CN108466504B - 光学防伪元件和光学防伪产品 - Google Patents

光学防伪元件和光学防伪产品 Download PDF

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Abstract

本发明涉及高安全或高附加值印刷品领域，公开了一种光学防伪元件和光学防伪产品。该光学防伪元件包括基材；以及位于所述基材的至少一个表面上的至少部分区域上的微浮雕结构；所述微浮雕结构被定义为：在第一复合色光束照射所述微浮雕结构时，在透射和/或反射零级光方向上呈现第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现第二颜色和/或颜色变化；以及在第二光束照射所述微浮雕结构时，在距离所述光学防伪元件一距离的位置呈现图像。该光学防伪产品包括上述光学防伪元件。藉此，实现了防伪技术无法复制，满足了高安全产品的防伪要求。

Description

光学防伪元件和光学防伪产品
技术领域
本发明涉及高安全或高附加值印刷品领域，具体地，涉及一种光学防伪元件和光学防伪产品。
背景技术
为了防止利用扫描和复印等手段产生的伪造，钞票、证卡和产品包装等各类高安全或高附加值印刷品中广泛采用了衍射光变图像(比如全息图、动态衍射图等)光学防伪元件，并且取得了非常好的效果。比如，欧元大面额的券种采用了衍射光变图像烫印标识，小面额采用了衍射光变图像烫印宽条，我国人民币除1元券外都采用了衍射光变图像开窗安全线，Visa、MasterCard和我国的银联信用卡采用了衍射光变图像烫印标识，我国的身份证、驾驶证、护照等重要证件也都采用了衍射光变图像防伪技术。到目前为止，世界上的大多数钞票、信用卡、护照等安全证卡采用了衍射光变图像防伪技术。
用于防伪的衍射光变图像是一种浮雕结构的光栅，当照明光照射到其表面时，发生衍射作用，利用其1级(或-1级)衍射光形成再现图像，实现醒目的动感、立体、颜色变化等大众防伪特征。
随着衍射光变图像技术的日益普及，该技术在一般商品及包装中也得到了广泛的应用，比如烟、酒、药品等的包装，甚至纺织品、玩具的标签都采用了该技术。使得该技术的防伪性能大打折扣。
发明内容
本发明的目的是提供一种光学防伪元件和光学防伪产品，其可实现防伪技术无法复制，满足高安全产品的防伪要求。
为了实现上述目的，本发明的一个方面提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：基材；以及位于基材的至少一个表面上的至少部分区域上的微浮雕结构；微浮雕结构被定义为：在第一复合色光束照射微浮雕结构时，在透射和/或反射零级光方向上呈现第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现第二颜色和/或颜色变化；以及在第二光束照射微浮雕结构时，在距离光学防伪元件一距离的位置呈现图像。
可选地，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现的第二颜色和/或颜色变化为在透射和/或反射一级衍射光方向上在光学防伪元件表面或表面附近呈现的具有第二颜色和/或颜色变化的图像。
可选地，微浮雕结构包括凹陷或凸起结构，凹陷或凸起结构的周期的范围为0.5μm至6μm。
可选地，凹陷或凸起结构的周期的范围为1μm至4μm。
可选地，该光学防伪元件还包括以下中的至少一者：位于基材和微浮雕结构之间的第一功能层；位于基材和微浮雕结构之间的用于形成微浮雕结构的微浮雕结构形成层。
可选地，该光学防伪元件还包括：形成在微浮雕结构上的覆盖层，覆盖层的材料是透明的且折射率与微浮雕结构的材料的折射率不同。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为400nm至2000nm。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为600nm至1200nm。
可选地，该光学防伪元件还包括：形成在微浮雕结构上的覆盖层，覆盖层的材料为金属油墨或金属涂料。
可选地，覆盖层的材料为纳米金属油墨或纳米金属涂料。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为200nm至1000nm。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为300nm至700nm。
可选地，该光学防伪元件还包括：形成在覆盖层上的第二功能层。
可选地，该光学防伪元件还包括：至少部分覆盖微浮雕结构的镀层。
