CN108776364A - 金属线栅偏光片的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：提供一玻璃基板；在玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；在第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；对光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，光阻图案层包括第一图案部分以及设于第一图案部分之间的第二图案部分；去除第二图案部分以露出第一非金属薄膜；以第一图案部分为掩膜湿法刻蚀第一非金属薄膜以在玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线；在第一图案部分与玻璃基板上沉积金属薄膜；剥离位于非金属线上的第一图案部分与金属薄膜以得到位于数条非金属线之间的金属线。本发明解决了金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。
Description
技术领域
本发明涉及偏光片技术领域，特别涉及一种金属线栅偏光片的制作方法。
背景技术
在显示技术的制造领域中，目前对金属线栅偏光片的制备方法主要包括如下主要步骤：在玻璃基板上沉积金属薄膜，在金属薄膜上沉积光阻层，以光阻层为掩膜干法刻蚀金属薄膜得到金属线，金属线与玻璃基板形成金属线栅偏光片。但是在此方法中，金属薄膜过早地沉积，沉积后的金属薄膜过早地暴露在空气中，金属薄膜与空气接触的时间过长，容易发生腐蚀，进而金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高。
发明内容
本发明的目的在于提供一种金属线栅偏光片的制作方法，以解决金属薄膜与空气接触的时间过长，金属薄膜刻蚀后形成的金属线发生腐蚀的概率较高的技术问题。
本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：
提供一玻璃基板；
在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；
在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；
对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；
去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；
以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；
在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；
剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。
其中，所述剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线的步骤之后还包括在所述金属线与所述非金属线上沉积第二非金属薄膜。
其中，沉积所述第一非金属薄膜与所述第二非金属薄膜的方法为化学气相沉积。
其中，沉积所述金属薄膜的方法为物理气相沉积。
其中，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜均为透明薄膜，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。
其中，所述第一非金属薄膜的厚度为100nm-500nm。
其中，所述第一图案部分的厚度为100-200nm；所述第二图案部分的厚度为10-50nm。
其中，所述第一图案部分与所述第一间隙的宽度相等。
其中，所述金属薄膜的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。
其中，所述物理气相沉积的方法包括热蒸镀。
综上所述，本发明的金属线栅偏光片的制作方法中，加入了所述第一非金属薄膜的沉积，所述第一非金属薄膜湿法刻蚀后，形成数条所述非金属线，数条所述非金属线之间形成所述第二间隙，所述金属线由沉积在所述第二间隙内的所述金属薄膜所形成，进而所述金属线被所述非金属线所保护，降低了所述金属线被腐蚀的概率；且所述金属薄膜沉积的步骤比较靠后，进而所述金属薄膜暴露的时间较晚，减少了所述金属线与空气的接触时间，降低了所述金属线被腐蚀的概率。因此，本发明的所述金属薄的沉积时间与所述非金属线对所述金属线的保护作用的综合作用降低了所述金属线发生腐蚀的概率，提高了所述金属线栅偏光片的使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的金属线栅偏光片的制作方法的流程示意图。
图2是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤1示意图。
图3是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤2示意图。
图4是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤3示意图。
图5是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤4示意图。
