CN108801937A - 仪器的校准 - Google Patents

仪器的校准 Download PDF

Info

Publication number
CN108801937A
CN108801937A CN201810386716.8A CN201810386716A CN108801937A CN 108801937 A CN108801937 A CN 108801937A CN 201810386716 A CN201810386716 A CN 201810386716A CN 108801937 A CN108801937 A CN 108801937A
Authority
CN
China
Prior art keywords
calibration value
light source
spectrometer
light
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810386716.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108801937B (zh
Inventor
C.R.鲁斯卡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Only Yahweh Communication Technology Co Ltd
Viavi Solutions Inc
Original Assignee
Only Yahweh Communication Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Only Yahweh Communication Technology Co Ltd filed Critical Only Yahweh Communication Technology Co Ltd
Priority to CN202110348263.1A priority Critical patent/CN113092389A/zh
Publication of CN108801937A publication Critical patent/CN108801937A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108801937B publication Critical patent/CN108801937B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0297Constructional arrangements for removing other types of optical noise or for performing calibration
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/027Control of working procedures of a spectrometer; Failure detection; Bandwidth calculation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/42Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/359Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using near infrared light
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/65Raman scattering
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/0205Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/10Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/12707Pre-test of apparatus, e.g. dark test, sensor test
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/12715Zero adjustment, i.e. to verify calibration
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/12723Self check capacity; automatic, periodic step of checking
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/1273Check triggered by sensing conditions, e.g. ambient changes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/12738Selectively initiating check
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/12Circuits of general importance; Signal processing
    • G01N2201/127Calibration; base line adjustment; drift compensation
    • G01N2201/12746Calibration values determination

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Abstract

一种装置,可以使用第一光源的光确定用于光谱仪的校准值;在确定校准值之后,停用第一光源;基于校准值进行关于样品的测量,其中使用第二光源的光进行样品的测量;确定要更新校准值;并且使用来自第一光源的光更新校准值。

Description

仪器的校准
背景技术
光谱仪可以进行透射光谱检查。在透射光谱检查中,光穿过样品并与未穿过样品的光比较。该比较可以提供基于路径长度或样品厚度、样品的吸收系数、样品的反射率、入射角、入射辐射的偏振以及对于颗粒物质的粒度尺寸和取向的信息。
发明内容
根据一些可行的实施例,由装置进行的方法可以包括:使用来自第一光源的光确定用于光谱仪的校准值;在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;基于所述校准值并且在停用所述第一光源之后执行样品的测量,其中所述样品的测量使用来自第二光源的光进行;确定要更新所述校准值;基于确定要更新所述校准值而激活所述第一光源;并且在激活第一光源之后,使用来自第一光源的光更新所述校准值。
根据一些可行的实施例,装置可以包括:存储器;和联接到所述存储器的一个或多个处理器,所述存储器和所述一个或多个处理器配置成:使用从光谱仪的第一光源反射到光谱仪的传感器的光确定用于光谱仪的校准值,并且其中所述光从所述光谱仪的扩散器反射到所述传感器;在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;基于所述校准值并且在停用第一光源之后进行样品的测量,其中使用经由所述扩散器接收到的来自第二光源的光进行所述样品的测量;确定要更新的所述校准值;基于确定要更新所述校准值而激活所述第一光源;并且在激活第一光源之后,使用来自第一光源的光更新所述校准值。
根据一些可行的实施例,非暂态计算机可读介质可以存储一个或多个指令,所述一个或多个指令在由光谱仪的一个或多个处理器执行时使得所述一个或多个处理器:使用来自第一光源的光确定用于所述光谱仪的校准值;在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;基于所述校准值并且在停用第一光源之后进行关于样品的测量,其中使用来自第二光源的光进行所述样品的测量;确定要更新所述校准值;以及使用来自所述第一光源的光更新所述校准值。
附图说明
图1A-1D是本文所述的示例实施例的概要图;
图2是其中可以实施本文所述的系统和/或方法的示例环境的示意图;
图3是一个或多个图2的装置的示例部件的示意图;
图4是本文所述的透射光谱仪的概要图;和
图5是用于确定基线校准值和基于基线校准值来校准透射光谱仪的示例过程的流程图。
具体实施方式
关于示例实施例的以下详细说明参考了附图。相同的附图标记在不同附图中可以标识相同元件或类似元件。以下描述使用光谱仪作为示例,但本文所述的校准原理、步骤和方法可与任何传感器一起使用,包括但不局限于其它的光学传感器和光谱传感器。
一些光谱测量应用可以进行重复的基线测量或校准测量,以补偿对光谱仪传感器或硬件的热影响和物理影响。减少这些基线测量或校准测量之间的持续时间使得减少噪音并提高可重复性。但是,许多过程将不容许比测量周期开始时更频繁地重复基线测量或校准测量,这可能持续数小时或数天。在主动测量一过程时,对于透射测量,校准过程可能具有挑战性。例如,可能停止过程,并使用从样品位置处排出的过程材料对过程进行重新基线测定。从实用性的角度看,这对最终用户来说可能是具有挑战性和令人沮丧的。
本文描述的一些实施例可以使用放置到测量区域中的参考点来进行基线测定,而不需要停止或影响到过程。在一些实施例中,参考点可以包括光谱仪的扩散器,并且可以使用光谱仪的内部光源(在本文中,有时称为光谱仪光源)来确定基线校准值。以这种方式,诸如光谱仪的装置或另一类型的装置可以以期望的频率以透射模式进行校准,以维持对于最终用户的应用合适的光谱性能水平。这可能有助于减轻温度对传感器的影响,并且可以允许使用先前因随着时间的热限制而未选择的传感器。此外,本文描述的一些实施例可以不使用机械装置来进行这种校准。例如,本文描述的一些实施例可以是单片的,和/或可以仅使用光源的激活或停用。因此,实现了对测量过程透明并且不需要中断制造过程的装置校准。
图1A-1D是本文描述的示例实施例100的概要图。图1A示出了在光谱仪的暗态期间确定暗态基线校准值的示例,其中光谱仪光源(例如,光谱仪内部的光源,或设置在光谱仪的传感器和光谱仪的扩散器之间的光源)和外部光源被停用。图1B示出确定亮态基线校准的示例,其中光谱仪光源被激活,并且外部光源被停用。图1C示出了基于亮态基线校准的测量的示例。最后,图1D示出了更新的亮态基线校准值的确定,其可以用于校准光谱仪的测量。在图1A-1D中,未示出控制装置。在一些实施例中,可由控制装置进行关于图1A-1D描述的一个或多个操作。控制装置可以与光谱仪分开,可以包括在光谱仪中,或者可以以另一方式与光谱仪相关联。
图1A示出了光谱仪的暗态的示例。如图1A和附图标记105所示,在暗态下,光谱仪光源(例如,光谱仪的一个或多个灯)可以被停用。如附图标记110所示,与光谱仪相关联的外部光源在暗态下可以停用。如附图标记115所示,光谱仪可以确定暗态基线校准值。例如,光谱仪可以在两个光源均处于停用的同时确定暗态基线校准。以此方式,在不使用移动部件(诸如,机械标记等)的情况下确定暗态基线校准值。
图1B示出了确定用于光谱仪的亮态基线校准值的例子。如图1B和附图标记120所示,光谱仪光源可以被激活以用于确定亮态基线校准值。在这种情况下,来自光谱仪光源的光可以从扩散器125反射以呈现可重复的光状态,用于确定亮态基线校准值。如附图标记130所示,外部光源可以被停用以确定亮态基线校准值。如附图标记135所示,光谱仪可以基于光谱仪光源(例如,基于来自扩散器125的光谱仪光源的反射)来确定亮态基线校准值。这可以提供一种进行相对基线测定的可重复的方法,而无需使用移动部件、停止制造过程或测量过程、清洁测量系统或访问难以到达的测量位置。另外,或者替代地,该过程可以提供提高的测量精度,因为根据需要可以进行多次校准,以补偿热变化环境。
在一些实施例中,除了光谱仪光源之外,光谱仪还可以激活外部光源,以确定亮态基准校准值。这可以提供使用外部光源和光谱仪光源基于相对光谱测量而进行基线测定。在一些实施例中,光谱仪可以激活光谱仪光源而不是外部光源,来确定亮态基线校准值。这可以节约能量,并简化亮态基线校准值的确定。
