CN108728831A - 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺 - Google Patents

一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN108728831A
CN108728831A CN201810564548.7A CN201810564548A CN108728831A CN 108728831 A CN108728831 A CN 108728831A CN 201810564548 A CN201810564548 A CN 201810564548A CN 108728831 A CN108728831 A CN 108728831A
Authority
CN
China
Prior art keywords
reative cell
valve
permanent magnet
inert gas
magnet material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810564548.7A
Other languages
English (en)
Inventor
岳武卫
薛海全
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui Tianyu Magnetic Industry Ltd By Share Ltd
Original Assignee
Anhui Tianyu Magnetic Industry Ltd By Share Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui Tianyu Magnetic Industry Ltd By Share Ltd filed Critical Anhui Tianyu Magnetic Industry Ltd By Share Ltd
Priority to CN201810564548.7A priority Critical patent/CN108728831A/zh
Publication of CN108728831A publication Critical patent/CN108728831A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1619Apparatus for electroless plating
    • C23C18/1632Features specific for the apparatus, e.g. layout of cells and of its equipment, multiple cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1633Process of electroless plating
    • C23C18/1675Process conditions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Hard Magnetic Materials (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺,涉及镀膜技术领域。本发明包括反应室、废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置;废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置均通过管道和反应室连接。本发明通过在密封环境下对磁铁切片进行化学镀镍,镀层具有厚度均匀、化学稳定性高、结合力好、硬度高和耐磨性好的优点;通过在反应室中注入惰性气体,将反应室中的空气排出,提高镀层的稳定性;通过对反应液体进行气化处理,提高磁铁切片表面镀层的均匀性。

Description

一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺
技术领域
本发明属于磁铁镀膜技术领域,特别是涉及一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺。
背景技术
磁铁在现代工业生产和日常生活中都扮演着重要的角色,磁铁生产也成为重要的工业产业。目前,在磁铁制造工业中,为了提高磁铁的使用寿命,需要在磁铁的外表面进行镀膜处理。传统的镀膜工艺,在人们对磁铁要求日益提高的背景下,渐渐不符合人们的需求。因此,因此人们对稳定有效的镀膜装置的需求迫在眉睫。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺,通过在密封环境下对磁铁切片进行化学镀镍,镀层具有厚度均匀、化学稳定性高、结合力好、硬度高和耐磨性好的优点。
为解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
本发明为一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,包括反应室、废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置,其特征在于:所述废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置均通过管道和反应室连接;
其中,所述反应室包括反应室箱体、加热层、密封门和承料板;所述反应室的两端分别固定有密封门,提高反应效率和反应的安全性;所述反应室内壁设置有若干平行的托脚;所述托脚的上方设置有若干输料孔;所述输料孔通过阀门和溶液气化装置连接,将气化的反应溶液输送到反应室内;所述衬底上放置有承料板;所述加热层设置在反应室箱体的内部底侧,为反应提供适合的温度;所述反应室箱体的底部设置有排料口;所述排料口通过阀门和废液回收装置连接,将反应后的废料回收,防止对环境造成污染;所述反应室箱体的顶部设置有进气口;所述进气口通过阀门和惰性气体存储装置连接;所述反应室箱体的侧面底部设置有排气口;所述排气口通过阀门和废气回收装置连接。
优选地,所述惰性气体存贮装置内储存的气体为氦气。
优选地,所述溶液气化装置内的溶液为化学镀镍溶液。
优选地,所述托脚和反应室的连接方式为焊接。
优选地,所述承料板上设置有若干开孔;所述开孔的形状包括圆形或矩形,增加磁铁切片和反应气体的接触面积,提高反应速率。
一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜防护工艺,包括以下步骤:
SS01:磁铁切片经过除油、酸洗、活化处理后放在承料板107上;
SS02:密封门106关闭,阀门K2、K3关闭,阀门K1、K4打开,惰性气体存贮装置3开始向反应室1内输送惰性气体,反应室1内的空气通过排气口109被排到废气回收装置2中;
SS03:阀门K1、K2、K4关闭,阀门K3打开,溶液气化装置4将化学镀镍溶液气化后,通过输料孔105进入反应室1,加热层102对反应室1加热;
SS04:镀膜完成后,关闭阀门3,打开阀门2排出反应室内的废液,将成品取出,进行后续工艺。
本发明具有以下有益效果:
1、本发明通过在密封环境下对磁铁切片进行化学镀镍,镀层具有厚度均匀、化学稳定性高、结合力好、硬度高和耐磨性好的优点。
2、本发明通过在反应室中注入惰性气体,将反应室中的空气排出,提高镀层的稳定性。
3、本发明通过对反应液体进行气化处理,提高磁铁切片表面镀层的均匀性。
当然,实施本发明的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置的结构示意图;
图2为反应室结构示意图;
图3为反应室正面剖视图;
图4为反应室侧面剖视图;
图5为反应室侧面剖视图的局部放大图;
图6为一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜防护工艺流程图。
附图中,各标号所代表的部件列表如下:
1-反应室,2-废气回收装置,3-惰性气体存储装置,4-溶液气化装置,5-废液回收装置,101-反应室箱体,102-加热层,103-排料口,104-进气口,105-输料孔,106-密封门,107-承料板,108-托脚,109-排气口。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“开孔”、“上”、“下”、底”、“内”等指示方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位,以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
实施例一:
请参阅图1所示,本发明为一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,包括反应室1、废气回收装置2、惰性气体存储装置3、溶液气化装置4和废液回收装置5,其特征在于:废气回收装置2、惰性气体存储装置3、溶液气化装置4和废液回收装置5均通过管道和反应室1连接。
如图2-5所示,反应室1包括反应室箱体101、加热层102、密封门106和承料板107;反应室1的两端分别固定有密封门106,提高反应效率和反应的安全性;反应室1内壁设置有若干平行的托脚108;托脚108的上方设置有若干输料孔105;输料孔105通过阀门K3和溶液气化装置4连接,将气化的反应溶液输送到反应室1内;衬底108上放置有承料板107;加热层102设置在反应室箱体101的内部底侧,为反应提供适合的温度;反应室箱体101的底部设置有排料口103;排料口103通过阀门K2和废液回收装置5连接,将反应后的废料回收,防止对环境造成污染;反应室箱体101的顶部设置有进气口104;进气口104通过阀门K4和惰性气体存储装置3连接;反应室箱体101的侧面底部设置有排气口109;排气口109通过阀门K1和废气回收装置2连接。
优选地,惰性气体存贮装置3内储存的气体为氦气。
优选地,溶液气化装置4内的溶液为化学镀镍溶液。
优选地,托脚108和反应室1的连接方式为焊接。
优选地,承料板107上设置有若干开孔;开孔的形状包括圆形或矩形,增加磁铁切片和反应气体的接触面积,提高反应速率。
实施例二:
请参阅图6所示,一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜防护工艺,包括以下步骤:
SS01:磁铁切片经过除油、酸洗、活化处理后放在承料板107上;
SS02:密封门106关闭,阀门K2、K3关闭,阀门K1、K4打开,惰性气体存贮装置3开始向反应室1内输送惰性气体,反应室1内的空气通过排气口109被排到废气回收装置2中;
SS03:阀门K1、K2、K4关闭,阀门K3打开,溶液气化装置4将化学镀镍溶液气化后,通过输料孔105进入反应室1,加热层102对反应室1加热;
SS04:镀膜完成后,关闭阀门3,打开阀门2排出反应室内的废液,将成品取出,进行后续工艺。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (6)

