涉透光板170上出现干涉条纹，光学探头130正对干涉透光板170并采集干涉头透光板上的干涉条纹图像，处理器190接收到干涉条纹的图像信息后生成杂质位置数据和杂质面积数据，从而获知平板上灰尘等杂质的位置和大小，方便后续工艺过程中进行清灰处理。相较于现有技术，本实施例提供的一种平板杂质快检装置100，能够快速准确地检测灰尘并能够确定灰尘尺寸，检测过程方便快捷，大大提高了检测效率与检测准确度。

第二实施例

参见图4，本实施例提供了一种平板杂质的检测方法，通过第一实施例所述的平板杂质快检装置100进行检测，其中本实施例中所述的平板杂质快检装置100基本结构和原理及产生的技术效果和第一实施例相同，为简要描述，本实施例部分未提及之处，可参考第一实施例中相应内容。

平板杂质快检装置100包括基板承载台110、光学探头130、平行光发生器150、干涉透光板170以及处理器190，干涉透光板170与基板承载台110呈夹角设置，光学探头130设置在干涉透光板170的上方，平行光发生器150设置在基板承载台110和干涉透光板170的上方，处理器190与光学探头130电连接。

本实施例提供的平板杂质的检测方法包括以下步骤：

S1：将待测基板放置在基板承载台110上。

具体地，基板承载台110上设置有承载支架和限位挡架，且限位挡架环绕承载支架设置并与承载支架共同围成一装夹位，用于容置待测基板。在测试之前，将待测基板放置在装夹位上。

S2：移动干涉透光板170，以使干涉透光板170与待测基板呈夹角设置。

具体地，在待测基板放置到指定位置后，向下移动干涉透光板170，使得干涉透光板170与待测基板呈夹角设置。

在本实施例中，基板承载台110上设置有运动调节机构111，干涉透光板170与运动调节机构111连接，上述步骤S2具体包括；通过运动调节机构111带动干涉透光板170相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170与待测基板呈夹角设置。具体地，运动调节机构111包括左调节组件113和右调节组件115，右调节组件115与干涉透光板170的一端连接，右调节组件115与干涉透光板170的另一端连接。通过右调节组件115带动干涉透光板170的一端相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170的一端与待测基板相抵持；通过左调节组件113带动干涉透光板170的另一端相对基板承载台110运动，以使干涉透光板170的另一端与待测基板间隔设置。在本实施例中，左调节组件113和右调节组件115同步上下运动，且左调节组件113与干涉透光板170的连接位置略高于右调节组件115与干涉透光板170的连接位置，使得干涉透光板170的左端高度略高于右端高度，在左调节组件113和右调节组件115同步向下运动时，干涉透光板170的右端能够与待测基板的右端相抵持，从而使得干涉透光板170与待测基板之间形成微小夹角，方便形成干涉条纹。

S3：通过平行光发生器150生成平行光，将平行光照射在待测基板上，以使干涉透光板170上生成干涉条纹。

具体地，待干涉透光板170与待测基板到达指定位置后，打开平行光发生器150，使得干涉透光板170上形成明暗相间的干涉条纹，通过微调干涉透光板170与待测基板之间的微小夹角，使得干涉条纹清晰且宽度适宜。

S4：通过光学探头130采集干涉条纹的图像信息并传递至处理器190。

具体地，在干涉透光板170与待测基板到达指定位置并打开平行光发生器150后，打开光学探头130，通过光学探头130采集干涉条纹的图像信息。

S5：处理器190依据图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

具体而言，通过光学探头130将采集到的图像信息传递至处理器190进行判断和分析。当处理器190或者人工判断出图像信息中干涉条纹没有凹凸点，则该待测基板表面光洁，直接送入下一工序，当处理器190或者人工判断出图像信息中干涉条纹有凹凸点时，则由处理器190进一步进行分析。

在本实施例中，处理器190包括位置检测单元191、面积检测单元193、分析单元195和存储单元197，位置检测单元191和面积检测单元193均与分析单元195电连接，分析单元195与存储单元197电连接，通过位置检测单元191检测图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息；通过面积检测单元193检测图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息；通过分析单元195生成杂质位置数据和杂质面积数据；通过存储单元197存储杂质位置数据和杂质面积数据。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种平板杂质快检装置，其特征在于，包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，所述基板承载台用于承载待测基板；