图1C示出了基于基线校准值进行测量的示例。如图1C并且以附图标记140所示的,光谱仪可以停用光谱仪光源。如附图标记145所示,光谱仪可激活外部光源。如所示的,外部光源可以提供穿过透镜(例如,非球面透镜)到达样品窗口(例如比色杯等)的光。待测样品可以设置在样品窗口之间。光可以与样品相互作用,并且可以继续行进到扩散器。扩散器可以扩散光,以供光谱仪的传感器(未示出)进行测量。光谱仪可以基于基线校准值(诸如,暗态基线校准值和/或亮态基线校准值)进行测量。例如,光谱仪可以基于基线校准值确定对测量的调整。
图1D示出了使用亮态基线校准技术更新基线校准值的示例。如附图标记150所示,光谱仪可以确定更新亮态基线校准值。在一些实施例中,光谱仪可以周期性地(例如,以预定间隔)进行更新。在一些实施例中,光谱仪可以基于阈值(诸如阈值温度)、进行测量的阈值数量等等进行更新。
如附图标记155所示,光谱仪可激活光谱仪光源,以确定更新的亮态基线校准值。例如,光谱仪可以激活光谱仪光源,以将源自光谱仪光源的光反射离开扩散器并且反射回到传感器。光谱仪可以基于反射光来确定更新的亮态基线校准值。以这种方式,光谱仪更新基线校准值,而不使用诸如机械标记等的移动部件来进行校准。
如附图标记160所示,光谱仪可以停用外部光源,以更新亮态基线校准值。在一些实施例中,如上面结合图1B更详细描述的,光谱仪可以在外部光源处于激活的同时确定亮态基线校准值。
通过这种方式,可以使用光谱仪光源来校准透射光谱仪,以保持适合最终用户应用的光谱性能水平。这可以有助于减轻温度对传感器的影响,并且可以允许使用先前由于随着时间的热限制而未被选择的传感器。此外,本文描述的一些实施例可以不使用具有移动部件(诸如校准标记)的机械装置来执行这种校准。例如,本文描述的一些实施例可以是单片的,和/或可以仅使用光谱仪的光源和测量部件的激活或停用。因此,实现了一种对于测量过程透明并且不需要中断制造过程的光谱仪的校准。
如上所述,图1A-1D仅作为示例提供。其它示例是可行的,并且可以不同于关于图1A-1D所描述的示例。例如,图1A-1D中描述的操作可以针对光谱仪之外的装置进行。
图2是其中可以实现本文描述的系统和/或方法的示例环境200的图。如图2所示,环境200可以包括控制装置210、光谱仪220和网络230。环境200的装置可以经由有线连接、无线连接或有线连接和无线连接的组合来互连。
控制装置210包括能够存储、处理和/或路由与光谱校准相关联的信息的一个或多个装置。例如,控制装置210可以包括服务器、计算机、可佩戴装置、云计算装置等。在一些实施例中,控制装置210可存储、处理和/或确定与光谱仪220的基线相关联的信息。在一些实施例中,控制装置210可以校准光谱仪220,和/或基于光谱仪220的基线确定测量。在一些实施例中,控制装置210可以与特定的光谱仪220相关联。在一些实施例中,控制装置210可以与多个光谱仪220相关联。在一些实施例中,控制装置210可以是光谱仪220的部件。在一些实施例中,控制装置210可以从环境200中的另一个装置(诸如光谱仪220)接收信息和/或将信息传输到该另一个装置。
光谱仪220包括能够对样品进行光谱测量的一个或多个装置。例如,光谱仪220可以包括进行光谱分析的光谱仪装置(例如振动光谱分析,诸如近红外(NIR)光谱仪,中红外光谱分析(mid-IR),拉曼光谱分析等等)。在一些实施例中,光谱仪220可以包括透射光谱仪,如下面结合图4更详细描述的。在一些实施例中,光谱仪220可以结合到可佩戴装置中,诸如可佩戴光谱仪等等。在一些实施例中,光谱仪220可以从环境200中的另一装置(诸如控制装置210)接收信息和/或将信息传输到该另一装置。
网络230可以包括一个或多个有线网络和/或无线网络。例如,网络230可以包括蜂窝网络(例如,长期演进(LTE)网络,3G网络,码分多址访问(CDMA)网络等)、公共陆地移动网络(PLMN)、局域网(LAN)、广域网(WAN)、城域网(MAN)、电话网络(例如,公共交换电话网络(PSTN))、专用网络、自组(ad hoc)网络、内联网、互联网、基于光纤的网络、云计算网络等等,和/或这些或其它类型的网络的组合。
图2中所示的装置和网络的数量和布置作为示例提供。在实践中,与图2中所示的那些相比,可能存在额外的装置和/或网络、更少的装置和/或网络、不同的装置和/或网络或不同布置的装置和/或网络。此外,图2中示出的两个或更多个装置可以在单个装置内实现,或者图2中示出的单个装置可以实现为多个分布的装置。另外或替代地,环境200的一组装置(例如,一个或多个装置)可以进行被描述为由环境200的另一组装置执行的一个或多个功能。
图3是装置300的示例部件的图。装置300可以对应于控制装置210和/或光谱仪220。在一些实施例中,控制装置210和/或光谱仪220可以包括一个或多个装置300和/或装置300的一个或多个部件。如图3所示,装置300可以包括总线310、处理器320、存储器330、存储部件340、输入部件350、输出部件360和通信接口370。
总线310包括允许装置300的部件之间进行通信的部件。处理器320以硬件、固件、或硬件和软件的组合来实现。处理器320是中央处理单元(CPU)、图形处理单元(GPU)、加速处理单元(APU)、微处理器、微控制器、数字信号处理器(DSP)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)或其它类型的处理部件。在一些实施例中,处理器320包括能够被编程为执行功能的一个或多个处理器。存储器330包括随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)和/或存储供处理器320使用的信息和/或指令的另一类型的动态或静态存储装置(例如,闪存,磁存储器和/或光存储器)。
存储部件340存储与装置300的操作和使用有关的信息和/或软件。例如,存储部件340可以包括硬盘(例如,磁盘、光碟、磁光盘和/或固态盘)、光盘(CD)、数字多功能光盘(DVD)、软盘、盒式磁带、磁带,和/或另一种类型的非暂态计算机可读介质以及对应的驱动器。
