CN108649901A - 一种对于pvt不敏感的高精度振荡器 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种对于PVT不敏感的高精度振荡器,包括,第一金属‑氧化物半导体场效应管M1、第二金属‑氧化物半导体场效应管M2、第三金属‑氧化物半导体场效应管M3、第一双极型晶体管Q1、第一电阻R1、第二电阻R2、第四金属‑氧化物半导体场效应管M4和第一比较器。本发明的对于PVT不敏感的高精度振荡器在电路架构中引入正反温度系数,并且可以近似相互抵消,并且消除输出时钟与电源电压之间的关系,从而在各工艺角,各电源电压下,保证整个温度范围内,都可以输出精度较为精准的时钟。
Description
技术领域
本发明属于集成电路设计领域,尤其涉及一种对于PVT不敏感的高精度振荡器。
背景技术
振荡器作为一个基础模块,一直用在SoC和MCU等系统当中。有的系统要求振荡器的时钟精度较低,有的系统要求振荡器的时钟精度较高,在有较高精度需求的场合,常需要加入寄存器进行调整了。若一上电就需要较高精度时钟,则需要加入OTP或者EFUSE模块在芯片出厂之前就要校准好。这无疑会增加芯片成本。所以一个高精度的振荡器,直接影响系统的成本和时钟精度等指标。
相较于其他振荡器,一个可以提供高精度时钟振荡器,不需要OTP或者EFUSE等模块来做出厂前调整,节省了系统成本。
发明内容
为了解决现有技术中存在的不足,本发明提出了一种对于PVT不敏感的高精度振荡器,在电路架构中引入正反温度系数,并且可以近似相互抵消,并且消除输出时钟与电源电压之间的关系,从而各工艺角,各电源电压下,保证整个温度范围内,都可以输出精度较为精准的时钟。
本发明提供了一种对于PVT不敏感的高精度振荡器,包括,第一金属-氧化物半导体场效应管、第二金属-氧化物半导体场效应管、第三金属-氧化物半导体场效应管、第一双极型晶体管、第一电阻、第二电阻、第四金属-氧化物半导体场效应管和第一比较器,其中,
第一金属-氧化物半导体场效应管的漏极与第一电阻的一端相连接,第一电阻的另一端与第一双极型晶体管的集电极相连接,第一双极型晶体管的发射极与第二电阻相连接,第二电阻的另一端接地,
第二金属-氧化物半导体场效应管的漏极和第四金属-氧化物半导体场效应管的栅极与第一比较器的输入脚相连接,第二金属-氧化物半导体场效应管的漏极与第三金属-氧化物半导体场效应管的漏极相连接,第一比较器的输出脚与第三金属-氧化物半导体场效应管的栅极相连接,第三金属-氧化物半导体场效应管的源极接地。
进一步地,该第一金属-氧化物半导体场效应管沟道的宽长比大于10。
进一步地,该第二金属-氧化物半导体场效应管沟道的宽长比小于1。
进一步地,该第三金属-氧化物半导体场效应管实现开关功能。
进一步地,该第四金属-氧化物半导体场效应管提供充放电电容的作用,并提供与第二金属-氧化物半导体场效应管相同的沟道的宽长比。
进一步地,该第一比较器是具有迟滞功能的比较器。
进一步地,该第一金属-氧化物半导体场效应管M1的电流I1=(VREF0-Vbe,1)/R2,其中,VREF0为第一双极型晶体管Q1的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管Q1的基极与发射极结电压。
更进一步地,该第一金属-氧化物半导体场效应管的电流I1=(VREF0-Vbe,1)/R2,其中,VREF0为第一双极型晶体管的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管的基极与发射极结电压。
进一步地,该第二金属-氧化物半导体场效应管的过驱动电压Vdsat,2=I1*R1=(R1/R2)*(VREF0-Vbe,1),其中,VREF0为第一双极型晶体管的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管的基极与射极结电压。
进一步地,该第二金属-氧化物半导体场效应管的电流I2的计算公式为I2=(W2/L2/2)*up*Cox,p*V2 dsat,2,其中,W2为第二金属-氧化物半导体场效应管的沟道的宽度,L2为第二金属-氧化物半导体场效应管的沟道的长度,up为场效应管电子迁移率,Cox,p为单位面积的栅极电容量,Vdsat,2为第二金属-氧化物半导体场效应管的过驱动电压。
进一步地,该对于PVT不敏感的高精度的周期T=VREF1*C/I2,其中,C是由第四金属-氧化物半导体场效应管提供的电容量,VREF1为第一比较器的参考电压,I2为第二金属-氧化物半导体场效应管的电流。