所述平行光发生器设置在所述基板承载台的上方，用于生成平行光并将所述平行光照射至所述待测基板；

所述干涉透光板设置在所述基板承载台与所述平行光发生器之间并能够与所述待测基板呈夹角设置，用于透过所述平行光并生成干涉条纹；

所述光学探头设置在所述干涉透光板的上方并与所述处理器电连接，用于采集所述干涉条纹的图像信息并传递至所述处理器；

所述处理器用于依据所述图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

2.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述基板承载台上设置有运动调节机构，所述干涉透光板与所述运动调节机构连接，所述运动调节机构用于带动所述干涉透光板相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置。

3.根据权利要求2所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述运动调节机构包括左调节组件和右调节组件，所述右调节组件与所述干涉透光板的一端连接，用于带动所述干涉透光板的一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的一端与所述待测基板相抵持；所述左调节组件与所述干涉透光板的另一端连接，用于带动所述干涉透光板的另一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的另一端与所述待测基板间隔设置。

4.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述基板承载台上设置有承载支架和限位挡架，且所述限位挡架环绕所述承载支架设置并与所述承载支架共同围成一装夹位，用于容置所述待测基板。

5.根据权利要求1所述的平板杂质快检装置，其特征在于，所述处理器包括位置检测单元、面积检测单元、分析单元和存储单元，所述位置检测单元和所述面积检测单元均与所述分析单元电连接，所述分析单元与所述存储单元电连接，所述位置检测单元用于检测所述图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息，所述面积检测单元用于检测所述图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息，所述分析单元用于依据所述凹凸点位置信息生成所述杂质位置数据，所述分析单元还用于依据所述凹凸点长度信息生成所述杂质面积数据，所述存储单元用于存储所述杂质位置数据和所述杂质面积数据。

6.一种平板杂质的检测方法，通过平板杂质快检装置进行检测，所述平板杂质快检装置包括基板承载台、光学探头、平行光发生器、干涉透光板以及处理器，所述干涉透光板与所述基板承载台呈夹角设置，所述光学探头设置在所述干涉透光板的上方，所述平行光发生器设置在所述基板承载台和所述干涉透光板的上方，所述处理器与所述光学探头电连接，其特征在于，所述平板杂质的检测方法包括以下步骤：

将待测基板放置在基板承载台上；

移动所述干涉透光板，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置；

通过所述平行光发生器生成平行光，将所述平行光照射在所述待测基板上，以使所述干涉透光板上生成干涉条纹；

通过所述光学探头采集所述干涉条纹的图像信息并传递至所述处理器；

所述处理器依据所述图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据。

7.根据权利要求6所述的平板杂质的检测方法，其特征在于，所述基板承载台上设置有运动调节机构，所述干涉透光板与所述运动调节机构连接，所述移动所述干涉透光板，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置的步骤，具体包括；

通过所述运动调节机构带动所述干涉透光板相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置。

8.根据权利要求7所述的平板杂质的检测方法，其特征在于，所述运动调节机构包括左调节组件和右调节组件，所述右调节组件与所述干涉透光板的一端连接，所述右调节组件与所述干涉透光板的另一端连接，所述通过所述运动调节机构带动所述干涉透光板相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板与所述待测基板呈夹角设置的步骤，具体包括：

通过所述右调节组件带动所述干涉透光板的一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的一端与所述待测基板相抵持；

通过所述左调节组件带动所述干涉透光板的另一端相对所述基板承载台运动，以使所述干涉透光板的另一端与所述待测基板间隔设置。

9.根据权利要求6所述的平板杂质的检测方法，其特征在于，所述基板承载台上设置有承载支架和限位挡架，且所述限位挡架环绕所述承载支架设置并与所述承载支架共同围成一装夹位，所述将待测基板放置在基板承载台上的步骤，具体包括：

将所述待测基板放置在所述承载支架上并使得所述待测基板容置在所述装夹位中。

10.根据权利要求6所述的平板杂质的检测方法，其特征在于，所述处理器包括位置检测单元、面积检测单元、分析单元和存储单元，所述位置检测单元和所述面积检测单元均与所述分析单元电连接，所述分析单元与所述存储单元电连接，所述处理器依据所述图像信息生成杂质位置数据和杂质面积数据的步骤，具体包括：

通过所述位置检测单元检测所述图像信息中凹凸点的位置并生成凹凸点位置信息；

通过所述面积检测单元检测所述图像信息中凹凸点的长度并生成凹凸点长度信息；

通过所述分析单元生成所述杂质位置数据和所述杂质面积数据；

通过所述存储单元存储所述杂质位置数据和所述杂质面积数据。