1.一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,包括反应室(1)、废气回收装置(2)、惰性气体存储装置(3)、溶液气化装置(4)和废液回收装置(5,其特征在于:所述废气回收装置(2)、惰性气体存储装置(3)、溶液气化装置(4)和废液回收装置(5)均通过管道和反应室(1)连接;所述管道上设置有阀门;
其中,所述反应室(1)包括反应室箱体(101)、加热层(102)、密封门(106)和承料板(107);所述反应室(1)的两端分别固定有密封门(106);所述反应室(1)内壁设置有若干平行的托脚(108);所述托脚(108)的上方设置有若干输料孔(105);所述输料孔(105)通过阀门(K3)和溶液气化装置(4)连接;所述衬底(108)上放置有承料板(107);所述加热层(102)设置在反应室箱体(101)的内部底侧;所述反应室箱体(101)的底部设置有排料口(103);所述排料口(103)通过阀门(K2)和废液回收装置(5)连接;所述反应室箱体(101)的顶部设置有进气口(104);所述进气口(104)通过阀门(K4)和惰性气体存储装置(3)连接;所述反应室箱体(101)的侧面底部设置有排气口(109);所述排气口(109)通过阀门(K1)和废气回收装置(2)连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,其特征在于,所述惰性气体存贮装置(3)内储存的气体为氦气。
3.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,其特征在于,所述溶液气化装置(4)内的溶液为化学镀镍溶液。
4.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,其特征在于,所述托脚(108)和反应室1的连接方式为焊接。
5.根据权利要求1所述的一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置,其特征在于,所述承料板(107)上设置有若干开孔;所述开孔的形状包括圆形或矩形。
6.如权利要求1-5任意一所述的一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜防护工艺,其特征在于,包括以下步骤:
SS01:磁铁切片经过除油、酸洗、活化处理后放在承料板107上;
SS02:密封门106关闭,阀门K2、K3关闭,阀门K1、K4打开,惰性气体存贮装置3开始向反应室1内输送惰性气体,反应室1内的空气通过排气口109被排到废气回收装置2中;
SS03:阀门K1、K2、K4关闭,阀门K3打开,溶液气化装置4将化学镀镍溶液气化后,通过输料孔105进入反应室1,加热层102对反应室1加热;
SS04:镀膜完成后,关闭阀门3,打开阀门2排出反应室内的废液,将成品取出,进行后续工艺。
CN201810564548.7A 2018-06-04 2018-06-04 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺 Pending CN108728831A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810564548.7A CN108728831A (zh) 2018-06-04 2018-06-04 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810564548.7A CN108728831A (zh) 2018-06-04 2018-06-04 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108728831A true CN108728831A (zh) 2018-11-02