输入部件350包括允许装置300例如诸如用户输入接收信息的部件(例如,触摸屏显示器,键盘,小键盘,鼠标,按钮,开关和/或麦克风)。另外地或替代地,输入部件350可以包括用于感测信息的传感器(例如,全球定位系统(GPS)部件,加速度计,陀螺仪和/或致动器)。输出部件360包括提供来自装置300的输出信息的部件(例如,显示器,扬声器和/或一个或多个发光二极管(LED))。
通信接口370包括使得装置300能够例如经由有线连接、无线连接、或有线和无线连接的组合与其它装置通信的类似收发器的部件(例如,收发器和/或单独的接收器和发射器)。通信接口370可以允许装置300接收来自另一装置的信息和/或向另一装置提供信息。例如,通信接口370可以包括以太网接口、光学接口、同轴接口、红外接口、射频(RF)接口、通用串行总线(USB)接口、Wi-Fi接口、蜂窝网络接口等。
装置300可以执行本文描述的一个或多个过程。装置300可以基于处理器320执行这些处理,该处理器320执行由诸如存储器330和/或存储部件340的非暂态计算机可读介质存储的软件指令。计算机可读介质在本文中被定义为非暂态存储器装置。存储器装置包括在单个物理存储装置内的存储器空间,或跨多个物理存储装置分布的存储器空间。
软件指令可以经由通信接口370从另一个计算机可读介质或者从另一个装置读取到存储器330和/或存储部件340中。当被执行时,存储在存储器330和/或存储部件340中的软件指令可以使处理器320进行本文描述的一个或多个处理。另外地或替代地,可以使用硬连线电路来代替软件指令或与软件指令结合,以执行本文描述的一个或多个处理。因此,本文描述的实施例不限于硬件电路和软件的任何特定组合。
图3中所示的部件的数量和布置作为示例提供。实际上,与图3中所示的那些相比,装置300可以包括附加的部件、更少的部件、不同的部件或不同布置的部件。另外或替代地,装置300的一组部件(例如,一个或多个部件)可以进行被描述为由装置300的另一组部件进行的一个或多个功能。
图4是本文描述的透射光谱仪系统400的部件的概要图。如图所示,透射光谱仪系统400可以包括传感器410、光谱仪光源420、扩散器430、处理窗口440、外部光源450和/或透镜460。在一些实施例中,透射光谱仪系统400可以包括控制装置210和/或光谱仪220。
传感器410包括用于基于经由样品透射的光(例如,由外部光源450传输的光)进行关于样品的光谱分析的传感器。在一些实施例中,传感器410可以接收由光谱仪光源420产生的光,诸如由扩散器430反射的光。在一些实施例中,传感器410可以基于校准值(例如,亮态基线校准值和/或暗态基线校准值)进行测量。
光谱仪光源420包括透射光谱仪系统400的一个或多个灯。光谱仪光源420可以生成光,以用于确定亮态基准校准值。光谱仪光源420产生的光可以反射离开扩散器430并返回到传感器410。通过使用光谱仪光源420进行亮态校准,不需要中断与样品(例如,在处理窗口440之间流动的样品)相关联的流动。这可能会提高基线测定的频率,从而提高测量精度和使得能够在更加可变的温度条件下使用透射光谱仪系统400。
扩散器430包括扩散经扩散器430反射或传输的光的部件。在一些实施例中,扩散器430可以阻止或减少提供给传感器410的光的空间含量或光谱含量(例如,寄生或非相干光谱特征)。在一些实施例中,扩散器430可以包括聚四氟乙烯(PTFE),这与其它材料相比可以降低扩散器430的成本。在一些实施例中,扩散器430可以包括可以增大扩散器430的光谱范围的另一种材料,诸如聚苯乙烯。在一些实施例中,扩散器430可以包括全息扩散器、磨砂表面等等。在一些实施例中,扩散器430可以位于距离处理窗口440中的最近处理窗口大约2mm至大约5mm范围内。
处理窗口440可以使用外部光源450部分地或完全地包围要对其进行透射光谱分析的样品。例如,处理窗口440可以包括比色杯或类似的外壳(例如,用于保持液体样品的光学透明容器)。在一些实施例中,处理窗口440可以封闭流动的样品。例如,要由透射光谱仪系统400测量的样品可以处于流动状态。在这种情况下,使用光谱仪光源420进行基线校准的能力可以是特别有价值的,因为中断样品的流动状态可能是昂贵的并且是不希望的。
外部光源450包括用于对样品进行透射光谱分析的一个或多个灯。在一些实施例中,外部光源450可以被包括在透射光谱仪系统400中。在一些实施例中,外部光源450可以与透射光谱仪系统400分开。在一些实施例中,外部光源450可以由控制装置(例如,控制装置210)和/或光谱仪(例如,光谱仪220、透射光谱仪系统400等)来控制。由外部光源450产生的光可以经由透镜460(例如,非球面透镜)穿过处理窗口440内的样品。透镜460可以聚焦和/或准直来自外部光源450的光。由外部光源450产生的光可以由扩散器430扩散,并且可以由传感器410感测。透射光谱仪系统400(例如,和/或与透射光谱仪系统400相关联的控制装置)可以基于由外部光源450产生的光以及基于使用光谱仪光源420确定的亮态基线校准值确定测量。在一些实施例中,外部光源450可以包括实心光管,如阴影圆柱所示。
图4中所示的部件的数量和布置作为示例提供。实际上,与图4中所示的那些相比,透射光谱仪系统400可以包括附加部件、更少的部件、不同部件或不同布置的部件。另外或替代地,透射光谱仪400的一组部件(例如,一个或多个部件)可以进行被描述为由透射光谱仪系统400的另一组部件执行的一个或多个功能。
图5是用于确定基线校准值并且基于基线校准值校准透射光谱仪的示例过程500的流程图。在一些实施例中,图5的一个或多个过程块可以由控制装置210进行。在一些实施例中,图5的一个或多个过程块可以由与控制装置210分开或包括控制装置210的另一个装置或一组装置(诸如光谱仪220或不同装置)进行。
如图5所示,过程500可以包括在外部光源和光谱仪光源处于未被激活的同时确定第一基线校准值(框510)。例如,控制装置210(例如,使用处理器320、通信接口370等)可以在外部光源(例如外部光源450)和光谱仪光源(例如,光谱仪光源420)处于未被激活的同时确定第一基线校准值。在一些实施例中,第一基线校准值可以是暗态基线校准值。如下面更详细描述的,控制装置210可以使用第一基线校准值和第二基线校准值(下面描述)进行样品的测量。
如图5进一步所示,过程500可以包括在光谱仪光源处于激活的同时确定第二基线校准值(框520)。例如,控制装置210(例如,使用处理器320、通信接口370等)可以在光谱仪光源处于激活的同时确定第二基线校准值。第二基线校准值可以是本文其它地方描述的亮态基线校准值。在一些实施例中,控制装置210可以在外部光源处于停用的同时确定第二基线校准值,如本文其它地方更详细描述的。另外地或替代地地,控制装置210可以在外部光源处于激活的同时确定第二基线校准值,如也在本文其它地方更详细描述的。控制装置210可以使用从光谱仪220的参考点(诸如光谱仪220或透射光谱仪系统400的扩散器430)反射的光来确定第二基线校准值,这降低或消除了对用于基线测定的机械部件(诸如基线标记等等)的需求。因此,可以在无光谱仪的机械部件(诸如机械标记或用于校准的类似参考点)的情况下进行基线测定。
如图5进一步所示,过程500可以包括基于第一基线校准值和/或第二基线校准值进行测量(框530)。例如,控制装置210(例如,使用处理器320、通信接口370等)可以通过激活外部光源(例如,并且允许外部光源稳定)使用光谱仪的传感器(例如,传感器410)进行测量。控制装置210可以基于第一基线校准值和/或第二基线校准值进行测量。例如,当控制装置210已经确定了暗态基线校准值和亮态基线校准值时,控制装置210可以使用暗态基线校准值和亮态基线校准值进行测量。当控制装置210已经确定了亮态基线校准值而不是暗态基线校准值时,控制装置210可以使用亮态基线校准值进行测量。在一些实施例中,控制装置210可以停用光谱仪光源以进行测量,这可以降低由于来自光谱仪光源的光而对测量的干扰。
如图5进一步所示,过程500可以包括确定要更新第二基线校准值(框540)。例如,控制装置210(例如,使用处理器320、通信接口370等)可以确定要更新第二基线校准值(例如,亮态基线校准值)。在一些实施例中,控制装置210可以基于阈值确定要更新第二基线校准值,诸如基于阈值温度变化、自从上次更新第二基线校准值的阈值时间长度、测量值与预期值或先前值的阈值偏差等等。在一些实施例中,控制装置210可以基于输入(诸如,用以触发第二基线校准值的更新的用户输入)来确定要更新第二基线校准值。
如图5进一步所示,过程500可以包括激活光谱仪光源,并且在光谱仪光源处于激活的同时更新第二基线校准值(框550,并且返回到框520)。例如,控制装置210(例如,使用处理器320、通信接口370等)可以已经停用光谱仪光源,以进行样品的测量。控制装置210可以重新激活光谱仪光源以更新第二基线校准值。例如,控制装置210可以重新激活光谱仪光源,使得来自光谱仪光源的光从扩散器反射到传感器,由此使得能够在不使用诸如基线测定标志的机械器件的情况下对光谱仪220进行基线测定,这减少了测量费用并且使得能够在难以到达的地方实施光谱仪,而这本可能因关于光谱仪对于解决带有机械器件的问题的可通达性(accessibility)的顾虑受到了妨碍。此外,使用光谱仪光源更新基线测定可能需要对待测量样本的流动状态的较少中断(或不中断),这可以减少花费并提供可行的基线测定频率。与不能频繁地进行基线测定的光谱仪相比,这反过来可以使得能够在更加可变的温度条件下使用光谱仪。
虽然图5示出了过程500的示例框图,但在一些实施例中,与图5中描绘的那些相比,过程500可以包括附加的框、更少的框,不同的框或不同布置的框。另外或者替代地,过程500的两个或更多个框可以并行进行。
通过这种方式,可使用光谱仪光源(例如,光谱仪光源420)来校准透射光谱仪(例如,光谱仪220或透射光谱仪系统400),以保持适合最终用户应用的光谱性能水平。这可以帮助减轻温度对传感器(例如,传感器410)的影响,并且可以允许使用先前由于随着时间的热限制而未被选择的传感器。此外,本文描述的一些实施例可以不使用机械部件进行这种校准。例如,本文描述的一些实施例可以是单片的和/或可以仅使用光源(例如,光谱仪光源420和/或外部光源450)的激活或停用。因此,实现了对测量过程透明并且不需要中断制造过程的光谱仪的校准。
所述的公开内容提供了例示和描述,但并不意图于是穷举性的或将实施例局限于所公开的精确形式。可以根据以上公开内容进行修改和变化,或者根据实施例的实践获得修改和变化。
本文中结合阈值描述了一些实施例。如本文所使用的,满足阈值可以指的是值大于阈值、超过门槛、高于阈值、大于或等于阈值、小于阈值、少于阈值、低于阈值、小于或等于阈值、等于阈值等。
显而易见的是,本文所描述的系统和/或方法可以以不同形式的硬件、固件、或者硬件和软件的组合来实现。用于实现这些系统和/或方法的实际专用控制硬件或软件代码不是对实施例的限制。因此,本文描述了系统和/或方法的操作和特性,而没有参考具体的软件代码——应该理解的是,软件和硬件可以被设计为基于本文描述来实现系统和/或方法。
尽管在权利要求中列举和/或在说明书中公开了特征的特定组合,但这些组合并不意图限制可行实施例的公开。实际上,这些特征中的许多特征可以以未在权利要求中具体列举和/或在说明书中公开的方式进行组合。尽管下面列出的每个从属权利要求可以仅直接依赖于一项权利要求,但可行实施例的公开内容包括每个从属权利要求与权利要求集合中的每个其它权利要求的组合。
如本文所使用的,除非另有说明,否则术语“或”意味着(或等同于)“和/或”。换句话说,如本文使用的,除非另有明确说明(例如,当“或”与“…中的任一个”结合使用时),否则术语“或”是包含性的“或”。
除非明确这样描述,否则本文使用的任何元件、行为或指令都不应被解释为关键或必要的。而且,如本文所使用的,冠词“一”旨在包括一个或多个项,并且可以与“一个或多个”互换使用。此外,如本文所使用的,术语“组(集合)”意图包括一个或多个项(例如,相关项、不相关项、相关项和不相关项的组合等),并且可以与“一个或多个”互换使用。如果只有一项,则使用量词术语“一个”或类似的语言。而且,如本文所使用的,术语“具有”等意图是开放式术语。此外,除非另有明确说明,否则短语“基于”意图表示“至少部分地基于”。

