CN108738222A - 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法 - Google Patents

一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法 Download PDF

Info

Publication number
CN108738222A
CN108738222A CN201810641656.XA CN201810641656A CN108738222A CN 108738222 A CN108738222 A CN 108738222A CN 201810641656 A CN201810641656 A CN 201810641656A CN 108738222 A CN108738222 A CN 108738222A
Authority
CN
China
Prior art keywords
attenuator
plasma
light intensity
intensity region
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810641656.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN108738222B (zh
Inventor
邹江林
李敏
王利达
肖荣诗
赵乐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing University of Technology
Original Assignee
Beijing University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing University of Technology filed Critical Beijing University of Technology
Priority to CN201810641656.XA priority Critical patent/CN108738222B/zh
Publication of CN108738222A publication Critical patent/CN108738222A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108738222B publication Critical patent/CN108738222B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature

Abstract

本发明涉及一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,具体为一种利用光在两片非平行衰减片间多次反射和透射,实现等离子体不同光强区域原位同步成像的观察方法。本发明方法基于等离子体辐射的光进入非平行的两面反射式衰减片中多次反射和透射,采用相机记录每一次透射的光。两面衰减片采用非平行方式的目的是分开每次反射和透射的位置,以便错开透射成像的位置;多次反射的目的是层层剥离低光强区域,留到最后的是高光强区域。采用该方法能够获得等离子体不同光强区域的清晰形貌。本发明适用于激光制造、电弧制造、激光电弧复合制造、核聚变等过程中等离子体的观察。

Description

一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成 像方法
技术领域
本发明涉及一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,具体为一种利用光在两片非平行衰减片间多次反射和透射,实现等离子体不同光强区域原位同步成像的观察方法。
背景技术
等离子体是激光制造、电弧制造、激光电弧复合制造、核聚变等过程中固有的物理现象。研究等离子体的特性行为,对揭示等离子体的物理性质及其对相关过程的影响规律均具有重要意义。例如,研究激光焊接等离子体或电弧焊接等离子体,对理解激光或电弧焊接物理过程及优化该焊接工艺具有重要的指导意义。等离子体的形态和温度是描述等离子体特性行为的主要方面,近年来的有关等离子体的研究基本围绕这两方面展开。
关于等离子体的形态,通常采用高速摄像、基于等离子体辐射的光强进行观测。然而,等离子体的温度很高,采用该方法进行观察容易产生炫光,干扰对等离子体的准确认识。关于等离子体的温度,普遍的研究手段是基于光谱仪诊断等离子体辐射的谱线进行计算。等离子体的温度分布不均匀,而光谱仪仅能够逐点间的测量,采用该方法也难以准确获得等离子体温度的空间分布规律。等离子体辐射的光强与其温度的分布具有紧密联系。可以通过高速摄像配置不同的衰减片,基于测量等离子体辐射光强分布区域,初步判断等离子体温度空间分布规律。然而,针对同一个等离子体,以现有的方法同一时刻只能判断一个分布区域。针对同一个等离子体,原位同时获得其不同光强分布区域的方法尚未见报道。
本发明方法基于等离子体辐射的光进入非平行的两面反射式衰减片中多次反射和透射,采用相机记录每一次透射的光。两面衰减片采用非平行方式的目的是分开每次反射和透射的位置,以便错开透射成像的位置;多次反射的目的是层层剥离低光强区域,留到最后的是高光强区域。采用该方法能够获得等离子体不同光强区域的清晰形貌。
发明内容
本发明的目的在于提供一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,适用于激光制造、电弧制造、激光电弧复合制造、核聚变等过程中等离子体的观察。
所述的一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其特征在于:采用两片等尺寸的反射式衰减片,衰减片的透光率为1%~99%,两片衰减片的透光率不同或者相同,透光波长为10~2000nm,衰减片间夹角为0.01~30°。
所述的一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其成像原理为:等离子体辐射的光进入第一片反射式衰减片,由于两片衰减片之间存在一定的夹角,光将在两衰减片中间发生一系列的透射和反射。每次经过第二片衰减片透射的光被镜头获得,将形成一系列等离子体的像。
衰减片具有不同的透光率,不同透光率的衰减片组合在一起,最后所成的像亮暗程度也不同。根据衰减片的透光率,可以计算出每一个像的透光率。假设第一个衰减片的透光率为a,第二片衰减片的透光率为b(a,b均<1)。经过第一个衰减片透射之后,再经过第二个衰减片透射,形成第一个像的透光率为:
T1=ab (1)
经过第一个衰减片透射之后,再经过第二个衰减片的反射,回到第一个衰减片再反射一次。第二次经第二个衰减片透射后,形成第二个像的透光率为:
T2=a(1-b)(1-a)b=ab(1-b)(1-a) (2)
同理,经过一次第一个衰减片的两次反射,再经过第二个衰减片的两次反射和一次透射之后,形成第三个像的透光率为:
T3=a(1-b)(1-a)(1-b)(1-a)b=ab(1-b)2(1-a)2 (3)
依此类推,理论上,在形成第n个像时,第n个像的透光率为:
Tn=ab(1-b)n-1(1-a)n-1 (4)
从公式可知,每成一次像,透光率都会逐渐降低,成像次数越多,仅有光强更强的区域才能够保留下来。
两片衰减片之间的夹角张角越大,像间的间距就会越大,镜头视野里所能拍到的像的个数就越少。假设两片衰减片之间的夹角为α,两衰减片之间的间距近似为d,则经过两片衰减片的透射形成的第一个像与经过两片衰减片的反射形成的第二个像的距离(此距离为两个像在刚出最后一片衰减片时的距离,不等于最后视野里像的实际距离):
D1=2dtan 2α (5)
经过两片衰减片的反射形成的第二个像与经过两片衰减片的反射形成的第三个像的距离:
D2=2dtan 4α (6)
经过两片衰减片的反射形成的第三个像与经过两片衰减片的反射形成的第四个像的距离:
D3=2dtan 6α (7)
依此类推,理论上,经过两片衰减片的反射形成的第n个像与经过两片衰减片的反射形成的第n+1个像的距离:
Dn=2dtan 2nα (8)
从公式可知,两片衰减片之间的夹角越大,像与像之间的间距就越大,镜头视野里所能拍到的像的个数就越少。
所述的一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其特征在于:采用的相机为CCD相机、或者COMS相机或者其它类型的相机。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明利用两片非平行反射式衰减片反射成像原理,可以同时观察到不同光强区域的等离子体的图像。激光制造、电弧制造、激光电弧复合制造、核聚变等过程中等离子体的观察。
附图说明
图1为本发明基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域多次成像的结构示意图。
图2为本实施例获得的激光电弧复合焊接等离子体多次成像的结果图。
图1中:1、靶材,2、激光致等离子体,3、电弧等离子体,4、激光束,5、聚焦镜,6、激光器,7、光路系统,8、焊枪,9、衰减片,10、衰减片,11、镜头,12、反射光路,13、高速摄像图像处理器,14、电脑输出端。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步说明,但本发明并不限于以下实施例。
图1为基于两面反射式衰减片的等离子体不同发光区域多次反射成像结构示意图,其中观察装置包括镜头11、衰减片9、衰减片10、高速摄像图像处理器13和电脑输出端14;靶材1上方产生的等离子体2和3辐射的光进入镜头11内部,镜头里放置了两片反射式衰减片9和10,两片衰减片之间存在一定的夹角;光在两衰减片中间会发生一系列的透射和反射,经衰减片10透射的像被镜头采集,经过高速摄像图像处理器13,最终传输到电脑输出端14,形成等离子体2和3的不同光强区域的像。由于等离子体2和3的温度很高、亮度很强,所以经过衰减片9和衰减片10的多次反射衰减之后,层层剥离低光强区域,逐渐获得等离子体2和3光强越来越高的区域。
本实施案例中,靶材为10mm厚的工业纯铁,实验采用的激光器为YLS-6000光纤激光器,其波长为1.07μm;保护气体为氩气;焊接工艺参数为:激光功率3kW,电弧电流150A,热源间距3mm,保护气流量15L/min,焊接速度2m/min,离焦量0mm,焦距300mm。衰减片的透光率分别为10%和50%,高速摄像拍摄帧数10000帧。图2为采用本方法获得的结果图,从图中我们可以看到获得了4个等离子体光强区域。
以上所述,仅为本发明一种具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭示的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

Claims (3)

1.一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其特征在于:非平行的两片反射式衰减片置于相机镜头前,等离子体辐射的光经第一片衰减片进入后,在衰减片间多次反射和透射,每次经第二片衰减片透射出的光被相机记录,获得一系列不同光强区域的等离子体像;衰减片的透光率为1%~99%,两片衰减片的透光率不同或者相同,透光波长为10~2000nm,衰减片间夹角为0.01~30°;通过改变两片衰减片间的夹角,调节像的间距;通过改变两片衰减片的透光率及其组合,调节像的明暗程度。
2.根据权利要求1所述的一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其特征在于:采用的相机为CCD相机、或者COMS相机机。
3.根据权利要求1所述的一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法,其特征在于:适用于激光加工领域、核聚变领域、激光电弧复合加工领域或电弧加工领域。
CN201810641656.XA 2018-06-21 2018-06-21 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法 Active CN108738222B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810641656.XA CN108738222B (zh) 2018-06-21 2018-06-21 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810641656.XA CN108738222B (zh) 2018-06-21 2018-06-21 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108738222A true CN108738222A (zh) 2018-11-02
CN108738222B CN108738222B (zh) 2020-08-21

Family

ID=63930216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810641656.XA Active CN108738222B (zh) 2018-06-21 2018-06-21 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108738222B (zh)

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0817573A (ja) * 1994-06-29 1996-01-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマアーク炉制御装置
CN1493857A (zh) * 2003-08-22 2004-05-05 中国科学院上海光学精密机械研究所 强激光脉冲光强分布测试系统
WO2008069272A1 (ja) * 2006-12-08 2008-06-12 Keio University 光弾性測定方法およびその装置
CN101441175A (zh) * 2007-11-19 2009-05-27 中国科学院理化技术研究所 基于激光扫面共聚焦显微系统的表面等离子共振检测装置
CN202854037U (zh) * 2012-09-10 2013-04-03 北京宝瑞光电科技有限公司 一体化激光诱导增强等离子体光谱采集系统
CN103712771A (zh) * 2013-12-04 2014-04-09 西安交通大学 一种发动机喷雾流场近场区光学诊断系统
CN105159044A (zh) * 2015-09-29 2015-12-16 南京理工大学 基于双波长数字全息技术的反射式显微成像装置
CN105824228A (zh) * 2016-03-15 2016-08-03 北京大学 一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜
CN205584603U (zh) * 2016-03-17 2016-09-14 中国工程物理研究院流体物理研究所 一种测量系统
CN106735797A (zh) * 2016-12-20 2017-05-31 上海交通大学 一种不对称动态电弧三维实时成像采集装置及方法
CN107991544A (zh) * 2017-12-25 2018-05-04 西安交通大学 一种介质阻挡放电中表面电荷动态分布测量系统及方法
CN108037471A (zh) * 2017-11-08 2018-05-15 中国科学院上海光学精密机械研究所 高密度等离子体产生的磁场的测量装置和测量方法
CN108181717A (zh) * 2016-12-08 2018-06-19 未来(北京)黑科技有限公司 用于在空中成像的系统

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0817573A (ja) * 1994-06-29 1996-01-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマアーク炉制御装置
CN1493857A (zh) * 2003-08-22 2004-05-05 中国科学院上海光学精密机械研究所 强激光脉冲光强分布测试系统
WO2008069272A1 (ja) * 2006-12-08 2008-06-12 Keio University 光弾性測定方法およびその装置
CN101441175A (zh) * 2007-11-19 2009-05-27 中国科学院理化技术研究所 基于激光扫面共聚焦显微系统的表面等离子共振检测装置
CN202854037U (zh) * 2012-09-10 2013-04-03 北京宝瑞光电科技有限公司 一体化激光诱导增强等离子体光谱采集系统
CN103712771A (zh) * 2013-12-04 2014-04-09 西安交通大学 一种发动机喷雾流场近场区光学诊断系统
CN105159044A (zh) * 2015-09-29 2015-12-16 南京理工大学 基于双波长数字全息技术的反射式显微成像装置
CN105824228A (zh) * 2016-03-15 2016-08-03 北京大学 一种基于表面等离子体耦合结构的全息成像膜
CN205584603U (zh) * 2016-03-17 2016-09-14 中国工程物理研究院流体物理研究所 一种测量系统
CN108181717A (zh) * 2016-12-08 2018-06-19 未来(北京)黑科技有限公司 用于在空中成像的系统
CN106735797A (zh) * 2016-12-20 2017-05-31 上海交通大学 一种不对称动态电弧三维实时成像采集装置及方法
CN108037471A (zh) * 2017-11-08 2018-05-15 中国科学院上海光学精密机械研究所 高密度等离子体产生的磁场的测量装置和测量方法
CN107991544A (zh) * 2017-12-25 2018-05-04 西安交通大学 一种介质阻挡放电中表面电荷动态分布测量系统及方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
KAZUFUMI NOMURA ET AL.: "Temperature measurement of asymmetrical pulsed TIG arc plasma by multidirectional monochromatic imaging method", 《WELD WORLD》 *
SYLVAIN ISENI ET AL.: "Flow and Discharge Development in an Argon Atmospheric Pressure Plasma Jet Observed by ICCD and PLIF Imaging", 《IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE》 *
夏博: "飞秒激光高质量高深径比微孔加工机理及其在线观测", 《中国博士学位论文全文数据库 工程科技Ⅰ辑》 *
潘从元: "基于激光诱导等离子体光谱的真空环境熔融金属成分在线检测技术研究", 《中国博士学位论文全文数据库 工程科技Ⅰ辑》 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN108738222B (zh) 2020-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106102981B (zh) 带照相机监视器的激光加工头装置
CN105246636B (zh) 用于确定高能射束焦点位置的设备和方法
CN107561089B (zh) 内孔检测光学系统及内孔检测设备
CN101726258B (zh) 一种热态物体在线检测系统
CN103604813B (zh) 用于激光加工过程的熔池监测装置
CN110062678A (zh) 包括两个窗口、光学元件和xy-偏转装置的偏转单元
Zhang et al. Coaxial monitoring of the fibre laser lap welding of Zn-coated steel sheets using an auxiliary illuminant
CN106990052A (zh) 光学特性测定装置以及光学系统
CN105643110A (zh) 一种精密激光切割系统
CN106443954A (zh) 一种激光测距机光轴调试系统及方法
KR101317947B1 (ko) 실린더 검사장치
JP2022516724A (ja) 共焦点距離計測を用いて、ワークピースを制御レーザ加工するための方法及びデバイス
CN104197865B (zh) 一种具备激光束导向功能的激光自准直仪的实现方法
CN204295135U (zh) 用于分析激光射束的分析装置和激光加工机
CN108738222A (zh) 一种基于反射式衰减片的等离子体不同光强区域原位同步成像方法
CN207515716U (zh) 一种多光轴平行性校正仪
US11442232B2 (en) Methods for fusing a fiber termination
JP3038196B1 (ja) レーザ光集光器
WO2020162410A1 (ja) プラスチック光ファイバのコア径計測方法およびそれに用いるプラスチック光ファイバのコア径計測装置
JP2012242134A (ja) 形状測定装置およびこれに用いる光学フィルタ
US10162187B2 (en) High-output optical attenuator, measurement device, and 3D shaping apparatus
CN105983795A (zh) 一种可同时观察焊接熔池及焊件表面的方法
CN105717117A (zh) 基于特定波长透反射比对成像的焊缝检测方法及检测装置
TW202009081A (zh) 鐳射加工裝置
TWI813173B (zh) 自動對焦及取像系統及其方法、顯微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant