CN108637913B - 一种抛光机集中供液系统 - Google Patents
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 177
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 112
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000001802 infusion Methods 0.000 claims description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
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Abstract
本发明公开了一种抛光机集中供液系统,包括:抛光液浓缩部分、抛光液调配部分和供液和回流管路。本发明提出的一种抛光机集中供液系统,通过供液池和供液管对各台抛光机进行集中供液,便于抛光液的集中管理与操作。且,每次只需要检测供液池中抛光液浓度,便可实现对各台抛光机的抛光液浓度的控制,保证各台抛光机的抛光液浓度相同,品质状况无较大差异。
Description
技术领域
本发明涉及抛光处理技术领域,尤其涉及一种抛光机集中供液系统。
背景技术
随着电子产品向平面化、薄型化发展,以及电子产品更新换代速度加快,市场对液晶面板减薄的需求也随之增大。玻璃抛光机主要用于液晶玻璃基板的单面或双面研磨及抛光,具有加工精度高、操作简便等优点,是液晶玻璃基板减薄的主要设备之一。
对于目前主流的玻璃抛光机,其抛光液采用独立供液的供给方式,即通过供液泵将位于下方搅拌桶中的抛光液抽到抛光区域。随着抛光机的使用抛光液浓度逐渐降低,需要安排专职人员逐个抛光机进行浓度检测,对浓度低于工艺要求的需要补加高浓度抛光液,这些需要安排专职人员来操作,费时费力。同时每台抛光机的抛光液浓度不同,导致抛光出来的玻璃基板存在厚度差异,影响产品品质。此外,玻璃基板抛光完成,需用水将玻璃从抛光机吸附垫上冲下来,抛光机上的抛光粉会被冲走,造成抛光粉浪费。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种抛光机集中供液系统。
本发明提出的一种抛光机集中供液系统,包括:抛光液浓缩部分、抛光液调配部分和供液和回流管路;
抛光液浓缩部分包括抽吸泵、浓缩装置和浓液回流管;抛光液调配部分包括供液池和搅拌机,回流管路包括供液泵、供液管和稀液回流管;
搅拌机的搅拌叶插入供液池,供液池上设有第一出口、第二出口和回流口;第一出口通过供液泵与供液管第一端连通,各抛光机的抛光液输液管均与供液管连通,且抛光液输液管上均设有控制阀;
稀液回流管与供液池的回流口连通,各抛光机上使用后的抛光液的通过稀液回流管回流到供液池内,稀液回流管连接供液池的一端设有回流过滤器;
供液池的第二出口通过抽吸泵与浓缩装置的输入口连通,浓缩装置的输出口与浓液回流管的第一端连通,浓液回流管的第二端插入供液池。
优选地,供液池上,第一出口位于回流口的下方,第二出口远离浓液回流管第二端。
优选地,抛光液调配部分还包括用于检测供液池内液体浓度的浓度检测计。
优选地,回流管路还包括调压管,供液管的第二端与调压管的第一端连通,调压管的第二端插入供液池,调压管上设有调压阀。
优选地,供液管上还设有供液过滤器。
优选地,浓缩装置采用管式超滤器。
优选地,各抛光机均设有用于收集使用过的抛光液的废液收集管,各废液收集管均与稀液回流管连通,并均位于回流过滤器远离供液池的一侧。
本发明提出的一种抛光机集中供液系统,通过供液池和供液管对各台抛光机进行集中供液,便于抛光液的集中管理与操作。且,每次只需要检测供液池中抛光液浓度,便可实现对各台抛光机的抛光液浓度的控制,保证各台抛光机的抛光液浓度相同,品质状况无较大差异。
本发明中,通过回流管收集抛光机上冲洗后的溶液,该溶液包含了抛光粉以及其他物质,回流过滤器可对溶液中的其他物质进行过滤,使得过滤后的浓度低的抛光液通过稀液回流管回流到供液池内进行循环利用,实现了抛光粉的回收和循环利用。浓缩装置的设置,可对供液池内的抛光液进行浓缩,避免稀液回流管回流的溶液降低供液池内的抛光液浓度。
附图说明
图1为本发明提出的一种抛光机集中供液系统结构图。
具体实施方式
参照图1,本发明提出的一种抛光机集中供液系统,包括:抛光液浓缩部分、抛光液调配部分和供液和回流管路。
抛光液浓缩部分包括抽吸泵1a、浓缩装置1b和浓液回流管1c。抛光液调配部分包括供液池2a和搅拌机2b,回流管路包括供液泵3a、供液管3b和稀液回流管3g。
搅拌机2b的搅拌叶插入供液池2a,以便对供液池2a内储存的抛光液进行搅拌,防止抛光粉沉淀。供液池2a上设有第一出口、第二出口和回流口。第一出口通过供液泵3a与供液管3b第一端连通,各抛光机4a的抛光液输液管均与供液管3b连通,且抛光液输液管上均设有控制阀3d。如此,开启供液泵3a可向供液管3b中输入抛光液,通过控制阀3d可独立控制各台抛光机上抛光液的供应与停止。
本实施方式中,通过供液池2a和供液管3b对各台抛光机进行集中供液,便于抛光液的集中管理与操作。且,每次只需要检测供液池中抛光液浓度,便可实现对各台抛光机的抛光液浓度的控制,如浓度低于工艺要求,只需向供液池中补加高浓度抛光液即可。
本实施方式中,抛光液调配部分还包括用于检测供液池2a内液体浓度的浓度检测计2c,以便对于供液池内的抛光液浓度进行实时监控和管理。
本实施方式中,回流管路还包括调压管3e,供液管3b的第二端与调压管3e的第一端连通,调压管3e的第二端插入供液池2a,调压管3e上设有调压阀3f。如此,通过调压阀3f与供液泵3a的配合,可控制供液管3b内的流量,保证供液管内抛光液压力稳定。
本实施方式中,供液管3b上还设有供液过滤器3c,以便对供液泵3a输出的抛光液进行过滤,除去抛光液中大颗粒物。
稀液回流管3g与供液池2a的回流口连通,各抛光机4a上使用后的抛光液的通过稀液回流管3g回流到供液池2a内,稀液回流管3g连接供液池2a的一端设有回流过滤器3h。具体的,各抛光机4a均设有用于收集使用过的抛光液的废液收集管4b,各废液收集管4b均与稀液回流管3g连通,并均位于回流过滤器3h远离供液池2a的一侧。
抛光机4a上的产品抛光完成后,需要进行冲洗,本实施方式中通过稀液回流管3g收集抛光机上冲洗后的溶液,该溶液包含了抛光粉以及其他物质,回流过滤器3h可对溶液中的其他物质进行过滤,使得过滤后的浓度低的抛光液通过稀液回流管3g回流到供液池2a内进行循环利用,实现了抛光粉的回收和循环利用。
供液池2a的第二出口通过抽吸泵1a与浓缩装置1b的输入口连通,浓缩装置1b的输出口与浓液回流管1c的第一端连通,浓液回流管1c的第二端插入供液池2a。如此,开启浓缩装置1b,可对供液池2a内的抛光液进行浓缩,避免稀液回流管3g回流的溶液降低供液池2a内的抛光液浓度。具体的,浓缩装置1b采用管式超滤器。
本实施方式中,供液池2a上,第一出口位于回流口的下方,以避免供液池向供液管输出的抛光液浓度较低;第二出口远离浓液回流管1c第二端,以提高抛光液浓缩效率。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种抛光机集中供液系统,其特征在于,包括:抛光液浓缩部分、抛光液调配部分和供液和回流管路;
抛光液浓缩部分包括抽吸泵(1a)、浓缩装置(1b)和浓液回流管(1c);抛光液调配部分包括供液池(2a)和搅拌机(2b),回流管路包括供液泵(3a)、供液管(3b)和稀液回流管(3g);
搅拌机(2b)的搅拌叶插入供液池(2a),供液池(2a)上设有第一出口、第二出口和回流口;第一出口通过供液泵(3a)与供液管(3b)第一端连通,各抛光机(4a)的抛光液输液管均与供液管(3b)连通,且抛光液输液管上均设有控制阀(3d);
稀液回流管(3g)与供液池(2a)的回流口连通,各抛光机(4a)上使用后的抛光液的通过稀液回流管(3g)回流到供液池(2a)内,稀液回流管(3g)连接供液池(2a)的一端设有回流过滤器(3h);
供液池(2a)的第二出口通过抽吸泵(1a)与浓缩装置(1b)的输入口连通,浓缩装置(1b)的输出口与浓液回流管(1c)的第一端连通,浓液回流管(1c)的第二端插入供液池(2a);
供液池(2a)上,第一出口位于回流口的下方,第二出口远离浓液回流管(1c)第二端;
抛光液调配部分还包括用于检测供液池(2a)内液体浓度的浓度检测计(2c)。
2.如权利要求1所述的抛光机集中供液系统,其特征在于,回流管路还包括调压管(3e),供液管(3b)的第二端与调压管(3e)的第一端连通,调压管(3e)的第二端插入供液池(2a),调压管(3e)上设有调压阀(3f)。
3.如权利要求1所述的抛光机集中供液系统,其特征在于,供液管(3b)上还设有供液过滤器(3c)。
4.如权利要求1所述的抛光机集中供液系统,其特征在于,浓缩装置(1b)采用管式超滤器。
5.如权利要求1至4任一项所述的抛光机集中供液系统,其特征在于,各抛光机(4a)均设有用于收集使用过的抛光液的废液收集管(4b),各废液收集管(4b)均与稀液回流管(3g)连通,并均位于回流过滤器(3h)远离供液池(2a)的一侧。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810574702.9A CN108637913B (zh) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 一种抛光机集中供液系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810574702.9A CN108637913B (zh) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 一种抛光机集中供液系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108637913A CN108637913A (zh) | 2018-10-12 |
CN108637913B true CN108637913B (zh) | 2024-01-16 |
Family
ID=63751905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810574702.9A Active CN108637913B (zh) | 2018-06-06 | 2018-06-06 | 一种抛光机集中供液系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108637913B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110227294B (zh) * | 2019-06-17 | 2024-04-19 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 抛光液循环过滤系统 |
CN112892391B (zh) * | 2021-01-27 | 2022-07-12 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种抛光液水分在线调节精密控制装置及方法 |
Citations (4)
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US6293849B1 (en) * | 1997-10-31 | 2001-09-25 | Ebara Corporation | Polishing solution supply system |
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CN205290697U (zh) * | 2015-11-11 | 2016-06-08 | 福州新三捷光电技术有限公司 | 一种用于高速抛光机的抛光液装置 |
CN208759344U (zh) * | 2018-06-06 | 2019-04-19 | 蚌埠国显科技有限公司 | 一种抛光机集中供液系统 |
-
2018
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6293849B1 (en) * | 1997-10-31 | 2001-09-25 | Ebara Corporation | Polishing solution supply system |
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CN208759344U (zh) * | 2018-06-06 | 2019-04-19 | 蚌埠国显科技有限公司 | 一种抛光机集中供液系统 |
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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