CN108628498A - 触控面板、触控显示屏幕及触控显示设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种触控面板、触控显示屏幕及触控显示设备，触控面板，包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；规则触控电极包括设置于衬底的规则触控电极膜层；异形触控电极包括设置于衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，支撑结构用于支撑异形触控电极膜层以使得异形触控电极膜层形成与衬底具有高度差的膜层面,并且异形触控电极膜层的表面面积与规则触控电极膜层的表面面积相等。通过在异形触控电极设置支撑结构，使得异形触控电极膜层形成与衬底具有高度差的膜层面，从而使得异形触控电极膜层面积与规则触控电极膜层面积相等，进而防止电极的触控性能发生突变，保证触控面板的触控性能的均一性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种触控面板、触控显示屏幕及触控显示设备。
背景技术
随着显示技术的不断发展，带有触控屏幕的显示设备应用越来越广泛。传统技术在制作显示设备的触控屏幕时，为了满足前置摄像头等部件的设计需求，通常对触控屏幕进行开槽处理。
传统技术中通过开槽处理得到的触控屏幕包括触控面板，该触控面板包括规则触控电极以及由于开槽处理产生的异形触控电极，由于相邻的异形触控电极与规则触控电极的表面面积存在差异，从而使得电极的触控性能发生突变，导致触控面板存在触控性能不均一的问题。
发明内容
基于此，有必要针对上述问题，提供一种防止电极触控性能发生突变的触控面板、触控显示屏幕及触控显示设备。
一种触控面板，包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；
所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层，所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
一种触控显示屏幕，所述触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，所述触控面板包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；
所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层，
所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
一种触控显示设备，所述触控显示设备包括触控显示屏幕，所述触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，所述触控面板包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；
所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层，
所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
上述触控面板、触控显示屏幕及触控显示设备，该触控面板包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；规则触控电极包括规则触控电极膜层，规则触控电极膜层设置于衬底；异形触控电极包括异形触控电极膜层及支撑结构，异形触控电极膜层及支撑结构设置于衬底，支撑结构用于支撑异形触控电极膜层以使得异形触控电极膜层形成与衬底具有高度差的膜层面,并且异形触控电极膜层的表面面积与规则触控电极膜层的表面面积相等。通过在异形触控电极设置支撑结构，该支撑结构用于支撑异形触控电极膜层以使得异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层平面，使得异形触控电极膜层为空间立体结构，从而增大其表面面积以使得异形触控电极膜层的表面面积与规则触控电极膜层的表面面积相等，进而防止电极的触控性能发生突变，保证触控面板的触控性能的均一性。
附图说明
图1为一个实施例中触控面板的结构示意图；
图2为一个实施例中规则触控电极的截面示意图；