可选地，镀层为单层镀层，镀层的材料为折射率大于1.8的透明材料，镀层的厚度的范围为5nm至500nm；或镀层为由折射率大于1.8的透明材料和折射率小于1.8的透明材料交替形成的多层镀层。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为400nm至2000nm。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为600nm至1200nm。
可选地，镀层为由金属材料形成的反射层，镀层的厚度的范围为5nm至500nm。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为200nm至1000nm。
可选地，微浮雕结构的深度的范围为300nm至700nm。
可选地，镀层为吸收层/介质层/反射层三层结构，吸收层和所述反射层为金属层，介质层的材料为透明材料，吸收层的厚度的范围为2nm至10nm，反射层的厚度的范围为5nm至500nm，介质层的厚度的范围为50nm至2000nm。
可选地，镀层为吸收层/介质层/反射层/介质层/吸收层五层结构，吸收层和反射层为金属层，介质层的材料为透明材料，吸收层的厚度的范围为2nm至10nm，反射层的厚度的范围为5nm至500nm，介质层的厚度的范围为50nm至2000nm。
可选地，该光学防伪元件还包括：形成在镀层上的至少局部透明的功能层。
可选地，具有第二颜色和/或颜色变化的图像或在距离光学防伪元件一距离的位置呈现图像中的图像为以下任意一者或任意组合：平面图像、立体图像、动感图像、变换图像。
本发明的另一方面提供一种应用上述的光学防伪元件的光学防伪产品。
通过上述技术方案，通过在基材上形成微浮雕结构，第一复合色光束照射该微浮雕结构时，在透射和/或反射零级光方向上呈现第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现第二颜色和/或颜色变化；第二光束照射该微浮雕结构时，在距离光学防伪元件一距离的位置呈现图像。如此，实现了在照射微浮雕结构时，在透射和/或反射光束方向上既有颜色或颜色变化又有图像呈现，实现了防伪技术无法复制，满足了高安全产品的防伪要求。
本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是根据本发明的一实施方式提供的光学防伪元件的结构示意图；
图2是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件的结构示意图；
图3是图2所示的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的局部放大图；
图4是根据本发明的一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图；
图5是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图；
图6是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图；以及
图7是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图。
附图标记说明
101 微浮雕结构区域 102 可选区域
201 基材 202 第一功能层
203 微浮雕结构形成层 204 微浮雕结构
205 覆盖层 206 第二功能层
207 镀层 208 功能层
1 光学防伪元件
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
图1是根据本发明的一实施方式提供的光学防伪元件的结构示意图。如图1所示，光学防伪元件包括基材201和微浮雕结构204。微浮雕结构204位于基材201的至少一个表面上的至少部分区域上。在第一复合色光束L1照射微浮雕结构204时，在透射和/或反射零级光方向上呈现第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现第二颜色和/或颜色变化；在第二光束L2照射微浮雕结构204时，在距离光学防伪元件一距离的位置呈现图像。所呈现的图像与微浮雕结构204的分布有关。此外，第一复合色光束L1照射微浮雕结构204时在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现的第二颜色和/或颜色变化可以是呈现在光学防伪元件表面或表面附近具有第二颜色和/或颜色变化的图像(注：图像与光学防伪元件表面之间的距离通常小于5厘米，距离大图像模糊)。在该实施方式中，第一复合色光束L1照射微浮雕结构204时在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现的具有第二颜色和/或颜色变化的图像或第二光束L2照射微浮雕结构204时在距离所述光学防伪元件一距离的位置呈现的图像可以为以下中的任意一者或任意组合：平面图像、立体图像、动感图像、变换图像。如此，光束照射微浮雕结构区域204时，既会呈现颜色或颜色变化，又会呈现图像，实现了防伪技术无法复制，提高防伪性能，满足了高安全产品的防伪要求。