Family

ID=63932100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810564548.7A Pending CN108728831A (zh) 2018-06-04 2018-06-04 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108728831A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1400632A (zh) * 2001-07-26 2003-03-05 株式会社东芝 液膜形成方法及固体膜的形成方法
CN1730723A (zh) * 2005-08-04 2006-02-08 湖南神舟科技股份有限公司 一种粉体材料表面处理方法和装置
CN103469179A (zh) * 2013-10-07 2013-12-25 复旦大学 一种真空环境下基于溶液的无机梯度薄膜制备方法
CN104148629A (zh) * 2014-08-15 2014-11-19 江西悦安超细金属有限公司 一种基于羰基金属络合物的3d打印快速成型装置及方法
CN104704143A (zh) * 2012-08-06 2015-06-10 全耐塑料公司 对机动车用的部件进行镀金属的方法
CN107130229A (zh) * 2017-05-17 2017-09-05 齐鲁理工学院 一种化学镀装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1400632A (zh) * 2001-07-26 2003-03-05 株式会社东芝 液膜形成方法及固体膜的形成方法
CN1730723A (zh) * 2005-08-04 2006-02-08 湖南神舟科技股份有限公司 一种粉体材料表面处理方法和装置
CN104704143A (zh) * 2012-08-06 2015-06-10 全耐塑料公司 对机动车用的部件进行镀金属的方法
CN103469179A (zh) * 2013-10-07 2013-12-25 复旦大学 一种真空环境下基于溶液的无机梯度薄膜制备方法
CN104148629A (zh) * 2014-08-15 2014-11-19 江西悦安超细金属有限公司 一种基于羰基金属络合物的3d打印快速成型装置及方法
CN107130229A (zh) * 2017-05-17 2017-09-05 齐鲁理工学院 一种化学镀装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Qiu et al. The microstructure and character of the PVDF-g-PSSA membrane prepared by solution grafting
CN108728831A (zh) 一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺
Niewolak et al. Behavior of interconnect steels in carbon containing simulated anode gas of solid oxide fuel cells
CN108603279A (zh) 用于掩蔽基板的掩模布置和用于将掩模与基板对准的方法
Belogolovsky et al. Effects of surface-deposited nanocrystalline chromite thin films on the performance of a ferritic interconnect alloy
CN201158699Y (zh) 卷绕镀膜机
CN1946871B (zh) 具有冷却装置的装置及冷却方法
CN209836292U (zh) 一种tft旋转钼靶绑定装置
CN220887674U (zh) 一种直板沉积工装
CN202246856U (zh) 化学气相薄膜沉积设备
CN106641700B (zh) 一种可移动的lng压差充装装置及其使用方法
CN221297032U (zh) 沉积源
JP6375984B2 (ja) ガス充填タンク
CN109772255A (zh) 用于矩形不锈钢基底金属镀层板的反应装置
CN220959500U (zh) 一种物料盘以及冻干机
Hwang et al. Supercritical fluid deposition of SiO2 thin films: Growth characteristics and film properties
Liu et al. Integrating Micro-Patterned Flow Fields into Electrode Architecture Via Non-Solvent Induced Phase Separation for High Performance Redox Flow Batteries
Ryder et al. Perspectives for Deep Eutectic Solvents and Ionic Liquid Analogues in Metal Electroplating
Pitchiya et al. Design and Characterization of Porous Graphite Bipolar Plates for Water Management in PEM Fuel Cells
Sudiyarmanto et al. Deposition of Ni-Based Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solution Via Flow-Type Reaction System
Liu et al. New Insights of Hydrogen Oxidation Reaction Mechanism of Platinum-Based Bimetallic Catalysts in Alkaline
WO2023245550A1 (en) Energy-saving heat treatment device for metal substrate in corrosive gas
Leonard et al. Wettability of gas diffusion electrode materials for CO2 reduction
Sharma et al. Fabrication of Faceted Metal Nanocrystal Electrodes By Solid-State Dewetting
CN205995915U (zh) 一种高效回收汞的显示屏的拆解装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20181102

RJ01 Rejection of invention patent application after publication