图3为一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图4为另一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图5为又一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图6为再一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图7为再一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图8为再一个实施例中异形触控电极的截面示意图；
图9为一个实施例中通过光刻和蚀刻的方法制作支撑结构的方法流程图。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
在一个实施例中，如图1所示，提供一种触控面板，该触控面板包括规则触控电极200、异形触控电极100及衬底300。
规则触控电极200是指设置于触控面板的规则区域的电极，规则触控电极200具有规则长度的长和宽，即图1中的规则四边形结构，一般来说，所有规则触控电极200的尺寸大小都是一致的。
异形触控电极100是指设置于触控面板的异形区域的电极，触控面板的异形区域包括触控面板的边角位置或触控面板的开槽区域对应的开槽位置。异形触控电极100不具有规则长度的长和宽。参考图1，对于具有开槽结构的触控面板来说，异形触控电极100的类型包括位于开槽结构区域的第一类异形触控电极110以及位于触控面板边角位置的第二类异形触控电极120。对于设置在开槽结构区域的触控电极来说，为了适应开槽结构，该区域的触控电极与开槽结构区域重合的部分被去除，从而形成第一类异形触控电极110。对于设置在触控面板边角区的触控电极来说，为了适应触控面板边角区的曲边结构，该边角区的触控电极中，靠近触控面板边角的电极边角也被制作为曲边结构，从而形成第二类异形触控电极120。本实施例中的规则触控电极200及异形触控电极100的形状包括但不限于图1中所示的形状，具体也可以扩展至其他形状。
规则触控电极200及异形触控电极100均设置于衬底300，衬底300主要起到支撑规则触控电极200及异形触控电极100的作用，同时也具有改善规则触控电极200及异形触控电极100中触控电极薄膜特性的作用。
如图2所示，规则触控电极200包括规则触控电极膜层210，规则触控电极膜层210为设置于衬底300的平面膜层结构，该规则触控电极膜层210用于接收用户在规则触控电极200对应的面板位置的触控信息，并将触控信息传输至触控面板中的触控芯片以进行信息数据处理。
如图3所示，异形触控电极100包括异形触控电极膜层112及支撑结构114，异形触控电极膜层112及支撑结构114设置于衬底300。异形触控电极膜层112用于接收用户在异形触控电极100对应的面板位置的触控信息，并将触控信息传输至触控面板中的触控芯片以进行信息数据处理。由于异形触控电极100存在结构缺失，因此，若异形触控电极膜层112设置为与规则触控电极膜层210相同的平面膜层结构，则该异形触控电极膜层112的表面面积必定小于规则触控电极膜层210的表面面积，由于相邻的异形触控电极100的异形触控电极膜层112与规则触控电极200的规则触控电极膜层210存在面积差异，从而使得电极的触控性能发生突变，导致触控面板存在触控性能不均一的问题。
本实施例中，在异形触控电极膜层112下方设置有支撑结构114，支撑结构114设置于衬底300，该支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层面，由于支撑结构114的存在，使得异形触控电极膜层112为非平面膜层结构，具体可以是空间立体结构，从而增大异形触控电极膜层112的表面面积以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等，从而保证异形触控电极100与规则触控电极200具有相同的触控性能。
在一个实施例中，如图4所示，图4为异形触控电极100的截面示意图，异形触控电极100沿垂直于截面的方向设置。设定图4中的左右方向为水平方向，由于支撑结构114的支撑作用，使得异形触控电极膜层112形成三个与水平方向平行的平面膜层以及四个与水平方向不平行的斜面膜层，因此，异形触控电极膜层112的表面面积为三个平面膜层的表面面积与四个斜面膜层的表面面积之和。
具体地，设置异形触控电极100的长度为L，异形触控电极膜层112的表面面积为S，七个膜层面的表面面积依次为S1至S7，七个膜层面在衬底300的投影宽度依次为X1至X7，由图可知，各个膜层面的表面面积存在以下关系：
S1>X1*L，S2＝X2*L，S3>X3*L，S4＝X4*L，
S5>X5*L，S6＝X6*L，S7>X7*L
由于：S＝S1+S2+S3+S4+S5+S6+S7
即：S>(X1+X2+X3+X4+X5+X6+X7)*L
由上述公式可知，在宽度相同的条件下，异形触控电极膜层112的表面面积大于平面膜层的表面面积，因此通过设置支撑结构114，使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层面，可以达到增大异形触控电极膜层112表面面积的目的。此外，通过设置支撑结构114的各边的长度和/或宽度和/或高度以调整支撑结构的斜面膜层面积，从而可以控制异形触控电极膜层112的表面面积，以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等。
需要说明的是，在本申请各实施例中，在规则触控电极200及异形触控电极100的结构、功能或其他相关内容进行具体解释说明时，所使用的规则触控电极200及异形触控电极100均是指单个的触控电极。
本实施例通过在异形触控电极100设置支撑结构114，该支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层平面，使得异形触控电极膜层112为空间立体结构，增大其表面面积以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210表面面积相等，从而防止电极的触控性能发生突变，保证触控面板的触控性能的均一性。
在一个实施例中，异形触控电极膜层112的表面为异形触控电极膜层112远离衬底300的一侧表面，规则触控电极膜层210的表面为规则触控电极膜层210远离衬底300的一侧表面。
异形触控电极膜层112的表面面积为异形触控电极膜层112远离衬底300的一侧表面的面积，规则触控电极膜层210的表面面积为规则触控电极膜层210远离衬底300的一侧表面的面积。
在一个实施例中，以电容式触控面板为例，对异形触控电极100以及规则触控电极200的触控性能的均一性进行解释说明。
对于电容式触控面板来说，当用户手指触摸在该触控面板表面时，触点位置的电容值会发生变化，电容值的变化情况会被发送至该触控面板中的触控芯片，触控芯片通过电容值的变化数据进行分析处理，从而确定触点位置，进而根据触点位置获得触控信息。具体地，在异形触控电极100以及规则触控电极200中，各个电容器的电容值可以通过如下公式计算得出：
其中，c为电容值，ε为介电常数，k为静电力常量，S为电容器中的电容板的面积，d为电容板的板间距离。由公式可知，电容值c的大小与电容器中的电容板的面积S以及电容板的板间距离d有关。在异形触控电极100以及规则触控电极200中，电容板的板间距离d相同，因此造成各个电容器的电容值不同的主要因素为电容板的面积S。由于异形触控电极100存在结构缺失，因此，若异形触控电极膜层112为平面膜层结构，则异形触控电极膜层112的表面面积必定小于规则触控电极膜层210的表面面积，即异形触控电极膜层112中电容板的面积S112小于规则触控电极膜层210中电容板的面积S210，从而导致异形触控电极膜层112中电容器的电容值c112小于规则触控电极膜层210中电容器的电容值c210，导致触控面板存在触控性能不均一的问题。
本申请各实施例通过在异形触控电极100设置支撑结构114，该支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层平面，使得异形触控电极膜层112为空间立体结构，增大其表面面积以使得异形触控电极膜层112表面面积与规则触控电极膜层210表面面积相等，即使得异形触控电极膜层112中电容板的面积S112与规则触控电极膜层210中电容板的面积S210相等，从而使得异形触控电极膜层112中电容器的电容值c112与规则触控电极膜层210中电容器的电容值c210相等，从而保证异形触控电极100与规则触控电极200的触控性能的均一性。在一个实施例中，支撑结构114包括与衬底300相贴合的贴合面，以及与衬底300具有高度差的支撑面，支撑面包括水平方向的支撑面以及斜支撑面。支撑结构114的支撑面用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层面，由于支撑结构114的存在，使得异形触控电极膜层112为非平面膜层结构，具体可以是空间立体结构，从而增大异形触控电极膜层112的表面面积。此外，通过设置支撑结构114的各边的长度和/或高度以控制形成的水平方向支撑面以及斜支撑面的面积，从而控制形成的水平方向的平面膜层以及斜面膜层的表面面积，进而可以控制异形触控电极膜层112的表面面积，以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等。
在一个实施例中，如图5所示，支撑结构114的竖直方向截面的形状可以是梯形。梯形结构制作方便，可以通过光刻和蚀刻的方法制作得到，并且通过调整支撑结构114的各边的长度和/或高度，即可调整该支撑结构114的支撑面的面积，进而达到调整覆盖于支撑结构114上的异形触控电极膜层112的表面面积的目的。
在另一个实施例中，如图6所示，支撑结构114的竖直方向截面的形状可以是设置有多个凹槽的梯形，该支撑结构114可以通过光刻和蚀刻的方法制作得到，通过设置凹槽，可以在异形触控电极膜层112与规则触控电极膜层210的面积差异较大的情况下，进一步增大支撑结构114的支撑面的图形化结构以增大支撑面的面积，从而增大异形触控电极膜层112的表面面积以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210表面面积相等。
需要说明的是，本实施例中的支撑结构114竖直方向截面的形状包括但不限于图3至图6中所示的形状，该支撑结构114也可以是通过其他工艺方法制作得到，该支撑结构114的竖直方向截面的形状也可以是曲面形状，还可以是其他能支撑异形触控电极膜层112，以使得异形触控电极膜层112形成空间立体结构的形状。
在一个实施例中，支撑结构114的所有支撑面的面积等于异形触控电极膜层112的表面面积，即异形触控电极膜层112完全覆盖于且仅覆盖于支撑结构114的所有支撑面，支撑结构114的所有支撑面的面积即为异形触控电极膜层112的表面面积。本实施例通过将异形触控电极膜层112的表面面积设置为与支撑结构114的所有支撑面的表面面积相等，从而通过控制支撑结构114的所有支撑面的表面面积即可控制异形触控电极膜层112的表面面积，进而达到准确控制异形触控电极膜层112的表面面积的目的，保证异形触控电极100与规则触控电极200的表面面积相同。
在一个实施例中，如图7所示，支撑结构114的所有支撑面的面积也可以是小于异形触控电极膜层112的表面面积，即如图7中所示，异形触控电极膜层112的表面面积包括覆盖于支撑结构114的所有支撑面的膜层部分的表面面积，还包括未覆盖支撑结构114的膜层部分的表面面积，未覆盖支撑结构114的膜层部分为平面膜层结构。本实施例适用于异形触控电极膜层112与规则触控电极膜层210的面积差异较小的情况，支撑结构114只需要对异形触控电极膜层112的部分膜层起到支撑作用即可弥补异形触控电极膜层112与规则触控电极膜层210的表面面积差异，从而在保证异形触控电极膜层112与规则触控电极膜层210的表面面积相等的同时，同时也能减少支撑结构的制作成本。
在一个实施例中，如图8所示，支撑结构114的所有支撑面的面积也可以是大于异形触控电极膜层112的表面面积，即如图8中所示，异形触控电极膜层112部分覆盖于支撑结构114的支撑面，具体地，异形触控电极膜层112可以是覆盖与支撑结构114的部分水平方向的支撑面及部分斜支撑面。本实施例适用于异形触控电极膜层112与规则触控电极膜层210的表面面积差异较小的情况。
在一个实施例中，支撑结构114的材料包括无机膜和/或有机胶。有机胶凝材料是指以天然或人工合成高分子化合物为基本组成的一类胶凝材料，包括沥青、树脂、橡胶等。无机膜是由无机材料加工而成的一种固态膜，包括金属膜、合金膜、陶瓷膜等，具有化学稳定性好、机械强度大、使用寿命长等优点。
在制作支撑结构114时，可以是单独采用无机膜制作支撑结构114，可以是单独采用有机胶制作支撑结构114，也可以是同时采用无机膜和有机胶制作支撑结构114。通过使用无机膜和/或有机胶制作支撑结构114，可以在保证支撑强度的同时，不会对触控电极膜层的性能产生影响，保证触控电极膜层具备正常的触控性能。
具体地，可以使用单层的无机膜或单层的有机胶制作支撑结构114，单层膜层制作支撑结构114时，成膜步骤少，工艺简单，操作方便。
在一个实施例中，单独采用无机膜制作支撑结构114时，无机膜的层数为两层或两层以上。通过使用两层或者两层以上的不同种类的无机膜制作支撑结构114，从而可以利用不同种类膜层不同的刻蚀速率精准地控制支撑结构114面积的数值，进而精准地控制异形触控电极膜层112表面面积的数值。
在一个实施例中，单独采用有机胶制作支撑结构114时，有机胶的层数为两层或两层以上。通过使用两层或者两层以上的不同种类的有机胶制作支撑结构114，从而可以利用不同种类膜层不同的刻蚀速率精准地控制支撑结构114面积的数值，进而精准地控制异形触控电极膜层112表面面积的数值。
在一个实施例中，同时采用无机膜和有机胶制作支撑结构114时，无机膜和有机胶的层数为两层或两层以上。通过使用两层或者两层以上的不同种类的无机膜和有机胶制作支撑结构114，从而可以利用不同种类膜层不同的刻蚀速率精准地控制支撑结构114面积的数值，进而精准地控制异形触控电极膜层112表面面积的数值。
在一个实施例中，如图9所示，提供一种通过光刻和蚀刻的方法制作支撑结构114的方法。具体地，以单层膜层制作支撑结构114为例，支撑结构114制作方法包括以下步骤：
步骤S100，成膜，即在衬底上布置一层无机膜或有机胶。在布置膜层之前，需要对衬底进行预处理。一般情况下，衬底表面上的水分需要蒸发掉，这一步通过脱水烘焙来完成。此外，为了提高膜层在衬底表面的附着能力，还会在衬底表面涂抹化合物。目前应用的比较多的是六甲基乙硅氮烷(hexa-methyl-disilazane,HMDS)、三甲基甲硅烷基二乙胺(tri-methyl-silyl-diethyl-amime,TMSDEA)等。成膜后需要进行清洗操作。
步骤S200，涂胶，即在无机膜或有机胶表面涂覆一层光刻胶。光刻中采用的感光物质被称为光刻胶，主要分为正光刻胶和负光刻胶两种。正光刻胶未被光照的部分在显影后会被保留，而负光刻胶被感光的部分在显影后会被保留。本步骤需要将光刻胶均匀、平整地分布在无机膜或有机胶表面上。以旋转涂胶方法为例，首先，将衬底放在一个平整的金属托盘上，托盘内有小孔与真空管相连。由于大气压力的作用，衬底可以被“吸附”在托盘上，这样衬底就可以与托盘一起旋转。旋转涂胶工艺包括以下步骤：将光刻胶溶液喷洒在衬底上的无机膜或有机胶表面；加速旋转托盘(衬底)，直到达到所需的旋转速度；达到所需的旋转速度之后，维持旋转速度一段时间，以旋转的托盘为参考系，光刻胶在旋转时受到的离心力使得光刻胶向着硅片外围移动，直至光刻胶均匀、平整地分布在无机膜或有机胶表面上。
步骤S300，软烘干，完成光刻胶的涂抹之后，需要进行软烘干操作，这一步骤也被称为前烘。在液态的光刻胶中，溶剂成分占65％－85％。虽然在甩胶之后，液态的光刻胶已经成为固态的薄膜，但仍有10％－30％的溶剂，容易沾污灰尘。通过在较高温度下进行烘培，可以使溶剂从光刻胶中挥发出来(前烘后溶剂含量降至5％左右)，从而降低了灰尘的沾污。同时，这一步骤还可以减轻因高速旋转形成的薄膜应力，从而提高光刻胶在无机膜或有机胶上的附着性。在前烘过程中，由于溶剂挥发，光刻胶厚度也会减薄，一般减薄的幅度为10％－20％左右。
步骤S400，曝光，在这一步中，通过使用特定波长的光透过设计有预设图案结构的掩膜板对覆盖于无机膜或有机胶的光刻胶进行照射。光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，从而使正光刻胶被照射区域(感光区)、负光刻胶未被照射的区域(非感光区)化学成分发生变化。这些化学成分发生变化的区域，在下一步的能够溶解于特定的显影液中。在接受光照后，正性光刻胶中的感光剂会发生光化学反应，变为乙烯酮，并进一步水解为茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid,CA)，羧酸在碱性溶剂中的溶解度比未感光部分的光刻胶高出约100倍，产生的羧酸同时还会促进酚醛树脂的溶解。利用感光与未感光光刻胶对碱性溶剂的不同溶解度，就可以将掩膜板上的预设图案结构转移至光刻胶。
步骤S500，显影，通过在曝光过程结束后加入显影液，正光刻胶的感光区、负光刻胶的非感光区，会溶解于显影液中。这一步完成后，光刻胶层中的图形就可以显现出来。为了提高分辨率，几乎每一种光刻胶都有专门的显影液，以保证高质量的显影效果。
步骤S600，硬烘干，光刻胶显影完成后，图形就基本确定，不过还需要使光刻胶的性质更为稳定。硬烘干可以达到这个目的，这一步骤也被称为坚膜。在这过程中，利用高温处理，可以除去光刻胶中剩余的溶剂、增强光刻胶对硅片表面的附着力。另外，高温下光刻胶将软化，形成类似玻璃体在高温下的熔融状态。这会使光刻胶表面在表面张力作用下圆滑化，并使光刻胶层中的缺陷(如针孔)减少，这样修正光刻胶图形的边缘轮廓。
步骤S700，蚀刻，在通过曝光、显影形成图形化的光刻胶之后，将未被光刻胶覆盖的无机膜或有机胶去除，从而形成预期形状的支撑结构114。在蚀刻时，通过使无机膜或有机胶接触化学溶液，达到溶解腐蚀无机膜或有机胶的作用，形成具有凹凸或者镂空结构的支撑结构114。
步骤S800，去胶，即去除无机膜或有机胶表面的光刻胶。去胶的方法包括湿法去胶和干法去胶。湿法去胶包括有机溶剂去胶和无机溶剂去胶，有机溶剂去胶是指利用有机溶剂除去光刻胶，无机溶剂去胶是指通过使用一些无机溶剂，将光刻胶这种有机物中的碳元素氧化为二氧化碳，进而将其去除。干法去胶是指利用等离子体将光刻胶剥除。
本实施例提供一种通过光刻和蚀刻的方法制作支撑结构114的方法，通过对曝光、显影及蚀刻等方法，将无机膜或有机胶制作成与预期图案一致的结构，从而得到对应的支撑结构114。通过控制预期图案形状以及工艺过程从而控制得到的支撑结构114的面积，进而控制异形触控电极膜层112的表面面积。
在一个实施例中，提供一种触控显示屏幕，触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，触控面板包括规则触控电极200、异形触控电极100及衬底300；规则触控电极200包括规则触控电极膜层210，规则触控电极膜层210设置于衬底300；异形触控电极100包括异形触控电极膜层112及支撑结构114，异形触控电极膜层112及支撑结构114设置于衬底300，支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层面,并且异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等。
上述触控显示屏幕，通过在异形触控电极100设置支撑结构114，该支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层平面，使得异形触控电极膜层112为空间立体结构，增大其表面面积以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等，从而防止触控电极的触控性能发生突变，保证触控面板的触控性能的均一性，进而保证触控显示屏幕的触控性能的均一性。
在一个实施例中，提供一种触控显示设备，触控显示设备包括触控显示屏幕，触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，触控面板包括规则触控电极200、异形触控电极100及衬底300；规则触控电极200包括规则触控电极膜层210，规则触控电极膜层210设置于衬底300；异形触控电极100包括异形触控电极膜层112及支撑结构114，异形触控电极膜层112及支撑结构114设置于衬底300，支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层面,并且异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等。
上述触控显示设置，通过在异形触控电极100设置支撑结构114，该支撑结构114用于支撑异形触控电极膜层112以使得异形触控电极膜层112形成与衬底300具有高度差的膜层平面，使得异形触控电极膜层112为空间立体结构，增大其表面面积以使得异形触控电极膜层112的表面面积与规则触控电极膜层210的表面面积相等，从而防止电极的触控性能发生突变，保证触控面板及触控显示屏幕的触控性能的均一性，进而保证触控显示设备的触控性能的均一性。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (8)
1.一种触控面板，其特征在于，包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；
所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层；
所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述异形触控电极膜层的表面为所述异形触控电极膜层远离所述衬底的一侧表面，所述规则触控电极膜层的表面为所述规则触控电极膜层远离所述衬底的一侧表面。
3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述支撑结构包括与所述衬底相贴合的贴合面，以及与所述贴合面具有高度差的支撑面。
4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述支撑结构的材料包括无机膜和/或有机胶。
5.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述支撑结构中，所述无机膜的层数为两层或两层以上。
6.根据权利要求4所述的触控面板，其特征在于，所述支撑结构中，所述有机胶的层数为两层或两层以上。
7.一种触控显示屏幕，其特征在于，所述触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，所述触控面板包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层；所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
8.一种触控显示设备，其特征在于，所述触控显示设备包括触控显示屏幕，所述触控显示屏幕包括显示面板和触控面板，所述触控面板包括规则触控电极、异形触控电极及衬底；所述规则触控电极包括设置于所述衬底的规则触控电极膜层，所述异形触控电极包括设置于所述衬底的异形触控电极膜层及支撑结构，所述支撑结构用于支撑所述异形触控电极膜层以使得所述异形触控电极膜层形成与所述衬底具有高度差的膜层面,并且所述异形触控电极膜层的表面面积与所述规则触控电极膜层的表面面积相等。
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