图2是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件的结构示意图。如图2所示，光学防伪元件1包括带有凸起或凹陷结构的微浮雕结构的微浮雕结构区域101和可选区域102。若微浮雕结构覆盖在至少一个表面的全部区域时，则无可选区域102；若微浮雕结构覆盖在至少一个表面的局部区域时，则有可选区域102。以第一复合色光束L1照射微浮雕结构区域101时，在透射和/或反射零级光方向上呈现主波长λ为的第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光呈现第二颜色和/或颜色变化；以第二光束L2照射微浮雕结构区域101时，在距离所述防伪元件1一定距离的位置上一级衍射光再现图像，比如再现一个字母“A”，或者一棵树等等。其中，第二光束L2可以为第一复合色光束L1、另一复合色光束或者另一单色光束。该光学防伪元件1可为透射防伪元件也可为反射防伪元件，与其结构有关。
图3是图2所示的光学防伪元件中的微浮雕结构区域101的局部放大图，示意性的显示了微浮雕结构的分布。
图4是根据本发明的一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图，示意性的显示了带有凸起或凹陷结构的微浮雕结构以及产品的层状结构。在该实施方式中，光学防伪元件包括基材201、第一功能层202、微浮雕结构形成层203和形成在微浮雕结构形成层203上的微浮雕结构204。基材201为透明材料，如PVC、PET、PC、玻璃板等。第一功能层202是可选的，根据产品的具体要求决定是否设置，并且可以是一层，也可以是多层。比如，如果光学元件1为烫印标识，第一功能层202设置为剥离层，即当光学元件1转移到承载物上后，基材201在第一功能层202处与微浮雕结构形成层203分离；如果产品要求基材201与浮雕结构形成层203附着牢度好，第一功能层202即为附着力增强层；第一功能层202还可以带有荧光、磁性等技术特征。微浮雕结构形成层203的作用是为了形成槽型、槽深一致的高质量微浮雕结构，这一层也是可选的。事实上，根据产品的具体要求，微浮雕结构204可以直接形成在基材201上，也可以形成在第一功能层202上。
图5是根据本发明的一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图。如图5所示，光学防伪元件包括基材201、第一功能层202、微浮雕结构形成层203、形成在微浮雕结构形成层203上的微浮雕结构204和形成在微浮雕结构204上的覆盖层205以及形成在覆盖层205上的第二功能层206。该第二功能层206是另一可选功能层，其可以是一层，也可以是多层，具有保护、粘结等功能，还可以带有荧光、磁性、印刷图案等技术特征。形成覆盖层205的材料为折射率不同于形成微浮雕结构204的材料的透明材料、金属油墨或金属涂料等，可以优选纳米金属油墨或纳米金属涂料。
图6是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图。如图6所示，光学防伪元件包括基材201、第一功能层202、微浮雕结构形成层203、形成在微浮雕结构形成层203上的微浮雕结构204和形成在微浮雕结构204上形同覆盖微浮雕结构204的镀层207。其中，镀层207可以局部覆盖，形成镂空图案，也可以全部覆盖。
图7是根据本发明的另一实施方式提供的光学防伪元件中的微浮雕结构区域的截面示意图。在该实施方式中，光学防伪元件在图6所示的光学防伪元件的基础上，在镀层207上增加了至少局部透明的功能层208。功能层208可以是一层，也可以是多层，具有保护、粘结等功能，还可以带有荧光、磁性、印刷图案等技术特征。功能层208的至少局部透明的特点与印刷图案有关，当图案为镂空图案，且该镂空图案不透光时，则功能层208局部透明。