Claims (20)

1.通过装置进行的方法,包括:
使用来自第一光源的光确定用于光谱仪的校准值,
其中所述第一光源在所述光谱仪的内部;
在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;
基于所述校准值并且在停用所述第一光源之后执行样品的测量,
其中使用来自第二光源的光进行所述样品的测量;
确定要更新所述校准值;
基于确定要更新所述校准值而激活所述第一光源;并且
在激活所述第一光源之后,使用来自所述第一光源的光更新所述校准值。
2.根据权利要求1所述的方法,其中来自所述第一光源的光从所述光谱仪的扩散器反射到所述光谱仪的传感器。
3.根据权利要求2所述的方法,其中来自所述第二光源的光经由所述扩散器传输到所述传感器。
4.根据权利要求1所述的方法,其中停用所述第二光源,以确定或更新所述校准值。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述第二光源在所述光谱仪的外部。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述校准值是第一校准值,并且其中所述方法还包括:
在所述第一光源和所述第二光源处于停用的同时,确定第二校准值,
其中基于所述第二校准值进行所述测量。
7.根据权利要求1所述的方法,其中在无所述光谱仪的机械部件的操作的情况下,确定所述校准值和更新所述校准值。
8.根据权利要求1所述的方法,其中在不中断所述样品的流动状态的情况下,确定所述校准值和更新所述校准值。
9.一种装置,包括:
存储器;和
一个或多个处理器,所述一个或多个处理器联接到所述存储器,并且所述存储器和所述一个或多个处理器配置成:
使用从所述光谱仪的第一光源反射到所述光谱仪的传感器的光确定用于所述光谱仪的校准值,
其中所述光从所述光谱仪的扩散器反射到所述传感器;
在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;
基于所述校准值并且在停用所述第一光源之后,进行样品的测量,
其中使用经由所述扩散器接收到的来自第二光源的光进行所述样品的测量;
确定要更新所述校准值;
基于确定要更新所述校准值而激活所述第一光源;和
在激活所述第一光源之后使用来自所述第一光源的光更新所述校准值。
10.根据权利要求9所述的装置,其中所述装置被包括在所述光谱仪中或者与所述光谱仪相关联。
11.根据权利要求10所述的装置,其中所述光谱仪是透射光谱仪。
12.根据权利要求9所述的装置,其中所述扩散器包括聚四氟乙烯(PTFE)或聚苯乙烯中的至少一种。
13.根据权利要求9所述的装置,其中所述扩散器是全息扩散器。
14.根据权利要求9所述的装置,其中在无所述光谱仪的机械部件的操作的情况下,确定并更新所述校准值。
15.根据权利要求9所述的装置,其中在确定要更新所述校准值时,所述一个或多个处理器配置成:
基于阈值被满足而确定要更新所述校准值,
其中所述阈值涉及温度变化或时间长度中的至少一个。
16.根据权利要求9所述的装置,其中所述校准值周期性地更新。
17.一种非暂态计算机可读介质,存储一个或多个指令,所述一个或多个指令包括:
一个或多个指令,其在由光谱仪的一个或多个处理器执行时使所述一个或多个处理器进行如下操作:
使用来自第一光源的光确定用于所述光谱仪的校准值;
在确定所述校准值之后,停用所述第一光源;
基于所述校准值并且在停用所述第一光源之后,进行关于样品的测量,
其中使用来自第二光源的光进行所述样品的测量;
确定要更新所述校准值;以及
使用来自所述第一光源的光更新所述校准值。
18.根据权利要求17所述的非暂态计算机可读介质,其中所述一个或多个指令在由所述一个或多个处理器执行时还使得所述一个或多个处理器:
在更新所述校准值之前,重激活所述第一光源。
19.根据权利要求17所述的非暂态计算机可读介质,其中使所述一个或多个处理器确定所述校准值的所述一个或多个指令使得所述一个或多个处理器:
在所述第二光源处于激活的同时确定所述校准值。
20.根据权利要求17所述的非暂态计算机可读介质,其中所述校准值是第一校准值,并且
其中所述一个或多个指令在由所述一个或多个处理器执行时使得所述一个或多个处理器:
在所述第一光源和所述第二光源处于停用的同时,确定第二校准值,
其中基于所述第二校准值进行所述测量。
CN201810386716.8A 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准 Active CN108801937B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110348263.1A CN113092389A (zh) 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762490445P 2017-04-26 2017-04-26
US62/490,445 2017-04-26
US15/937,177 US10663344B2 (en) 2017-04-26 2018-03-27 Calibration for an instrument (device, sensor)
US15/937,177 2018-03-27