图6是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤5示意图。
图7是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤6示意图。
图8是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤7示意图。
图9是图1中金属线栅偏光片的制作方法的步骤8示意图。
图10是在图9形成的金属线栅偏光片上沉积第二非金属薄膜的步骤示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种金属线栅偏光片的制作方法，包括：
步骤1，如图2所示，提供一玻璃基板10。
步骤2，如图3所示，在所述玻璃基板10上沉积第一非金属薄膜30。具体为，本步骤采用化学气相沉积的方法在所述玻璃基板10上沉积所述第一非金属薄膜30。所述第一非金属薄膜30为透明薄膜，所述第一非金属薄膜30的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。所述第一非金属薄膜30的高度为100nm-500nm。
步骤3，如图4所示，在所述第一非金属薄膜30上沉积光阻材料层40。
步骤4，如图5所示，对所述光阻材料层40进行纳米压印得到光阻图案层50，所述光阻图案层50包括第一图案部分501以及设于所述第一图案部分501之间的第二图案部分502，所述第一图案部分501具有第一厚度，所述第二图案部分502具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度。具体为，本步骤采用所述纳米压印模板对所述光阻材料层40压印处理，得到光阻图案层50。所述第一图案部分501的厚度为100-200nm；所述第二图案部分502的厚度为10-50nm。
步骤5，如图6所示，去除所述第二图案部分502以露出所述第一非金属薄膜30，相邻两个所述第一图案部分501之间形成第一间隙503。在本步骤中，所述第一图案部分501与所述第一间隙503的宽度相等。宽度相等的所述第一图案部分501与所述第一间隙503可使后续的金属线601均匀设置。
步骤6，如图7所示，以所述第一图案部分501为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜30以在所述玻璃基板10上形成数条间隔设置的非金属线301，数条所述非金属线301之间形成第二间隙302，所述第一间隙503与所述第二间隙302的宽度相等。宽度相等的所述第一间隙503与所述第二间隙302可使后续的金属线601均匀沉积在所述第二间隙302内。
步骤7，如图8所示，在所述第一图案部分501与所述玻璃基板10上沉积金属薄膜60。具体为，本步骤采用物理气相沉积的方法在所述第一图案部分501与所述玻璃基板10上沉积所述金属薄膜60。所述物理气相沉积的方法优选为热蒸镀。所述金属薄膜60的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。
步骤8，如图9所示，剥离位于所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60以得到位于数条所述非金属线301之间的金属线601。在本步骤中，由于所述第二间隙302与所述第一间隙503的宽度相等，所述金属线601均匀等间隔设于所述第二间隙302中。所述金属线601与所述玻璃基板10形成所述金属线栅偏光片。
本发明的金属线栅偏光片的制作方法中，加入了所述第一非金属薄膜30的沉积，所述第一非金属薄膜30湿法刻蚀后，形成数条所述非金属线301，数条所述非金属线301之间形成所述第二间隙302，所述金属线601由沉积在所述第二间隙302内的所述金属薄膜60所形成，进而所述金属线601被所述非金属线301所保护，降低了所述金属线601被腐蚀的概率；且所述金属薄膜60沉积的步骤比较靠后，进而所述金属薄膜60暴露的时间较晚，减少了所述金属线601与空气的接触时间，降低了所述金属线601被腐蚀的概率。因此，本发明的所述金属薄膜60的沉积时间与所述非金属线301对所述金属线601的保护作用的综合作用降低了所述金属线601发生腐蚀的概率，提高了所述金属线栅偏光片的使用寿命。在本实施例中，所述金属薄膜60为透明薄膜，进而所述金属线601也为透明的，透明的所述非金属线301不会影响所述金属线栅偏光片的偏振效果。所述第一非金属薄膜30还具有较强的可塑性，能够形成较好的线栅图形，保证了所述金属线601具有较好的线栅效果。所述金属线601均匀等间隔设于所述玻璃基板10上，所述金属线栅偏光片具有较好的偏振效果。
进一步地，由于湿法刻蚀的选择性，进而在刻蚀过程中，刻蚀液只刻蚀所述第一非金属薄膜30，避免了刻蚀液对所述第一图案部分501的刻蚀，进而避免了由于干法刻蚀的选择比(金属薄膜的刻蚀速率/光阻材料层的刻蚀速率)较低，容易使得所述第一图案部分501被刻蚀殆尽，造成非刻蚀区的所述金属薄膜60被刻蚀，进而导致所述金属线601的关键尺寸偏小，所述金属线601的高度降低的问题，金属线栅偏光片的偏光效果极差的技术问题。