在根据本发明的实施方式中，镀层207可以有多种不同的选择。其中，镀层207的一种选择为由高折射率材料形成的单层镀层。高折射率材料通常指折射率大于1.8的透明材料，比如ZnS、Bi2O3、HfO2、SnO2、TiO2等，镀层厚度的范围可以为5nm至500nm。该种情况的镀层的厚度较小时(通常小于50nm)为无色或者材料本身颜色的透明膜，厚度较厚时为单层干涉膜，呈现某种颜色和/或(随观察角度的)颜色变化，这种颜色和/或颜色变化由材料的折射率和厚度决定，因此可以通过选择合适的材料和镀层厚度匹配微浮雕结构区域101中的微浮雕结构204，达到增强或者改变微浮雕结构区域101中的微浮雕结构204颜色再现效果的目的。该高折射率的单层镀层可以作为反射层，使光学防伪元件成为反射元件。由于该镀层是透明的，也可以使光学防伪元件成为透射元件。进一步，可以优化光学防伪元件的微浮雕结构区域101中的微浮雕结构204的槽型槽深、微浮雕结构204的材料折射率、功能层208材料折射率等参数，使得光学防伪元件的微浮雕结构区域101在第一复合色光束L1照明条件下，该微浮雕结构区域101透射零级光和反射零级光分别呈现不同的第一颜色和/或颜色变化，透射一级衍射光和反射一级衍射光分别呈现不同的第二颜色和/或颜色变化，并且以第二光束L2照明条件下，在距离光学防伪元件一定距离的位置上一级衍射光呈现图像。
镀层207的另一种选择为由高折射率材料和低折射率材料交替形成的多层镀层。高折射率材料通常指折射率大于1.8的透明材料，比如ZnS、Bi2O3、HfO2、SnO2、TiO2等，低折射率材料通常指折射率小于1.8的透明材料，比如，SiO2、MgF、AL2O3等。该多层镀层设计为多层干涉膜，呈现某种颜色和/或(随观察角度的)颜色变化，这种颜色和/或颜色变化由该多层镀层的结构决定，即由层数、每一层的材料折射率及厚度决定。因此可以通过选择合适镀层结构匹配微浮雕结构区域101的微浮雕结构，达到增强或者改变微浮雕结构区域101的微浮雕结构颜色再现效果的目的。该多层镀层可以作为反射层，使光学防伪元件成为反射元件。由于该镀层是透明的，也可以使光学防伪元件成为透射元件。进一步，可以优化光学防伪元件的微浮雕结构区域101的微浮雕结构的槽型槽深、微浮雕结构204的材料折射率、功能层208材料折射率等参数，使得光学防伪元件的微浮雕结构区域101在第一复合色光束L1照明条件下，该微浮雕结构区域101的透视零级光和反射零级光分别呈现不同的第一颜色和/或颜色变化，透视一级衍射光和反射一级衍射光呈现不同的第二颜色和/或颜色变化，并且以第二光束L2照明条件下，在距离光学防伪元件一定距离的位置上一级衍射光再现图像。
镀层207的再一种选择为由金属材料形成反射层，使光学防伪元件成为反射元件。金属材料为金、银、铜、铝、镍、铬等，镀层厚度的范围可以为5nm至500nm。
镀层207的再一种选择为由吸收层/介质层/反射层三层结构。吸收层为2nm-10nm厚的金属层，反射层为5nm-500nm厚的金属层，金属材料为金、银、铜、铝、镍、铬等。构成介质层的材质为透明材料，比如SiO2、MgF、AL2O3、ZnS、Bi2O3、HfO2、SnO2、TiO2等，介质层的厚度的范围可以为50nm至2000nm。面对吸收层观察，该镀层呈现某种颜色和/或(随观察角度的)颜色变化，这种颜色和/或颜色变化由各层的材料及其厚度决定的。可以通过选择合适参数的镀层结构匹配微浮雕结构区域101的微浮雕结构204，达到增强或者改变微浮雕结构区域101的微浮雕结构204颜色再现效果的目的。当反射层比较薄时，比如5nm-10nm，反射层与吸收层的功能相同，从两面看都能观察到颜色和/或颜色变化，这种情况下该镀层是半透明的，透射观察会呈现另外一种不同的颜色和/或颜色变化。
镀层207的又一种选择为由吸收层/介质层/反射层/介质层/吸收层五层结构。吸收层为2nm-10nm厚的金属层，反射层为5nm-500nm厚的金属层，金属材料为金、银、铜、铝、镍、铬等。构成介质层的材质为透明材料，比如SiO2、MgF、AL2O3、ZnS、Bi2O3、HfO2、SnO2、TiO2等，介质层的厚度的范围可以为50nm至2000nm。这种五层结构从两面观察都能呈现颜色和/或颜色变化。通过该镀层结构与微浮雕结构区域101的微浮雕结构204的优化匹配设计，达到增强或者改变微浮雕结构区域101的微浮雕结构204颜色再现效果的目的，使得该微浮雕结构区域101从两面观察呈现相同或者不同的颜色和/或颜色变化效果。
在根据本发明的实施方式中，光学防伪元件可以为透射元件，即透射观察的光学防伪元件；也可以为反射元件，即反射观察的光学防伪元件；通过合理的设计，可以实现两面呈现不同的颜色特征的效果；还可以为反射/透射元件，即可以透射观察，也可以反射观察，通过合理的设计，可以实现反射和透射呈现相同的颜色特征和/或反射和透射呈现不同的颜色特征等效果。
在根据本发明的实施方式中，若光学防伪元件为透射元件，则其微浮雕结构的横截面为矩形结构，槽深的范围可以为400nm至2000nm，优选为600nm至1200nm。若光学防伪元件还可以为反射元件，则其微浮雕结构的横截面为矩形结构，槽深的范围可以为200nm至1000nm，优选为300nm至700nm。
在根据本发明的实施方式中，微浮雕结构204的设计以及制作方法包括以下步骤。首先确定微浮雕结构204的分布。设定要求再现的图像A、图像A到光学防伪元件的距离d，图像A的光波传播到光学防伪元件表面形成光分布A1，引入入射角为α的参考光B，参考光B与图像A的光波干涉在光学防伪元件表面形成干涉条纹。将干涉条纹的分布记录下来，形成光学防伪元件微浮雕结构204分布。其次，确定微浮雕结构204的槽深、槽型。设计方法如下：①表示出微浮雕结构204的复振幅透过率τg(对于反射结构为复振幅反射率)，τg为微浮雕结构204的深度t、设计波长λ、微浮雕结构的槽型、材料折射率分布n以及位置(x,y)的函数；②对复振幅透过率(反射结构的复振幅反射率)τg进行傅利叶变换；③找出波长为λ的零级衍射光(即零级透射光或零级反射光)最大条件，即波长为λ的光零级干涉相长条件；④根据零级衍射光最大条件计算微浮雕结构204的深度t。
在根据本发明的实施方式中，微浮雕结构204的分布决定再现图像A及再现图像A到光学防伪元件1的距离d，槽型、槽深决定零级光和衍射光的颜色及亮度。通常情况下，微浮雕结构204的周期的范围0.5μm至6μm，优选1μm至4μm，槽型优选横截面为矩形的结构，槽深t对于透射结构在400至2000nm，优选600至1200nm。对于反射结构200至1000nm，优选300至700nm。图像A到光学防伪元件的距离d较小时，比如只有几厘米，复色光(比如白光)照明光学防伪元件，一级衍射光呈现清晰的再现图像A，随着d的增大，再现图像A逐渐变模糊，以至于变成一团亮斑，这种情况下，改用单色光照明即可在一级衍射光重新呈现清晰的再现图像A。
光学防伪元件的制作方法包括：设计完成微浮雕结构204的分布、槽深和槽型，用这些参数控制e-beam制版设备、激光制版设备或者其他制版设备制作带有微浮雕结构204母版；用拼版、电铸等设备将微浮雕结构204复制在工作版上；用模压、UV复制等工艺将微浮雕结构204复制在微浮雕结构形成层203上；用蒸镀、涂布等工艺完成其他层的制作。
在根据本发明的实施方式中，光学防伪元件可以标识、烫印宽条、贴条、安全线等形式转移或粘贴到承载物上。这些承载物可以是钞票、证券、信用卡、护照等高安全产品，也可以是高附加值商品。
此外，根据本发明的实施方式还提供了一种光学防伪产品。该光学防伪产品包括上述实施方式中所述的光学防伪元件。
综上，通过设计光学防伪元件中的微浮雕结构，使得光束照射该微浮雕结构时，既能展现颜色和/或颜色变化，又能再现图像，使得防伪技术无法复制，满足了高安全产品的防伪要求。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (25)

1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：
基材；以及
位于所述基材的至少一个表面上的至少部分区域上的微浮雕结构；
所述微浮雕结构被定义为：在第一复合色光束照射所述微浮雕结构时，在透射和/或反射零级光方向上呈现第一颜色和/或颜色变化，在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现第二颜色和/或颜色变化；以及在第二光束照射所述微浮雕结构时，在距离所述光学防伪元件一距离的位置呈现图像。
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述在透射和/或反射一级衍射光方向上呈现的第二颜色和/或颜色变化为在透射和/或反射一级衍射光方向上在所述光学防伪元件表面或表面附近呈现的具有第二颜色和/或颜色变化的图像。
3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构包括凹陷或凸起结构，所述凹陷或凸起结构的周期的范围为0.5μm至6μm。
4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，所述凹陷或凸起结构的周期的范围为1μm至4μm。
5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括以下中的至少一者：
位于所述基材和所述微浮雕结构之间的第一功能层；
位于所述基材和所述微浮雕结构之间的用于形成所述微浮雕结构的微浮雕结构形成层。
6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：
形成在所述微浮雕结构上的覆盖层，所述覆盖层的材料是透明的且折射率与所述微浮雕结构的材料的折射率不同。
7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为400nm至2000nm。
8.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为600nm至1200nm。
9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：
形成在所述微浮雕结构上的覆盖层，所述覆盖层的材料为金属油墨或金属涂料。
10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述覆盖层的材料为纳米金属油墨或纳米金属涂料。
11.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为200nm至1000nm。
12.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为300nm至700nm。
13.根据权利要求6或9所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：
形成在所述覆盖层上的第二功能层。
14.根据权利要求1至4中任意一项所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：
至少部分覆盖所述微浮雕结构的镀层。
15.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镀层为单层镀层，所述镀层的材料为折射率大于1.8的透明材料，所述镀层的厚度的范围为5nm至500nm；或
所述镀层为由折射率大于1.8的透明材料和折射率小于1.8的透明材料交替形成的多层镀层。
16.根据权利要求15所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为400nm至2000nm。
17.根据权利要求15所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为600nm至1200nm。
18.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镀层为由金属材料形成的反射层，所述镀层的厚度的范围为5nm至500nm。
19.根据权利要求16所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为200nm至1000nm。
20.根据权利要求16所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微浮雕结构的深度的范围为300nm至700nm。
21.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镀层为吸收层/介质层/反射层三层结构，所述吸收层和所述反射层为金属层，所述介质层的材料为透明材料，所述吸收层的厚度的范围为2nm至10nm，所述反射层的厚度的范围为5nm至500nm，所述介质层的厚度的范围为50nm至2000nm。
22.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其特征在于，所述镀层为吸收层/介质层/反射层/介质层/吸收层五层结构，所述吸收层和所述反射层为金属层，所述介质层的材料为透明材料，所述吸收层的厚度的范围为2nm至10nm，所述反射层的厚度的范围为5nm至500nm，所述介质层的厚度的范围为50nm至2000nm。
23.根据权利要求14所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：形成在所述镀层上的至少局部透明的功能层。
24.根据权利要求2所述的光学防伪元件，其特征在于，所述具有第二颜色和/或颜色变化的图像或在距离所述光学防伪元件所述距离的位置呈现的图像为以下中的任意一者或任意组合：平面图像、立体图像、动感图像、变换图像。
25.一种应用根据权利要求1至24中任意一项所述的光学防伪元件的光学防伪产品。
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