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110348263.1A Division CN113092389A (zh) 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108801937A true CN108801937A (zh) 2018-11-13
CN108801937B CN108801937B (zh) 2021-03-26

Family

ID=62067360

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810386716.8A Active CN108801937B (zh) 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准
CN202110348263.1A Pending CN113092389A (zh) 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110348263.1A Pending CN113092389A (zh) 2017-04-26 2018-04-26 仪器的校准

Country Status (4)

Country Link
US (3) US10663344B2 (zh)
EP (1) EP3396357A1 (zh)
CN (2) CN108801937B (zh)
HK (2) HK1255919A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10663344B2 (en) 2017-04-26 2020-05-26 Viavi Solutions Inc. Calibration for an instrument (device, sensor)
KR20210142304A (ko) * 2020-05-18 2021-11-25 삼성전자주식회사 광학센서의 캘리브레이션 방법과, 광학센서 및 생체정보 추정 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6067156A (en) * 1997-05-16 2000-05-23 Kaiser Optical Systems Wavelength calibration and tracking methods and apparatus
US20080212092A1 (en) * 2007-01-31 2008-09-04 Konica Minolta Sensing, Inc. Wavelength displacement correcting system
CN104215579A (zh) * 2010-10-21 2014-12-17 光学传感器公司 具有验证单元的光谱仪
CN104364635A (zh) * 2012-03-23 2015-02-18 光谱传感器公司 在光谱分析仪中使用实时或近实时验证的碰撞展宽补偿
US20160377481A1 (en) * 2015-06-24 2016-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Spectrometer and apparatus for monitoring light-shielded state