本发明中，如图10所示，所述剥离位于所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60以得到位于数条所述非金属线301之间的金属线601的步骤之后还包括在所述金属线601与所述非金属线301上沉积第二非金属薄膜70。由于所述金属线601沉积在所述第二间隙302中，所述金属线601的相对两侧被所述非金属线301保护；在剥离位于所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60后，所述金属线601与所述非金属线301上还沉积有所述第二非金属薄膜70，所述第二非金属薄膜70对所述金属线601的顶面也有了保护作用，进而所述金属线601的相对两侧与顶面均具有了保护作用，减少了所述金属线601与空气的接触时间，降低了所述金属线601腐蚀的概率，提高了所述金属线栅偏光片的使用寿命。在本实施例中，所述第二非金属膜70为透明薄膜，所述第二非金属膜70的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。且所述第二非金属膜70与所述第一非金属膜30的材质可以相同或不同。
因此，本发明的金属线栅偏光片的制作流程中，先通过在所述玻璃基板10上沉积所述第一非金属膜30，作为后续所述金属线601的保护前提，且在所述第一非金属膜30湿法刻蚀形成所述非金属线301，所述非金属线301之间形成第二间隙302后沉积所述金属薄膜60，所述非金属线301作为所述金属线601相对两侧的保护，同时还在剥离位于所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60后，在所述金属线601与所述非金属线301上还沉积有所述第二非金属薄膜70，所述第二非金属薄膜70作为所述金属线601顶面的保护，故而避免了由于传统的制作方法中首先在所述玻璃基板10上沉积所述金属薄膜60所导致的所述金属薄膜60与空气的接触时间太长，所述金属线601无保护薄膜所引起的金属薄膜60发生腐蚀概率较高的技术问题。故本发明的所述非金属线301在所述金属薄膜60沉积前期已经具备保护作用，所述金属薄膜60沉积在所述非金属线301之间形成的所述第二空隙302中，所述金属薄膜60的沉积时间较晚，且在剥离了所述非金属线301上的所述第一图案部分501与所述金属薄膜60后，在所述金属线601上又沉积有所述第二非金属薄膜70，所述第二非金属薄膜70具有保护作用，从而所述非金属线301、所述第二非金属薄膜70以及所述金属薄膜60的沉积时间较晚的综合作用实现了减少所述金属线601与空气的接触时间，降低了所述金属线601腐蚀的概率，提高了所述金属线栅偏光片的使用寿命。
以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分流程，并依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，包括：
提供一玻璃基板；
在所述玻璃基板上沉积第一非金属薄膜；
在所述第一非金属薄膜上沉积光阻材料层；
对所述光阻材料层进行纳米压印得到光阻图案层，所述光阻图案层包括第一图案部分以及设于所述第一图案部分之间的第二图案部分，所述第一图案部分具有第一厚度，所述第二图案部分具有第二厚度，所述第一厚度大于所述第二厚度；
去除所述第二图案部分以露出所述第一非金属薄膜，相邻两个所述第一图案部分之间形成第一间隙；
以所述第一图案部分为掩膜湿法刻蚀所述第一非金属薄膜以在所述玻璃基板上形成数条间隔设置的非金属线，数条所述非金属线之间形成第二间隙，所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等；
在所述第一图案部分与所述玻璃基板上沉积金属薄膜；
剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线。
2.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述剥离位于所述非金属线上的所述第一图案部分与所述金属薄膜以得到位于数条所述非金属线之间的金属线的步骤之后还包括在所述金属线与所述非金属线上沉积第二非金属薄膜。
3.根据权利要求2所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，沉积所述第一非金属薄膜与所述第二非金属薄膜的方法为化学气相沉积。
4.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，沉积所述金属薄膜的方法为物理气相沉积。
5.根据权利要求2所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜均为透明薄膜，所述第一非金属薄膜与所述第二非金属膜的材料包括一氧化硅、二氧化硅或氮化硅中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述第一非金属薄膜的厚度为100nm-500nm。
7.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述第一图案部分的厚度为100-200nm；所述第二图案部分的厚度为10-50nm。
8.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述第一图案部分与所述第一间隙的宽度相等。
9.根据权利要求1所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述金属薄膜的材料包括铝、银、铜或铬的一种或多种。
10.根据权利要求4所述的金属线栅偏光片的制作方法，其特征在于，所述物理气相沉积的方法包括热蒸镀。
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2018
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