CN108535968B - 一种遮光板及其制备方法和应用 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种遮光板，包括相对设置的阳极透明基板和阴极透明基板，以及位于两者之间的透明电解质层和电致变色层，所述电致变色层包括阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，所述阳极电致变色层位于所述阳极透明基板和所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明基板和所述透明电解质层之间。本发明的遮光板设有阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，通过电场改变遮光板的颜色控制紫外光的透过率，并且保证同一曝光范围内的紫外光透过率一致，实现精确曝光，提高产品的品质以及曝光工艺稳定性。同时，相比传统机械式遮光板，避免了开合时间，响应时间短。本发明还提供了该遮光板的制备方法和应用。

Description

一种遮光板及其制备方法和应用

技术领域

本发明涉及液晶显示面板制备领域，特别是涉及一种遮光板及其制备方法和应用。

背景技术

在液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)的制备过程中，曝光机是制备精细画质图案的关键设备，现行接近式曝光机在使用过程中(如图1所示)，紫外光通过集光镜110射向第一反射镜121，再透过蝇眼140将光线均匀、平行化，射向第二反射镜122和第三反射镜123，透过光罩对基板进行曝光，形成图案。其中，蝇眼140和第一反射镜121之间有一机械式遮光板131用于控制紫外光的通过与否，机械式遮光板131的开合需要通过马达进行控制，一次开合所需时间大约在0.5s到1s之间，这样会使同一个曝光范围内受到的紫外光照射能量不均一，影响产品线宽在面内的均一性，从而影响产品品质。因此，需要一种制备工艺简单且能保证紫外光照射能量均一性、提高产品良率的遮光板。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种遮光板，通过设置阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，使得同一曝光范围内的紫外光透过率相同，实现精确曝光，保证了产品线宽在面内的均一性，提高产品品质。

第一方面，本发明提供了一种遮光板，包括相对设置的阳极透明基板和阴极透明基板，以及位于所述阳极透明基板与所述阴极透明基板之间的透明电解质层和电致变色层，所述阳极透明基板朝向所述阴极透明基板的一侧设置有阳极透明导电层，所述阴极透明基板朝向所述阳极透明基板的一侧设置有阴极透明导电层，所述透明电解质层位于所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层之间，所述电致变色层包括阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，所述阳极电致变色层位于所述阳极透明导电层和所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明导电层和所述透明电解质层之间。

在本发明中，所述遮光板用于曝光机中。所述遮光板可以仅存在阳极电致变色层或仅存在阴极电致变色层，也可以同时存在阳极电致变色层和阴极电致变色层。

可选的，所述阳极电致变色层的材质包括可通过先氧化后还原的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物，所述阴极电致变色层的材质包括可通过先还原后氧化的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物。也就是说，所述阳极电致变色层的材质包括通过先氧化后还原的方式实现无色到有色之间可逆变色的化合物，或包括通过先氧化后还原的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。所述阴极电致变色层的材质包括通过先还原后氧化的方式实现无色到有色可逆变色的化合物，或包括通过先还原后氧化的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。

可选的，当所述电致变色层包括阳极电致变色层和阴极电致变色层时，所述阳极电致变色层和阴极电致变色层的材质包括可通过氧化还原反应同时从无色变为有色或同时从有色变为无色的化合物。

可选的，所述阳极电致变色层和所述阴极电致变色层的材质分别选自过渡金属化合物、聚噻吩类及其衍生物、聚苯胺类及其衍生物和紫罗精类化合物中的至少一种。具体的，所述阳极电致变色层的材质可以但不限于氢氧化铱、普鲁士白、钨青铜，所述阴极电致变色层的材质可以但不限于三氧化钨、二氧化铱、氧化钼、氧化钛。

可选的，所述阳极电致变色层的厚度为

所述阴极电致变色层的厚度为

进一步可选的，所述阳极电致变色层的厚度为

或1μm-1.7μm。进一步可选的，所述阴极电致变色层的厚度为

或1μm-1.7μm。所述阳极电致变色层的厚度和所述阴极电致变色层的厚度可以相同，也可以不同。

可选的，所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层的材质分别选自氧化铟锡、氧化锡、氧化锡掺锑、氧化锌和氧化锌掺铝中的至少一种。进一步可选的，所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层的材质分别选自氧化铟锡和氧化锡中的至少一种。所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层的材质可以相同，也可以不同。

可选的，所述阳极透明基板和所述阴极透明基板的材质分别选自玻璃、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酰亚胺和聚醚砜中的至少一种。进一步可选的，所述阳极透明基板和所述阴极透明基板的材质分别选自玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯中的至少一种。所述阳极透明基板和所述阴极透明基板的材质可以相同，也可以不同。

可选的，所述透明电解质层包括含锂离子、氢离子和/或钠离子的电解质。所述透明电解质层中的电解质可以进行电子的转移和储存。

可选的，所述阳极透明导电层的厚度为

所述阴极透明导电层的厚度为

进一步可选的，所述阳极透明导电层的厚度为

或1μm-1.3μm，所述阴极透明导电层的厚度为

或1μm-1.3μm。所述阳极透明导电层的厚度和所述阴极透明导电层的厚度可以相同，也可以不同。

可选的，所述阳极透明基板的厚度为1μm-5μm，所述阴极透明基板的厚度为1μm-5μm。进一步可选的，所述阳极透明基板的厚度为1.3μm-4.5μm、1.5μm-4μm或2μm-3μm，所述阴极透明基板的厚度为1.3μm-4.5μm、1.5μm-4μm或2μm-3μm。所述阳极透明基板的厚度和所述阴极透明基板的厚度可以相同，也可以不同。

可选的，所述透明电解质层的厚度为1μm-3μm。进一步可选的，所述透明电解质层的厚度为1.3μm-2.7μm、1.7μm-2.5μm或2μm-2.3μm。

可选的，所述遮光板的紫外光透过率大于90％或小于10％。

可选的，所述遮光板的响应时间为40-250ms。在本发明中，响应时间是指遮光板从无色变为有色或者从有色变为无色的时间。

本发明第一方面提供的遮光板，设有阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，代替传统机械式遮光板，避免了开合时间，并且在电场作用下可以改变颜色，从而控制紫外光的透过率，响应时间短。同时，该遮光板在同一曝光范围内的紫外光透过率一致，保证了紫外光照射能量的均一性，有利于曝光工艺的进行。

第二方面，本发明提供了一种遮光板的制备方法，包括：

(1)提供阳极透明基板和阴极透明基板，在所述阳极透明基板的一侧沉积阳极透明导电层，在所述阴极透明基板的一侧沉积阴极透明导电层，以及在所述阳极透明导电层上沉积阳极电致变色层和/或在所述阴极透明导电层上沉积阴极电致变色层；

(2)将完成步骤(1)的所述阳极透明基板与所述阴极透明基板相对设置，并在两者之间填充透明电解质层，使得所述阳极电致变色层位于所述阳极透明导电层与所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明导电层与所述透明电解质层之间。

在本发明中制备得到的遮光板中可以仅存在阳极电致变色层或仅存在阴极电致变色层，也可以同时存在阳极电致变色层和阴极电致变色层。

可选的，所述沉积包括物理气相沉积、化学气相沉积或共沉淀法。具体的，所述沉积可以但不限于为磁控溅射、反应离子镀、真空化学气相沉积、共沉淀法。具体的，可以但不限于通过磁控溅射在所述阳极透明基板的一侧沉积所述阳极透明导电层，在所述阴极透明基板的一侧沉积所述阴极透明导电层。具体的，可以但不限于通过磁控溅射在所述阳极透明导电层上沉积阳极电致变色层和/或在所述阴极透明导电层上沉积阴极电致变色层。具体的，所述共沉淀法在氮气气氛下进行。

可选的，将完成步骤(1)的所述阳极透明基板与所述阴极透明基板相对设置，并在两者之间填充透明电解质层，包括：

通过注射法或真空灌注法，注入电解质溶胶并在预设烘烤温度下烘烤至电解质溶胶聚合并固化形成所述透明电解质层。其中，所述电解质溶胶包括含锂离子、氢离子和/或钠离子的电解质。可选的，所述电解质层的制备过程在氮气气氛下进行。具体的，所述透明电解质层的制备方法不做限定。

可选的，所述阳极电致变色层的材质包括可通过先氧化后还原的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物，所述阴极电致变色层的材质包括可通过先还原后氧化的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物。也就是说，所述阳极电致变色层的材质包括通过先氧化后还原的方式实现无色到有色之间可逆变色的化合物，或包括通过先氧化后还原的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。所述阴极电致变色层的材质包括通过先还原后氧化的方式实现无色到有色可逆变色的化合物，或包括通过先还原后氧化的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。可选的，当同时存在阳极电致变色层和阴极电致变色层时，所述阳极电致变色层和阴极电致变色层的材质包括可通过氧化还原反应同时从无色变为有色或同时从有色变为无色的化合物。可选的，所述遮光板的紫外光透过率大于90％或小于10％。可选的，所述遮光板的响应时间为40-250ms。

本发明第二方面提供的一种遮光板的制备方法，其制作工艺简单，生产成本不高，过程可控，易于实现，适合工业化、规模化生产。

第三方面，本发明提供了一种曝光机，包括如第一方面所述的遮光板。

其中，所述曝光机还包括集光镜、蝇眼、反射镜模组。反射镜模组包括第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜。第一反射镜与集光镜相对放置并接收集光镜汇聚的紫外光，第二反射镜接受经第一反射镜反射并通过遮光板和蝇眼的紫外光，将紫外光传给第三反射镜，第三反射镜发射出曝光所用光线。所述遮光板位于所述第一反射镜和所述蝇眼之间，且紫外光从所述遮光板的阳极透明基板穿过，阴极透明基板穿出，或从所述遮光板的阴极透明基板穿过，阳极透明基板穿出。

其中，所述遮光板中的阳极透明导电层与电源负极相连，所述遮光板中的阴极透明导电层与电源正极相连。

可选的，所述遮光板在未通电状态下的紫外光透过率大于90％，在通电状态下的紫外光透过率小于10％；或者所述遮光板在未通电状态下的紫外光透过率小于10％，在通电状态下的紫外光透过率大于90％。理所应当的，当所述遮光板在通电状态下的紫外光透过率大于90％或小于10％，当所述遮光板在未通电状态下或者置于与所述通电状态下相反的电场中时，所述遮光板的紫外光透过率小于10％或大于90％。

本发明第三方面提供的一种曝光机，其中遮光板的响应时间为40-250ms，使用寿命长，满足量产需求。

本发明的有益效果：

(1)本发明提供的遮光板设有阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，代替传统机械式遮光板，避免了开合时间，并且在电场作用下可以改变颜色，从而控制紫外光的透过率，响应时间短；

(2)本发明提供的遮光板在同一曝光范围内的紫外光透过率一致，保证了紫外光照射能量的均一性，实现精确曝光，提高产品的品质以及曝光工艺稳定性，应用于曝光机中可以满足量产需求。

附图说明

图1为现有技术中的曝光机的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的遮光板的制备流程示意图；

图3为本发明实施例提供的第一种遮光板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的第二种遮光板的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的第三种遮光板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种曝光机的结构示意图。

具体实施方式

以下所述是本发明实施例的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明实施例原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明实施例的保护范围。

请参阅图1，为本发明实施提供的一种遮光板的制备方法，包括如下步骤:

步骤S101：提供阳极透明基板和阴极透明基板，在所述阳极透明基板的一侧沉积阳极透明导电层，在所述阴极透明基板的一侧沉积阴极透明导电层，以及在所述阳极透明导电层上沉积阳极电致变色层和/或在所述阴极透明导电层上沉积阴极电致变色层。

在步骤S101中，阳极透明基板和阴极透明基板的材质分别选自玻璃、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酰亚胺和聚醚砜中的至少一种。进一步可选的，阳极透明基板和阴极透明基板的材质分别选自玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯中的至少一种。阳极透明基板和阴极透明基板的材质可以相同，也可以不同。阳极透明基板的厚度为1μm-5μm，阴极透明基板的厚度为1μm-5μm。进一步可选的，阳极透明基板的厚度为1.3μm-4.5μm、1.5μm-4μm或2μm-3μm，阴极透明基板的厚度为1.3μm-4.5μm、1.5μm-4μm或2μm-3μm。阳极透明基板的厚度和阴极透明基板的厚度可以相同，也可以不同。

在步骤S101中，阳极透明导电层和阴极透明导电层的材质分别选自氧化铟锡、氧化锡、氧化锡掺锑、氧化锌和氧化锌掺铝中的至少一种。进一步可选的，阳极透明导电层和阴极透明导电层的材质分别选自氧化铟锡和氧化锡中的至少一种。阳极透明导电层和阴极透明导电层的材质可以相同，也可以不同。阳极透明导电层的厚度为

阴极透明导电层的厚度为

进一步可选的，阳极透明导电层的厚度为

或1μm-1.3μm，阴极透明导电层的厚度为

或1μm-1.3μm。阳极透明导电层的厚度和阴极透明导电层的厚度可以相同，也可以不同。

在步骤S101中，所述沉积包括物理气相沉积、化学气相沉积或共沉淀法。具体的，所述沉积可以但不限于为磁控溅射、反应离子镀、真空化学气相沉积、共沉淀法。进一步可选的，通过磁控溅射在阳极透明基板的一侧沉积阳极透明导电层以及在阴极透明基板的一侧沉积阴极透明导电层。

在步骤S101中，阳极电致变色层的材质包括可通过先氧化后还原的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物。阴极电致变色层的材质包括可通过先还原后氧化的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物。也就是说，阳极电致变色层的材质包括通过先氧化后还原的方式实现无色到有色之间可逆变色的化合物，或包括通过先氧化后还原的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。阴极电致变色层的材质包括通过先还原后氧化的方式实现无色到有色可逆变色的化合物，或包括通过先还原后氧化的方式实现有色到无色之间可逆变色的化合物。当同时存在阳极电致变色层和阴极电致变色层时，所述阳极电致变色层和阴极电致变色层的材质包括可通过氧化还原反应同时从无色变为有色或同时从有色变为无色的化合物。可选的，所述阳极电致变色层和所述阴极电致变色层的材质分别选自过渡金属化合物、聚噻吩类及其衍生物、聚苯胺类及其衍生物和紫罗精类化合物中的至少一种。具体的，所述阳极电致变色层的材质可以但不限于氢氧化铱、普鲁士白、钨青铜，所述阴极电致变色层的材质可以但不限于三氧化钨、二氧化铱、氧化钼、氧化钛。可选的，所述阳极电致变色层的厚度为

所述阴极电致变色层的厚度为

进一步可选的，所述阳极电致变色层的厚度为

或1μm-1.7μm。进一步可选的，所述阴极电致变色层的厚度为

或1μm-1.7μm。所述阳极电致变色层的厚度和所述阴极电致变色层的厚度可以相同，也可以不同。

步骤S102：将完成步骤S101的所述阳极透明基板与所述阴极透明基板相对设置，并在两者之间填充透明电解质层，使得所述阳极电致变色层位于所述阳极透明导电层与所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明导电层与所述透明电解质层之间。

在步骤S102中，透明电解质层包括含锂离子、氢离子和/或钠离子的电解质。透明电解质层中的电解质可以进行电子的转移和储存。透明电解质层的厚度为1μm-3μm。进一步的，透明电解质层的厚度为1.3μm-2.7μm、1.7μm-2.5μm或2μm-2.3μm。进一步可选的，所述阳极透明导电层和所述透明电解质层之间通过磁控溅射沉积有阳极电致变色层和/或所述阴极透明导电层和所述透明电解质层之间通过磁控溅射沉积有阴极电致变色层。

在本发明一具体实施方式中，将完成步骤S101的所述阳极透明基板与所述阴极透明基板相对设置，并在两者之间填充透明电解质层，包括：

通过注射法或真空灌注法，注入电解质溶胶并在预设烘烤温度下烘烤至电解质溶胶聚合并固化形成所述透明电解质层。其中，所述电解质溶胶包括含锂离子、氢离子和/或钠离子的电解质。可选的，所述电解质层的制备过程在氮气气氛下进行。具体的，所述透明电解质层的制备方法不做限定。

本发明提供的一种遮光板的制备方法，制备工艺简单，操作工艺成熟，适合工业化生产。

在本发明中，遮光板在未通电状态下的紫外光透过率大于90％，在通电状态下的紫外光透过率小于10％；或者所述遮光板在未通电状态下的紫外光透过率小于10％，在通电状态下的紫外光透过率大于90％。也就是说根据阳极电致变色层和/或阴极电致变色层材质的不同，遮光板在未通电状态下可以为无色状态或有色状态，在通电状态下转变为有色状态或无色状态。当遮光板为无色状态时，紫外光可以通过，紫外光的透过率大于90％；当遮光板为有色状态时，紫外光不能通过或有极少的紫外光通过，紫外光的透过率小于10％。理所应当的，当所述遮光板在通电状态下的紫外光透过率大于90％或小于10％，当所述遮光板在未通电状态下或者置于与所述通电状态下相反的电场中时，所述遮光板的紫外光透过率小于10％或大于90％。也就是说，除了采用不通电的方式，也可以采用置于相反电场中，使得遮光板的紫外透过率发生变化。

在本发明中，请参阅图2，为本发明提供的一种遮光板的结构示意图，包括阳极透明基板11、阳极透明导电层21、阳极电致变色层31、透明电解质层40、阴极电致变色层32、阴极透明导电层22和阴极透明基板12，此遮光板同时含有阳极电致变色层和阴极电致变色层，且阳极电致变色层和阴极电致变色层的材质可以通过氧化还原反应同时从无色变为有色或从有色变为无色，提高遮光板的工作效率，保证紫外光透过能量的均一性，有利于曝光工艺的进行。

在本发明中，请参阅图3，为本发明提供的一种遮光板的结构示意图，包括阳极透明基板11、阳极透明导电层21、阳极电致变色层31、透明电解质层40、阴极透明导电层22和阴极透明基板12，此遮光板仅含有阳极电致变色层，节省材料，同时还能保证紫外光透过能量的均一性，有利于曝光工艺的进行。

在本发明中，请参阅图4，为本发明提供的一种遮光板的结构示意图，包括阳极透明基板11、阳极透明导电层21、透明电解质层40、阴极电致变色层32、阴极透明导电层22和阴极透明基板12，此遮光板仅含有阴极电致变色层，节省材料，同时还能保证紫外光透过能量的均一性，有利于曝光工艺的进行。

本发明提供的一种遮光板，包括了阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，阳极电致变色层和/或阴极电致变色层的材质通过氧化还原反应改变遮光板紫外光的透过率，使得紫外光在同一时间内的透过率始终保持一致，保证了穿过的紫外光照射能量的均一性，有利于曝光工艺的进行。

本发明还提供了包括上述遮光板的曝光机，如图6所示，所述曝光机包括集光镜110、蝇眼140、遮光板132和反射镜模组。反射镜模组包括第一反射镜121、第二反射镜122和第三反射镜123。第一反射镜121与集光镜110相对放置并接收集光镜110汇聚的紫外光，第二反射镜122接受经第一反射镜121反射并通过遮光板132和蝇眼140的紫外光，将紫外光传给第三反射镜123，第三反射镜123发射出曝光所用光线。所述遮光板132位于所述第一反射镜121和所述蝇眼140之间，且紫外光从所述遮光板132的阳极透明基板穿过，阴极透明基板穿出，或从所述遮光板132的阴极透明基板穿过，阳极透明基板穿出。所述遮光板132中的阳极透明导电层与电源负极相连，所述遮光板132中的阴极透明导电层与电源正极相连。所述遮光板132在未通电状态下的紫外光透过率大于90％，在通电状态下的紫外光透过率小于10％；或者所述遮光板132在未通电状态下的紫外光透过率小于10％，在通电状态下的紫外光透过率大于90％。理所应当的，当所述遮光板在通电状态下的紫外光透过率大于90％或小于10％，当所述遮光板在未通电状态下或者置于与所述通电状态下相反的电场中时，所述遮光板的紫外光透过率小于10％或大于90％。

本发明提供的曝光机中的遮光板响应时间为40-250ms，使用寿命长，满足量产需求。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种遮光板，用于曝光机中，其特征在于，包括相对设置的阳极透明基板和阴极透明基板，以及位于所述阳极透明基板与所述阴极透明基板之间的透明电解质层和电致变色层，所述阳极透明基板朝向所述阴极透明基板的一侧设置有阳极透明导电层，所述阴极透明基板朝向所述阳极透明基板的一侧设置有阴极透明导电层，所述透明电解质层位于所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层之间，所述电致变色层包括阳极电致变色层和/或阴极电致变色层，所述阳极电致变色层位于所述阳极透明导电层和所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明导电层和所述透明电解质层之间，所述阳极电致变色层的材质包括可通过先氧化后还原的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物，所述阴极电致变色层的材质包括可通过先还原后氧化的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物；所述遮光板的紫外光透过率大于90％或小于10％，所述遮光板的响应时间为40ms-250ms。

2.如权利要求1所述的遮光板，其特征在于，当所述电致变色层包括阳极电致变色层和阴极电致变色层时，所述阳极电致变色层和阴极电致变色层的材质包括可通过氧化还原反应同时从无色变为有色或同时从有色变为无色的化合物。

3.如权利要求1或2所述的遮光板，其特征在于，所述阳极电致变色层和所述阴极电致变色层的材质分别选自过渡金属化合物、聚噻吩类及其衍生物、聚苯胺类及其衍生物和紫罗精类化合物中的至少一种。

4.如权利要求1所述的遮光板，其特征在于，所述阳极电致变色层的厚度为

所述阴极电致变色层的厚度为

5.如权利要求1所述的遮光板，其特征在于，所述阳极透明导电层和所述阴极透明导电层的材质分别选自氧化铟锡、氧化锡、氧化锡掺锑、氧化锌和氧化锌掺铝中的至少一种，所述阳极透明基板和所述阴极透明基板的材质分别选自玻璃、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酰亚胺和聚醚砜中的至少一种，所述透明电解质层包括含锂离子、氢离子和钠离子中的至少一种离子的电解质。

6.如权利要求1所述的遮光板，其特征在于，所述阳极透明导电层的厚度为

所述阴极透明导电层的厚度为

所述阳极透明基板的厚度为1μm-5μm，所述阴极透明基板的厚度为1μm-5μm，所述透明电解质层的厚度为1μm-3μm。

7.一种遮光板的制备方法，所述遮光板用于曝光机中，其特征在于，包括：

(1)提供阳极透明基板和阴极透明基板，在所述阳极透明基板的一侧沉积阳极透明导电层，在所述阴极透明基板的一侧沉积阴极透明导电层，以及在所述阳极透明导电层上沉积阳极电致变色层和/或在所述阴极透明导电层上沉积阴极电致变色层；

(2)将完成步骤(1)的所述阳极透明基板与所述阴极透明基板相对设置，并在两者之间填充透明电解质层，使得所述阳极电致变色层位于所述阳极透明导电层与所述透明电解质层之间，所述阴极电致变色层位于所述阴极透明导电层与所述透明电解质层之间，所述阳极电致变色层的材质包括可通过先氧化后还原的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物，所述阴极电致变色层的材质包括可通过先还原后氧化的方式实现无色与有色之间可逆变色的化合物；所述遮光板的紫外光透过率大于90％或小于10％，所述遮光板的响应时间为40ms-250ms。

8.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1-6任一项所述的遮光板。

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