CN108607337A - 电弧等离子体废气处理装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及电弧等离子体废气处理装置，本发明的电弧等离子体废气处理装置包括：等离子体发生部(1)，通过电弧放电产生火焰，通过所流入的工作气体生成等离子体；反应部(5)，使从上述等离子体发生部(1)移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及洗涤部(3)，通过对在上述反应部(5)进行处理的气体进行洗涤，使温度降低，上述等离子体发生部(1)通过多级旋涡结构体(200)以多级的方式向阳极部(100)供给工作气体，上述洗涤部(3)通过多个冷却模块依次供给冷却流体来执行冷却。

Description

电弧等离子体废气处理装置
技术领域
本发明涉及电弧等离子体废气处理装置，更详细地，为了多级供给向工作气体而在多个电极的周围配置多级旋涡结构体来可控制所形成的火焰的长度的电弧等离子体废气处理装置。
背景技术
通常，等离子体为由具有电极性的电子及离子构成的第四物质状态，整体上以负电荷数和正电荷数几乎相同的密度分布，在电方面几乎形成中性。等离子体分为如电弧等的温度高的高温等离子体和低温等离子体，在低温等离子体中，电子的能量虽高，但离子的能量低，因而实际感受到的温度相当于室温，大多借助直流、交流、超高频、电子束等的电放电来生成。
在韩国公开专利10-2016-0043820号中，公开了利用这种等离子体来处理废气等的装置结构。
通常，这种等离子体的发生方式之一为通过电弧放电来发生等离子体，在此情况下，废气处理装置包括：等离子体发生部，通过电弧放电产生气炬，即火焰，通过所流入的工作气体来生成等离子体；反应部，使从上述等离子体发生部移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及洗涤部，借助水等来对在上述反应部进行处理的气体进行洗涤，使温度降低。
在上述等离子体发生部中，为了在阴电极与阳电极之间发生等离子体，通过供给管以可使工作气体做回旋运动的方式注入工作气体，通过施加电源来产生电弧放电，从而形成射流等离子体。
另一方面，需借助阴电极与阳电极之间的电极间隔来产生火焰，在通过点火形成火焰后，需通过供给工作气体来控制火焰长度，但以往技术采用通过单一旋涡结构物供给工作气体的方式，因而存在所形成的火焰的长度多少受限制的缺点。
另一方面，需要一种在有效管理在反应部混合等离子体和所流入的废气后在通过洗涤部降低温度之后排出的过程中所产生的热量的同时可减少有害产物的方案。
专利文献1：韩国公开专利10-2016-0043820A
发明内容
本发明用于解决如上所述的以往的问题，本发明的目的在于提供为了多级供给向阴电极与阳电极之间供给的工作气体而在多个电极的周围配置多级旋涡结构体来可控制所形成的火焰的长度的电弧等离子体废气处理装置。
用于实现如上所述的目的的电弧等离子体废气处理装置包括：等离子体发生部1，通过电弧放电产生火焰，通过所流入的工作气体生成等离子体；反应部5，使从上述等离子体发生部1移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及洗涤部3，通过对在上述反应部5进行处理的气体进行洗涤，使温度降低，上述等离子体发生部1通过多级旋涡结构体200以多级的方式向阳极部100供给工作气体，上述洗涤部3通过多个冷却模块依次供给冷却流体来执行冷却。
上述等离子体发生部包括：阴极部10；阳极部100，向上述阴极部10的下部方向与上述阴极部10隔开配置；以及旋涡结构体200，以包围上述阴极部10和阳极部100的方式配置，上述阳极部100包括：上部阳极110，以包围上述阴极部10的下部的一部分的形态配置；以及下部阳极120，在与上述上部阳极110之间形成能够供给工作气体的空间的状态下沿着上述上部阳极110的下部方向相结合，上述旋涡结构体200包括：第一旋涡结构体210，通过形成于上述上部阳极110的第一工作气体喷嘴115来供给工作气体；以及第二旋涡结构体220，通过形成于上述下部阳极120的第二工作气体喷嘴124来供给工作气体。
通过上述第二旋涡结构体220及下部阳极120供给的工作气体向配置于上述上部阳极110与下部阳极120之间的缓冲空间126供给。
上述洗涤部包括：壳体310，呈中空圆筒形状；第一冷却模块320，配置于上述壳体310的内部上侧；以及第二冷却模块340，在上述第一冷却模块320的下部侧，以能够分离的方式与上述壳体310的内部相结合，通过借助由上述第一冷却模块320向上述壳体310供给的第一冷却流体在上述壳体310的上端所形成的幕膜及借助由上述第二冷却模块340供给的第二冷却流体在上述幕膜的下部侧所形成的喷射区域来执行冷却。
上述第二冷却模块340在从上述第一冷却模块320朝向下部方向隔开规定距离的状态下以多级的方式配置有多个。
如上所述的本发明的电弧等离子体废气处理装置可通过具有多级旋涡结构体的等离子体发生部及可对等离子体处理气体进行快速冷却的洗涤部来有效实现火焰长度的控制及等离子体气体的温度下降。
本发明可通过为了多级供给向阴电极与阳电极之间供给的工作气体而在多个电极的周围配置多级旋涡结构体来可控制所形成的火焰的长度。
本发明可通过可使等离子体处理气体快速冷却的洗涤部有效管理在等离子体与废气之间产生反应后所形成的等离子体处理气体的温度下降，同时减少氮氧化物等的有害产物的产生。
本发明可通过氮幕来对包含从反应部向洗涤部移送流入的等离子体处理气体及粒子等的气体分子进行均匀的过滤，同时可减少有害物质，通过以喷射等方式供给水等制冷剂的步骤来实施冷却及化学物质中和反应。
根据本发明，第一次则通过氮幕对从反应部流入的等离子体反应气体进行冷却，第二次则通过由以可分离的方式在洗涤部内相结合的喷射模块喷射冷却水的步骤来执行有效的冷却。
附图说明
图1为用于说明本发明的具有等离子体发生部的废气处理装置的整体概念的图。
图2为示出构成废气处理装置的等离子体发生部的外观的图。
图3为示出构成废气处理装置的等离子体发生部的内部的剖视图。
图4为示出构成废气处理装置的等离子体发生部的内部的剖面立体图。
图5为示出电极与旋涡结构体相结合的状态的立体图。
图6为示出下部阳极与旋涡结构体之间的结合关系的剖面立体图。
图7为从上侧观察构成废气处理装置的洗涤部的外观的图。
图8为从下侧观察构成废气处理装置的洗涤部的外观的图。
图9为示出构成废气处理装置的洗涤部的内部的剖面立体图。
图10为示出构成洗涤部的喷射模块的立体图。
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施例进行更加详细的说明。但是，本发明并不限定于以下所公开的实施例，而是能够以多种互不相同的形态来体现，本发明的实施例仅使本发明的公开更加完整，并用于向普通技术人员完整地告知本发明的范围。附图中的相同的附图标记代表相同的结构要素。
首先，参照图1，废气处理装置包括：等离子体发生部1，通过电弧放电产生火焰，通过所流入的工作气体来生成等离子体；反应部5，使从上述等离子体发生部1移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及洗涤部3，借助水等来对在上述反应部5进行处理的气体进行洗涤，使温度降低。
等离子体发生部1通过借助因工作气体而生成的等离子体产生的强力自由基和热量对所流入的废气进行第一次分解。
反应部5将借助等离子体产生的热量储存到内部的蓄热体，来执行通过热分解对未在等离子体发生部1处理的废气进行处理的步骤。
洗涤部3通过氮幕(N2Curtain)执行气体分子及粒子的缓冲，来可形成均匀的过滤。
另一方面，通过由以可分离的方式配置于洗涤部3内的喷射模块来以喷射方式供给制冷剂的步骤，执行冷却及化学中和反应。通过如上所述的冷却(cooling)及快速冷却(Quenching)来可减少热氮氧化物(Thermal Nox)。
作为在本发明中使用的工作气体，可使用氦、氩及氮等，但并不限定于此。
以下，参照图2至图6，根据本发明的实施例来说明构成废气处理装置的等离子体发生部的结构及功能进行说明。
上述等离子体发生部1包括：阴极部10；阳极部100，沿着阴极部10的下部方向隔开配置；以及旋涡结构体200，以包围阴极部10和阳极部100的方式配置。
阳极部100包括：上部阳极110，以包围阴极部10的下部的一部分的形态配置；以及下部阳极120，在与上部阳极110之间形成可供给工作气体的空间的状态下沿着上述上部阳极110的下部方向相结合。
上部阳极110包括：上部阳极本体111，呈中空圆筒形状；第一阳极流路112，在上部阳极本体111的内部面上倾斜而成；第二阳极流路113，与第一阳极流路112的下端相连接；阳极槽114，以槽形态在上部阳极本体111的上部外侧面上沿着圆周方向形成；以及第一工作气体喷嘴115，从阳极槽114向上部阳极本体111的内周面上延伸而成。
下部阳极120包括：下部阳极本体121，呈中空圆筒形状；阳极连接部122，形成于下部阳极本体121的上部；台阶部123，以在阳极连接部122的上部形成缓冲空间126的方式按规定厚度延伸而成；第二工作气体喷嘴124，在贯通台阶部123的内周面及外周面而成的状态下，接收从旋涡结构体200供给的工作气体；以及冷却流路125，沿着铅垂方向形成于下部阳极本体121内。
旋涡结构体200包括：第一旋涡结构体210，通过形成于上部阳极110的第一工作气体喷嘴115来供给工作气体；以及第二旋涡结构体220，通过形成于下部阳极120的第二工作气体喷嘴124来供给工作气体。
第一旋涡结构体210包括：第一旋涡本体211，呈中空圆筒形状；工作气体垂直流路212，沿着铅垂方向形成于第一旋涡本体211内；第一工作气体填充部213，与工作气体垂直流路212的上端相连通；工作气体水平流路214，在沿着水平方向与工作气体垂直流路212的下端相连接的状态下，与上部阳极110的阳极槽114相连通；冷却流路216，沿着铅垂方向形成于第一旋涡本体211内；以及冷却水填充部217，与冷却流路216的上端相连通。
第二旋涡结构体220包括：第二旋涡本体221，呈中空圆筒形状；突出部222，形成于第二旋涡本体221的上部；冷却流路223，沿着铅垂方向形成于第二旋涡本体221内；第二工作气体流路224、225，以连接上述第二旋涡本体221的内外面的方式在第二旋涡本体221内沿着半径方向形成；以及凹陷部226，形成于第二旋涡本体221的下部。
在第一旋涡结构体210和第二旋涡结构体220沿着上下方向相结合的状态下，上述突出部222提供使经过第一旋涡结构体210的冷却流路216的冷却水在进入第二旋涡结构体220的冷却流路223之前临时停留的空间。
另一方面，上述凹陷部226提供使经过第二旋涡结构体220的冷却流路223的冷却水在进入下部阳极120的冷却流路125之前临时停留的空间。
上述第二工作气体流路224、225可形成与下部阳极120的第二工作气体喷嘴124相连通的结构。第二工作气体流路224、225包括：外侧流路224，沿着半径方向从第二旋涡本体221的外侧面向内侧延伸规定距离而成；以及内侧流路225，沿着半径方向从外侧流路224到第二旋涡本体221的内部面为止延伸而成。
如上所述，通过第一旋涡结构体210、第二旋涡结构体220分别向上部阳极110、下部阳极120供给的工作气体借助形成多级的旋涡结构体200、上下分离的阳极部100及旋涡结构体200与阳极部100之间的连接结构等来进行回旋运动，即旋涡运动，从而从等离子体发生部的上部向下部移动。
以下，参照图3至图6，说明借助本发明实施例的等离子体发生部形成的工作气体的流动。
在本发明中，通过以包围阴极部10和阳极部100的方式配置的多级旋涡结构体200来以分为上下2级的方式分级供给工作气体。
即，通过第一旋涡结构体210的工作气体垂直流路212和上部阳极110的第一工作气体喷嘴115来第一次供给工作气体。
第一次供给的上述工作气体经过上部阳极110的内侧上端以旋涡方式供给。
接着，通过第二旋涡结构体220的第二工作气体流路224、225及下部阳极120的第二工作气体喷嘴124第二次供给工作气体。
第二次供给的上述工作气体通过形成于下部阳极120的台阶部123的第二工作气体喷嘴124向下部阳极120的上端中央供给，以如上所述的状态向由第一次供给的工作气体形成的等离子体上供给，从而对等离子体的形成进行支持。即，向配置于上部阳极110与下部阳极120之间的缓冲空间126第二次供给工作气体。
根据本发明，在从静电流方式的电源供给电源的情况下，借助阴极部10与阳极部100之间的电极间隔来确定点火，点火后，分别向作为沿着上下方向形成多级的旋涡结构物的第一旋涡结构体210、第二旋涡结构体220适当供给作为工作气体的氮气，来控制火焰的长度。
在本发明中，火焰的长度越长，则对废气的处理越有效，本发明属于与作为以往技术的向一级旋涡结构物供给工作气体的方式相比得到改进的方式。
即，与现有的一级旋涡相比，本发明呈现出1.5～2倍以上的稳定、变长的火焰控制特性。
其中，第一旋涡结构体210将基于工作气体流量的压力及火焰长度控制维持在5～50LPM以下，第二旋涡结构体220将基于工作气体的压力及火焰长度控制维持在10～100LPM以下。
并且，通过使冷却水通过第一旋涡结构体210、第二旋涡结构体220及下部阳极120连续流动，来持续顺畅地供给冷却水，从而使电极在等离子体放电时所产生的热量中得到保护。
另一方面，在等离子体发生部1中利用直流电弧(DC ARC)等离子体产生的电弧放电有可能引起阳极部100受损，为此，可通过在下部阳极120上设置磁体来进行火焰控制，从而提高寿命。
即，可通过在下部阳极120上配置磁性与等离子体的磁性相反的磁体，来产生斥力。
具体地，在构成下部阳极120的下部阳极本体121上设置磁体，利用上述磁体的磁束方向的磁场和基于形成于下部阳极121内部的电流成分的圆周方向的洛伦兹力来使电弧和热等离子体旋转，从而可延长电极的寿命。
另一方面，若上述磁体受热，则有可能失去磁性，可通过冷却控制来达到不失去磁性，并延长电极寿命。上述冷却控制可通过在沿着铅锤方向形成于有下部阳极本体121内的多个冷却流路125之间配置磁体来实现冷却。
由此，为了在等离子体放电所引起的热冲击中保护阳极部100而实施水冷却，从而可提高寿命。
以下，参照图7至图10，根据本发明的实施例来说明构成废气处理装置的洗涤部的结构及功能。
洗涤部3包括：壳体310，呈上下部开放的中空圆筒形状；第一冷却模块320，配置于壳体310的内部上侧；上部盖330，在壳体310的上部以包围上述第一冷却模块320的边缘的结构配置；第二冷却模块340，以可分离的方式与壳体310的内部相结合；下部盖350，配置于壳体310的下部；以及阻断模块360，配置于壳体310的开放的下部区域。
壳体310包括：外部壳体311；内部壳体315，以隔开方式配置于外部壳体311的内侧；冷却水腔室117，上述冷却水腔室117为形成于外部壳体311与内部壳体315之间的空间；以及腔室孔116，贯通内部壳体315的内部面、外部面而成，用于使冷却水腔室117与壳体310的内部空间相连通。在上述外部壳体311上形成额外的冷却水供给口，以可向冷却水腔室117的内部供给冷却水。
第一冷却模块320配置于壳体310的内部上侧，具体地，在内部壳体315的上端位于上部盖330的内侧。
第一冷却模块320起到对在反应部5通过废气与等离子体气体之间的热反应来上升的温度进行第一次降温的功能，整体上可以是在内部壳体315的上端以规定高度形成的环状结构体。
第一冷却模块320在下端沿着半径方向形成槽形态的气体供给喷嘴322，上述气体供给喷嘴322可形成沿着第一冷却模块320的圆周按规定间隔配置有多个气体供给喷嘴322的结构。在上述结构下，若第一冷却模块320与内部壳体315相结合，则气体供给喷嘴322形成内部壳体315的下部借助内部壳体315密封的形态。
上述多个气体供给喷嘴322可形成互相连通的结构，具体地，可形成以使第一冷却模块320的外部面的下部与多个气体供给喷嘴322的入口端相连接的方式加工流路的形态。
第一冷却模块320通过多个气体供给喷嘴322供给第一冷却流体，来在洗涤部3的开放的上部区域形成气体膜。具体地，通过供给第一冷却流体的氮(N2)，来形成氮幕，从而通过气体分子及粒子的缓冲来均匀地实施过滤。
上部盖330包括：盖本体331，呈环状，在第一冷却模块320的外侧边缘侧紧贴配置；以及气体供给口332，贯通盖本体331的内部面、外部面而成，用于使外部的气体供给源与气体供给喷嘴322相连通。另一方面，可在盖本体331的内周面上形成气体流路，以与气体供给口332的内侧端相连通。形成于上述盖本体331的内周面的气体流路与多个气体供给喷嘴322的入口端相连通。
盖本体331形成有从下端边缘向下部延伸的卡定部，上述卡定部具有卡定于外部壳体311的上端外侧的结合结构，从而可实现稳定的结合。盖本体331的上端的高度可与第一冷却模块320的上端的高度相同。
第二冷却模块340在以可分离的方式与内部壳体315的内侧面相结合的状态下，接收储存于冷却水腔室117内的冷却水来向内侧喷射。第二冷却模块340在从第一冷却模块320朝向下部方向隔开规定距离的状态下以多级的方式配置有多个。
第二冷却模块340包括：冷却本体341，具有环形结构；冷却水供给喷嘴342，贯通冷却本体341的内部面、外部面而成，用于使腔室孔116与冷却本体341的内部区域之间相连通；冷却水引导部345，在冷却本体341的上端向内侧延伸而成；以及密封槽346，形成于冷却本体341的外部面上。
上述冷却水引导部345起到防止通过冷却水供给喷嘴342向内部壳体315的内部喷射的冷却水向内部壳体315的上端侧流动。为了引导冷却水稳定地流动，冷却水引导部345可形成向上部侧突出的形状。
多个冷却水供给喷嘴342沿着冷却本体341的外周面按规定间隔隔开配置，可在上述冷却本体341的外周面上形成冷却水缓冲流路343，以使上述多个冷却水供给喷嘴342的入口端相连通。
第二冷却模块340通过多个冷却水供给喷嘴342供给第二冷却流体，从而以喷射方式向洗涤部3的内部区域供给制冷剂。具体地，将水作为第二冷却流体来进行供给，从而实时气体分子及粒子的冷却及化学中和反应。并且，通过上述快速冷却步骤来减少热性有害化和物质氮氧化物的产生。
下部盖350在第二冷却模块340的下端边缘侧紧贴配置。下部盖350形成有从上端边缘向上部延伸的卡定部，上述卡定部具有卡定于外部壳体311的下端外侧的结合结构，从而可实现稳定的结合。
阻断模块360配置于壳体310的开放的下部区域中的第二冷却模块340的下部侧。
阻断模块360包括：阻断部件161，位于下部盖350的内部中央区域上；以及连接部件163，从阻断部件161的外部面沿着外侧半径方向延伸，来与下部盖350的内周面相连接。
阻断部件161起到防止由通过等离子体发生部1、反应部5及洗涤部3产生反应的等离子体所产生的直进性强的各种光及热量通过洗涤部3的下部直接被排出的作用。另一方面，连接部件163以隔开规定间隔的方式形成于阻断部件161的边缘的外周面上，通过形成于上述连接部件163之间的空间来排出在洗涤部3产生反应的气体。
如上所述，洗涤部3第一次则通过第一冷却流体来形成氮幕，第二次则通过喷射供给第二冷却流体的步骤，来执行对气体分子及粒子的缓冲及冷却。
如上所述，本发明的具有等离子体发生部的废气处理装置可通过配置于电极周围的多级旋涡结构体来多级供给作为向阴电极与阳电极之间供给的工作气体的氮气，从而可控制所形成的火焰的长度。
并且，本发明的可使等离子体处理气体快速冷却的洗涤部可有效管理在等离子体与废气之间产生反应后所形成的等离子体处理气体的温度下降，同时减少氮氧化物等的有害产物的产生。
以上说明仅属于例示性地说明本发明的技术思想，只要是本发明所属技术领域的普通技术人员，则可在不脱离本发明的本质特性的范围内对本发明进行多种修改及变形。

Claims (5)

1.一种电弧等离子体废气处理装置，其特征在于，
包括：
等离子体发生部(1)，通过电弧放电产生火焰，通过所流入的工作气体生成等离子体；
反应部(5)，使从上述等离子体发生部(1)移送的等离子体与所流入的废气混合来进行处理；以及
洗涤部(3)，通过对在上述反应部(5)进行处理的气体进行洗涤，使温度降低，
上述等离子体发生部(1)通过多级旋涡结构体(200)以多级的方式向阳极部(100)供给工作气体，
上述洗涤部(3)通过多个冷却模块依次供给冷却流体来执行冷却。
2.根据权利要求1所述的电弧等离子体废气处理装置，其特征在于，
上述等离子体发生部包括：
阴极部(10)；
阳极部(100)，向上述阴极部(10)的下部方向与上述阴极部(10)隔开配置；以及
旋涡结构体(200)，以包围上述阴极部(10)和阳极部(100)的方式配置，
上述阳极部(100)包括：
上部阳极(110)，以包围上述阴极部(10)的下部的一部分的形态配置；以及
下部阳极(120)，在与上述上部阳极(110)之间形成能够供给工作气体的空间的状态下沿着上述上部阳极(110)的下部方向相结合，
上述旋涡结构体(200)包括：
第一旋涡结构体(210)，通过形成于上述上部阳极(110)的第一工作气体喷嘴(115)来供给工作气体；以及
第二旋涡结构体(220)，通过形成于上述下部阳极(120)的第二工作气体喷嘴(124)来供给工作气体。
3.根据权利要求2所述的电弧等离子体废气处理装置，其特征在于，通过上述第二旋涡结构体(220)及下部阳极(120)供给的工作气体向配置于上述上部阳极(110)与下部阳极(120)之间的缓冲空间(126)供给。
4.根据权利要求1所述的电弧等离子体废气处理装置，其特征在于，
上述洗涤部包括：
壳体(310)，呈中空圆筒形状；
第一冷却模块(320)，配置于上述壳体(310)的内部上侧；以及
第二冷却模块(340)，在上述第一冷却模块(320)的下部侧，以能够分离的方式与上述壳体(310)的内部相结合，
通过借助由上述第一冷却模块(320)向上述壳体(310)供给的第一冷却流体在上述壳体(310)的上端所形成的幕膜及借助由上述第二冷却模块(340)供给的第二冷却流体在上述幕膜的下部侧所形成的喷射区域来执行冷却。
5.根据权利要求4所述的电弧等离子体废气处理装置，其特征在于，上述第二冷却模块(340)在从上述第一冷却模块(320)朝向下部方向隔开规定距离的状态下以多级的方式配置有多个。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102228888B1 (ko) * 2019-01-21 2021-03-17 엘지전자 주식회사 열플라즈마 처리장치
CN113960430B (zh) * 2021-10-27 2023-09-26 中国航空综合技术研究所 航空电线拉弧测试装置
CN116456567A (zh) * 2023-04-24 2023-07-18 中国科学院近代物理研究所 用于超导ecr离子源的冷却结构及水冷弧腔组件
CN116390318A (zh) * 2023-04-24 2023-07-04 中国科学院近代物理研究所 用于超高功率的ecr离子源的水冷微流道弧腔

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200424378Y1 (ko) * 2006-06-07 2006-08-22 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 플라즈마 토치를 이용한 폐가스 처리장치
CN204114966U (zh) * 2013-11-05 2015-01-21 鼎樫科技股份有限公司 气体处理设备
CN205166147U (zh) * 2015-10-20 2016-04-20 张伯勤 一种双气流旋转电弧的空气等离子割枪

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100568238B1 (ko) * 2002-09-03 2006-04-05 주식회사 에이피시스 플라즈마 유해가스 처리장치
KR100937697B1 (ko) * 2008-01-16 2010-01-20 주식회사 케이피씨 폐가스 처리장치
KR101166070B1 (ko) 2012-05-21 2012-07-19 김진일 전기분해를 이용한 프라즈마 스크러버
KR101458999B1 (ko) * 2014-05-15 2014-11-07 주식회사 썬닉스 스크러버용 제습장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200424378Y1 (ko) * 2006-06-07 2006-08-22 주식회사 글로벌스탠다드테크놀로지 플라즈마 토치를 이용한 폐가스 처리장치
CN204114966U (zh) * 2013-11-05 2015-01-21 鼎樫科技股份有限公司 气体处理设备
CN205166147U (zh) * 2015-10-20 2016-04-20 张伯勤 一种双气流旋转电弧的空气等离子割枪

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