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1055973A1 (ru) * 1982-04-30 1983-11-23 Институт Океанологии Им.П.П.Ширшова Ан Ссср Спектрофотометр
JPH0688749A (ja) * 1992-09-05 1994-03-29 Horiba Ltd 分光器
JPH09325204A (ja) * 1996-05-31 1997-12-16 Sony Corp 光学フィルタ、それを使用した画像表示装置および液晶表示素子
US5835230A (en) * 1997-07-10 1998-11-10 American Air Liquide Inc. Method for calibration of a spectroscopic sensor
US6781691B2 (en) * 2001-02-02 2004-08-24 Tidal Photonics, Inc. Apparatus and methods relating to wavelength conditioning of illumination
US6963399B2 (en) * 2001-10-18 2005-11-08 Cargill Robert L Method and apparatus for quantifying an “integrated index” of a material medium
JP3702889B2 (ja) 2003-08-21 2005-10-05 コニカミノルタセンシング株式会社 分光装置及び分光装置の補正方法
US7403281B2 (en) * 2004-05-07 2008-07-22 University Of Wyoming Raman spectrometer
JP4653972B2 (ja) * 2004-06-11 2011-03-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ イオントラップ/飛行時間型質量分析装置および質量分析方法
US7193701B2 (en) * 2004-08-06 2007-03-20 Mark Howard L Gray optical standard
EP1836463A1 (en) * 2004-12-21 2007-09-26 FOSS Analytical A/S A method for standardising a spectrometer
GB2424696A (en) 2005-03-29 2006-10-04 Spectrum Medical Llp Spectrometer fault detection using optical reference source
US20070161876A1 (en) * 2005-11-18 2007-07-12 Spectrx, Inc. Method and apparatus for rapid detection and diagnosis of tissue abnormalities
US8059526B2 (en) * 2009-03-23 2011-11-15 Lsi Corporation N+1 protection using a processor-based protection device
JP5534046B2 (ja) 2011-02-17 2014-06-25 コニカミノルタ株式会社 分光特性測定装置、分光特性測定装置の補正方法、およびプログラム
US10247605B2 (en) * 2012-01-16 2019-04-02 Filmetrics, Inc. Automatic real-time wavelength calibration of fiber-optic-based spectrometers
JP2013232152A (ja) * 2012-05-01 2013-11-14 Ps4 Luxco S A R L 制御デバイス、メモリシステムおよびメモリモジュール
US8908166B2 (en) * 2012-12-20 2014-12-09 Schlumber Technology Corporation Methods and apparatus for downhole fluid analysis
CN104101431B (zh) * 2014-07-09 2016-08-24 无锡创想分析仪器有限公司 全谱直读式光谱仪线阵传感器校准方法和系统
US9188486B1 (en) * 2014-08-11 2015-11-17 Datacolor Holding Ag System and method for compensating for second order diffraction in spectrometer measurements
US11384637B2 (en) * 2014-11-06 2022-07-12 Schlumberger Technology Corporation Systems and methods for formation fluid sampling
US10801950B2 (en) * 2015-09-01 2020-10-13 Apple Inc. Reference switch architectures for noncontact sensing of substances
CN106546533B (zh) * 2015-09-20 2019-12-10 大连世佩达光谱智能检测科技有限公司 一种用全孔径角抛物镜收集表面增强拉曼散射光谱的设备
US9535053B1 (en) 2016-02-04 2017-01-03 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
US10088468B2 (en) * 2016-02-04 2018-10-02 Nova Biomedical Corporation Analyte system and method for determining hemoglobin parameters in whole blood
CN105910705B (zh) * 2016-06-08 2018-03-13 青岛杰生电气有限公司 用于紫外光谱仪的校准光源、方法和校准光源
US10663344B2 (en) 2017-04-26 2020-05-26 Viavi Solutions Inc. Calibration for an instrument (device, sensor)

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6067156A (en) * 1997-05-16 2000-05-23 Kaiser Optical Systems Wavelength calibration and tracking methods and apparatus
US20080212092A1 (en) * 2007-01-31 2008-09-04 Konica Minolta Sensing, Inc. Wavelength displacement correcting system
CN104215579A (zh) * 2010-10-21 2014-12-17 光学传感器公司 具有验证单元的光谱仪
CN104364635A (zh) * 2012-03-23 2015-02-18 光谱传感器公司 在光谱分析仪中使用实时或近实时验证的碰撞展宽补偿
US20160377481A1 (en) * 2015-06-24 2016-12-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Spectrometer and apparatus for monitoring light-shielded state

Also Published As

Publication number Publication date
CN108801937B (zh) 2021-03-26
EP3396357A1 (en) 2018-10-31
US20200284655A1 (en) 2020-09-10
HK1255919A1 (zh) 2019-09-06
US11137288B2 (en) 2021-10-05
US20220003600A1 (en) 2022-01-06
US10663344B2 (en) 2020-05-26
US11674846B2 (en) 2023-06-13
US20180313690A1 (en) 2018-11-01
CN113092389A (zh) 2021-07-09
HK1262381A1 (zh) 2020-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11442004B2 (en) Light pipe for spectroscopy
US11719628B2 (en) Cross-validation based calibration of a spectroscopic model
KR20150037977A (ko) 이중 분광계
JPWO2016088568A1 (ja) 分光測定装置および分光測定方法
EP3614352A3 (en) Multispectral sensor based alert condition detector
US11674846B2 (en) Calibration for an instrument (device, sensor)
NO951021D0 (no) Kalibrering av spektroskopisk instrument
US20190204220A1 (en) Optical sensor, and apparatus and method for measuring absorbance using the same
KR102323212B1 (ko) 위치 변동을 보상할 수 있는 분광 시스템 및 이를 이용한 분광 방법
US11852531B2 (en) Sensor device and method of use
US20230288255A1 (en) Calibration for an instrument (device, sensor)
KR102627145B1 (ko) 스펙트럼 측정 장치 및 방법
Scaccabarozzi et al. Infrared thermometers for small wires drawing
Shah et al. Development and characterization of NDIR-based CO2 sensor for manned space missions
US20210404951A1 (en) Sensor device
US20210033460A1 (en) Sensor device
KR101911025B1 (ko) 스마트기기를 이용한 광학분석장치 및 이의 광학분석방법
TWI838266B (zh) 光學系統和光管
Litorja et al. Radiometric Calibration to consider in quantitative clinical fluorescence imaging measurements
Wawrzyniuk et al. Compact dual-band FTIR spectrometer for atmosphere monitoring
Mikheenko et al. Precise prelaunch radiometric calibration of VIIRs
UA117402U (uk) Датчик для визначення якості зерна

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: DE

Ref document number: 1262381

Country of ref document: HK

SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant