CN108504997A - 一种高光刀电弧涂层工艺 - Google Patents

一种高光刀电弧涂层工艺 Download PDF

Info

Publication number
CN108504997A
CN108504997A CN201810205164.6A CN201810205164A CN108504997A CN 108504997 A CN108504997 A CN 108504997A CN 201810205164 A CN201810205164 A CN 201810205164A CN 108504997 A CN108504997 A CN 108504997A
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
changing
electric arc
finishing tool
high finishing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201810205164.6A
Other languages
English (en)
Inventor
于忠光
王亚男
刘生华
王祖成
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guohong Tool System (wuxi) Ltd By Share Ltd
Original Assignee
Guohong Tool System (wuxi) Ltd By Share Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guohong Tool System (wuxi) Ltd By Share Ltd filed Critical Guohong Tool System (wuxi) Ltd By Share Ltd
Priority to CN201810205164.6A priority Critical patent/CN108504997A/zh
Publication of CN108504997A publication Critical patent/CN108504997A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。既保证了涂层液滴，也可以增加涂层的结合力，刀具寿命提高一倍。

Description

一种高光刀电弧涂层工艺
技术领域
本发明属于刀具加工制造领域，具体地涉及高光刀电弧涂层工艺。
背景技术
当前，在通信、计算机、网络等电子信息技术相互融合发展的大趋势下，中国消费电子产业融合创新、发展的势头越来越明显，随着3C行业的发展，对于3C的加工工艺有了更高的要求，特别是推行指纹识别技术有了高光刀的产生，整个指纹扫描系统包括扁平的蓝宝石晶体、不锈钢检测圈以及指纹扫描阵列，它们全都整合在HOME键中，HOME键中的不锈钢检测圈，需要达到高光要求，必须切削完无刀纹，以及要求高亮的要求。
目前常见的表面涂镀技术，包括物理气相沉积、化学气相沉积、热喷涂、化学键、电镀等。与其它提高材料表面性能的方法相比，气相沉积技术由于沉积温度低、无污染等独特的优点，在现代材料表面改性技术中占有重要的地位。而真空阴极电弧离子镀技术作为技术的一种，已经成为涂层生产的主流技术，电弧离子镀有一个缺点，那就是在薄膜沉积过程中，从阴极面飞溅出的液态颗粒，即液滴(直径从纳米级到微米级)，也会随着把材离子一起沉积在薄膜中，它们镶嵌在膜层中，或散布在薄膜表面，有的甚至超过了常见薄膜厚度贯穿于整个膜层，不仅大大降低了薄膜的表面光洁度，而且破坏了薄膜的连续性，严重影响薄膜的质量和性能。而且液滴也是影响高光刀质量最重要的一个因素。
发明内容
本发明旨在克服现有技术的缺陷，针对上述问题，提供了一种高光刀电弧涂层工艺。从薄膜沉积工艺参数(氮气压强、脉冲偏压)，通过改变不同的工艺参数来观察其对薄膜表面液滴数量、尺寸、分布的影响。
为了解决上述技术问题，本发明提供以下技术方案：
一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。
优选的，a步骤中，氮气的通气量真空度值是3.5E-2mbar。
优选的，b步骤中，脉冲偏压-150V。
与现有技术相比较，本发明具有如下的有益效果：
1、本涂层高光刀工艺涂层在氮气气压保持在3.5E-2mbar，以及保持脉冲偏压-150V的情况下，涂层的液滴最少，涂层质量最好。
2.在改变涂层偏压的情况下，既保证了涂层液滴，也可以增加涂层的结合力，刀具寿命提高一倍。
具体实施方式
以下对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例一种高光刀电弧涂层工艺，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；a步骤中，氮气的通气量真空度值是3.5E-2mbar。在涂层过程中，产生的液滴比较少，刀具表面达到高光效果。
b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。b步骤中，脉冲偏压-150V。
经过多次测试，涂层刀具在切削过程中的磨损行为更能直观衡量涂层刀具的寿命。
以上所述仅为说明本发明的实施方式，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，包括以下步骤，a、使用真空阴极电弧离子镀对高光刀具表面进行涂层处理，通过改变氮气的通气量，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸；b、涂层偏压选择，在相同条件下，通过改变脉冲偏压来改变涂层偏压的情况，观察刀具表面的液滴数量以及尺寸，处理工艺完毕。
2.根据权利要求1所述一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，a步骤中，氮气的通气量真空度值是3.5E-2mbar。
3.根据权利要求1所述一种高光刀电弧涂层工艺，其特征在于，b步骤中，脉冲偏压-150V。
CN201810205164.6A 2018-03-13 2018-03-13 一种高光刀电弧涂层工艺 Pending CN108504997A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810205164.6A CN108504997A (zh) 2018-03-13 2018-03-13 一种高光刀电弧涂层工艺

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810205164.6A CN108504997A (zh) 2018-03-13 2018-03-13 一种高光刀电弧涂层工艺

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108504997A true CN108504997A (zh) 2018-09-07

Family

ID=63376482

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810205164.6A Pending CN108504997A (zh) 2018-03-13 2018-03-13 一种高光刀电弧涂层工艺

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108504997A (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862022A (en) * 1996-09-19 1999-01-19 Tdk Corporation Ferromagnetic tunnel junction, magnetoresistive element and magnetic head
CN102080207A (zh) * 2010-12-25 2011-06-01 深圳市广大纳米工程技术有限公司 一种DLC/TiAlN/CrN/Cr多层超硬膜涂层及其制备方法
CN102177278A (zh) * 2008-10-10 2011-09-07 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) 非γ-相的立方AlCrO
US20120128971A1 (en) * 2009-08-04 2012-05-24 Miho Shibata Coated Member
CN102725434A (zh) * 2010-02-04 2012-10-10 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) 具有AL-Cr-B-N/Ti-Al-N多层覆层的切削工具
CN103732785A (zh) * 2011-06-30 2014-04-16 拉米娜科技 阴极电弧沉积法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5862022A (en) * 1996-09-19 1999-01-19 Tdk Corporation Ferromagnetic tunnel junction, magnetoresistive element and magnetic head
CN102177278A (zh) * 2008-10-10 2011-09-07 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) 非γ-相的立方AlCrO
US20120128971A1 (en) * 2009-08-04 2012-05-24 Miho Shibata Coated Member
CN102725434A (zh) * 2010-02-04 2012-10-10 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) 具有AL-Cr-B-N/Ti-Al-N多层覆层的切削工具
CN102080207A (zh) * 2010-12-25 2011-06-01 深圳市广大纳米工程技术有限公司 一种DLC/TiAlN/CrN/Cr多层超硬膜涂层及其制备方法
CN103732785A (zh) * 2011-06-30 2014-04-16 拉米娜科技 阴极电弧沉积法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100467664C (zh) 一种类金刚石碳膜制造方法和用其制造的带包覆膜的部件
CN102224276B (zh) 溅射靶及其制造方法
Ming'e et al. Morphology and mechanical properties of TiN coatings prepared with different PVD methods
US10006116B2 (en) Forming method of intermediate layer formed between base material and DLC film, DLC film forming method, and intermediate layer formed between base material and DLC film
CN102965619A (zh) 一种多元金属掺杂无氢类金刚石碳膜的制备方法
US20200331798A1 (en) Graded coating of element diffusion inhibition and adhesion resistance on mold for glass molding
CN111482622B (zh) 一种涂层切削刀具及其制备方法
TW202113148A (zh) 電子設備及其鋼化加強膜和製備方法及應用
CN102817008B (zh) Ag、Ti共掺杂DLC薄膜的制备方法
US20130157044A1 (en) Coated article and method for making same
CN111763945A (zh) 一种具有多层强化涂层的剃须刀片及其制备方法
CN113235041A (zh) 一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用
CN105316634A (zh) 一种Cr-B-C-N纳米复合薄膜的制备方法
CN108504997A (zh) 一种高光刀电弧涂层工艺
CN110373638A (zh) 一种涂层硬质合金切削刀片及其制作方法
CN107012424B (zh) 一种TiZrB2硬质涂层及其制备方法和应用
CN112969821A (zh) 制造带涂层切削工具的方法
US10145007B2 (en) DLC film film-forming method
Wang et al. Ir coating prepared on Mo substrate by double glow plasma
CN203683653U (zh) 复合式沉积系统
CN102560413B (zh) 类钻碳膜及其制作方法
Novak et al. Study of hard PVD coatings on strongly curved surfaces
CN108330445B (zh) 一种冲孔针头表面多弧离子镀掺杂钛的类金刚石膜的方法
CN101623943B (zh) 一种镀膜材料及其制备方法
CN112317284B (zh) 一种切削刀具用涂层材料及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180907