第一金属-氧化物半导体场效应管、第二金属-氧化物半导体场效应管、第一双极型晶体管、第一电阻、第二电阻,共同提供一个与温度、工艺以及供电电压偏离相对无关的充放电流;第四金属-氧化物半导体场效应管提供充放电电容,亦可抵消一部分工艺偏离。
利用场效应管电子迁移率up正比于温度的负2.2次方以及双极型晶体管结电压Vbe,1正比于温度的2次方特性,可以抵消温度变化特性。从而实现对于PVT不敏感的振荡器,可以在无校准下提供高精度时钟。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,并与本发明的实施例一起,用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1为根据本发明的对于PVT不敏感的高精度振荡器的电路示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
图1为根据本发明的对于PVT不敏感的高精度振荡器的电路示意图,如图1所示,本发明的对于PVT不敏感的高精度振荡器,包括,第一金属-氧化物半导体场效应管M1、第二金属-氧化物半导体场效应管M2、第三金属-氧化物半导体场效应管M3、第一双极型晶体管Q1、第一电阻R1、第二电阻R2、第四金属-氧化物半导体场效应管M4和第一比较器。
其中,第一金属-氧化物半导体场效应管M1的漏极与第一电阻R1的一端相连接,第一电阻R1的另一端与第一双极型晶体管Q1的集电极相连接,第一双极型晶体管Q1的发射极与第二电阻R2相连接,第二电阻R2的另一端接地。
其中,第二金属-氧化物半导体场效应管M2的漏极和第四金属-氧化物半导体场效应管M4的栅极与第一比较器的输入脚相连接,第二金属-氧化物半导体场效应管M2的漏极与第三金属-氧化物半导体场效应管M3的漏极相连接,第一比较器的输出脚与第三金属-氧化物半导体场效应管M3的栅极相连接,第三金属-氧化物半导体场效应管M3的源极接地。
第一金属-氧化物半导体场效应管M1沟道的宽长比大于10,因此该第一金属-氧化物半导体场效应管M1的过驱动电压很小,可近似忽略。
第一双极型晶体管Q1的基极与发射极结电压为Vbe,1,基极电压VREF0减去结电压Vbe,1得到与第一双极型晶体管Q1相连接的第二电阻R2一端的电压,第二电阻R2的另一端接地,所以流过第一电阻R1、第二电阻R2以及第一金属-氧化物半导体场效应管M1的电流I1=(VREF0-Vbe,1)/R2,其中,VREF0为第一双极型晶体管Q1的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管Q1的基极与发射极结电压。
第二金属-氧化物半导体场效应管M2沟道的宽长比小于1,因此该第二金属-氧化物半导体场效应管M2的过驱动电压较大。
由于该第二金属-氧化物半导体场效应管M2的过驱动电压等于第一金属-氧化物半导体场效应管M1的过驱动电压加上流过第一金属-氧化物半导体场效应管M1的电流乘以第一电阻R1的值,又由于第一金属-氧化物半导体场效应管M1的过驱动电压可近似忽略,所以第二金属-氧化物半导体场效应管M2的过驱动电压就近似等于流过第一金属-氧化物半导体场效应管M1的电流乘以第一电阻R1的值。
因此,第二金属-氧化物半导体场效应管M2的过驱动电压Vdsat,2=I1*R1=(R1/R2)*(VREF0-Vbe,1),其中,VREF0为第一双极型晶体管Q1的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管Q1的基极与射极结电压。
流过第二金属-氧化物半导体场效应管M2的电流I2的计算公式为I2=(W2/L2/2)*up*Cox,p*V2 dsat,2,其中,W2为第二金属-氧化物半导体场效应管M2的沟道的宽度,L2为第二金属-氧化物半导体场效应管M2的沟道的长度,up为场效应管电子迁移率,Cox,p为单位面积的栅极电容量。
故I2=(W2/L2/2)*up*Cox,p*[(R1/R2)*(VREF0-Vbe,1)]2。
根据振荡器的周期公式T=VREF1*C/I2,本发明的电容C是由第四金属-氧化物半导体场效应管M4提供,VREF1为第一比较器的参考电压,第四金属-氧化物半导体场效应管M4与第二金属-氧化物半导体场效应管M2取相同的沟道宽度和长度。从而得到T=W2*L2*Cox,p*VREF1/{(W2/L2/2)*up*Cox,p*[(R1/R2)*(VREF0-Vbe,1)]2}=2*L2 2*VREF1/[up*(R1/R2)2*(VREF0-Vbe,1)2],在此公式中周期不依赖于供电电压。
第三金属-氧化物半导体场效应管M3实现一个开关功能。
第四金属-氧化物半导体场效应管M4提供一个充放电电容的作用,并提供与第二金属-氧化物半导体场效应管M2一样的沟道的宽长比,从而可以彼此相互抵消金属氧化物效应。
第一比较器是一个具有迟滞功能的比较器,输出时钟信号CLK,避免电路以及环境扰动形成的不稳定因素造成次高频时钟。
场效应管电子迁移率up正比于温度的负2.2次方,双极型晶体管结电压Vbe,1正比于温度的2次方,所以这两个因子随温度的变化可近似抵消,因此时钟频率随着工艺变化而变化的因素也被弱化到近乎没有。这样整个时钟产生电路实现了一个对于PVT不敏感的振荡器。
本领域普通技术人员可以理解:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种对于PVT不敏感的高精度振荡器,包括,第一金属-氧化物半导体场效应管、第二金属-氧化物半导体场效应管、第三金属-氧化物半导体场效应管、第一双极型晶体管、第一电阻、第二电阻、第四金属-氧化物半导体场效应管和第一比较器,其特征在于,
第一金属-氧化物半导体场效应管的漏极与第一电阻的一端相连接,第一电阻的另一端与第一双极型晶体管的集电极相连接,第一双极型晶体管的发射极与第二电阻相连接,第二电阻的另一端接地,
第二金属-氧化物半导体场效应管的漏极和第四金属-氧化物半导体场效应管的栅极与第一比较器的输入脚相连接,第二金属-氧化物半导体场效应管的漏极与第三金属-氧化物半导体场效应管的漏极相连接,第一比较器的输出脚与第三金属-氧化物半导体场效应管的栅极相连接,第三金属-氧化物半导体场效应管的源极接地。
2.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第一金属-氧化物半导体场效应管沟道的宽长比大于10。
3.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第二金属-氧化物半导体场效应管沟道的宽长比小于1。
4.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第三金属-氧化物半导体场效应管实现开关功能。
5.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第四金属-氧化物半导体场效应管,提供充放电电容的作用,并与第二金属-氧化物半导体场效应管相同的沟道的宽长比。
6.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第一比较器是具有迟滞功能的比较器。
7.根据权利要求1所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第一金属-氧化物半导体场效应管的电流I1=(VREF0-Vbe,1)/R2,其中,VREF0为第一双极型晶体管的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管的基极与发射极结电压。
8.根据权利要求7所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第二金属-氧化物半导体场效应管的过驱动电压Vdsat,2=I1*R1=(R1/R2)*(VREF0-Vbe,1),其中,VREF0为第一双极型晶体管的基极电压,Vbe,1为第一双极型晶体管的基极与射极结电压。
9.根据权利要求8所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述第二金属-氧化物半导体场效应管的电流的计算公式为I2=(W2/L2/2)*up*Cox,p*V2 dsat,2,其中,W2为第二金属-氧化物半导体场效应管的沟道的宽度,L2为第二金属-氧化物半导体场效应管的沟道的长度,up为场效应管电子迁移率,Cox,p为单位面积的栅极电容量,Vdsat,2为第二金属-氧化物半导体场效应管的过驱动电压。
10.根据权利要求9所述的对于PVT不敏感的高精度振荡器,其特征在于,所述对于PVT不敏感的高精度的周期T=VREF1*C/I2,其中,C是由第四金属-氧化物半导体场效应管提供的电容量,VREF1为第一比较器的参考电压,I2为第二金属-氧化物半导体场效应管的电流。
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